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公开(公告)号：CN106990496A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710367035.2
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
CPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径光学元件的多力与力矩耦合面型精调系统，该系统包括支撑座、光学元件、基准板、八个力与力矩调整模块以及八个基准板安装螺钉；每一个力与力矩调整模块安装凹槽上有两个力与力矩调整模块安装台阶和两个力与力矩调整模块安装孔；力与力矩调整模块上有两个压紧单元，其中一个压紧单元与支撑光学元件的精密支撑平面的位置相对应，用于对光学元件施加正应力，另外一个压紧单元相对支撑光学元件的精密支撑平面向光学元件的外侧移动一段距离，用于对光学元件施加力矩。本发明采用简单易行的结构以多力和力矩相耦合的方式作为光学元件的支撑点，实现对大口径光学元件面型的精密调节。
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公开(公告)号：CN107121748B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201710367072.3
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径光学元件的微挠性结构宏微结合精调装置，该装置包括基板、光学元件、盖板、盖板螺钉和微挠性精调模块；光学元件通过其自身的正面与基板内的三个支撑面接触安装，盖板通过盖板螺钉将光学元件固定在底框内部，微挠性精调模块安装在盖板上，微挠性精调模块采用宏动调节和微动调节相结合的方式来进行光学元件面型的调节，采用弹簧作为宏动调节的主要零件实现对光学元件面型的初步调节，采用微挠性结构件作为微动调节的主要零件实现对光学元件面型的精确调节。本发明的微挠性结构件能够将运动输入的调整精度进行放大，使得微挠性结构件的输出调整精度大大提高，宏动调节过程和微动调节过程互不影响，具有较大的工程实用意义。
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公开(公告)号：CN107037558B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201710367052.6
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大径厚比光学元件的支撑系统和方法，该方法采用四个支撑点替代了常规的巨大环形支撑面对光学元件进行支撑，有效的利用了光学元件自身的重力来降低重力对光学元件面型的影响，在理论上实现了完全的自相互补偿。所提出的方法大大的降低的对于光学元件支撑表面的加工精度要求，减少了制造成本，提高了光学元件支撑系统工程实施过程的效率。支撑系统采用弧形面与平面之间的点接触对作为光学元件支撑模块的传递环节，能够自适应的将顶壳的上支撑表面调整到与光学元件下表面完全接触的状态，能够有效的减少支撑过程中对光学元件产生的局部应力集中，提高光学元件的面型精度。
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公开(公告)号：CN106990497A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710367045.6
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
CPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径光学元件的气囊均布载荷面型调整系统，该系统包括承载架、气囊模块、压力架、进气阀、排气阀、光学元件和中间架；所述光学元件位于承载架内部，承载架的口部依次安装中间架和压力架，中间架和压力架组合形成密闭的气道，所述气囊模块连接在中间架上并与气道相通，气囊模块与光学元件的表面相接触，气囊模块在光学元件的表面进行均匀布置，气囊模块内的气压通过进气阀和排气阀以及外围的气动辅助系统来实现可连续的调节，每个气囊模块与光学元件接触面积一定的情况下，通过调节气囊模块内部的气压就可以实现气囊模块对光学元件支撑力的连续可控调节。本发明采用简单易行的结构以具有较高柔性的气囊作为光学元件的支撑点，实现对大口径光学元件面型的优化控制。
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公开(公告)号：CN106970450A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710367089.9
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
CPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径光学元件的面形弹性调整装置，该装置包括底框、光学元件、压框、压紧螺钉和调整模块；光学元件通过其自身的迎光面与底框内的三个支撑面接触安装，压框通过压紧螺钉将光学元件固定在底框内部，调整模块安装在压框上，调整模块的运动执行部件中具有点接触的传动环节，调整模块的接触面与光学元件的背光面接触，调整模块在压紧过程只会对光学元件施加正向压力，调整模块在调节过程中的压紧力通过自身的力传感器及外部辅助系统进行实时的监测。本发明以各个作用点的微小压紧力作为系统的输出端，与实际使用过程中只要求保证高分辨率可调的压力而对运动部件分辨率没有要求的需求相符合，结构简单易行。
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公开(公告)号：CN106970449B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN201710367034.8
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径晶体光学元件面型预测与再现的调节系统和方法，调节系统包括矩形框、光学元件和组合模块；组合模块固定连接在矩形框上，光学元件通过组合模块固定连接在矩形框内部，光学元件的底面与组合模块的支撑梁接触面进行接触安装，光学元件的顶面与组合模块的压力施加面和力矩施加面进行接触安装；夹持点的夹持力和力矩的大小均可进行独立调节；组合模块的力矩施加过程采用浮动加载的结构，力矩调整的过程不会对光学元件和压力调整过程产生影响。本发明采用简单易行的结构以单点标定多点耦合计算方法和周向力和力矩调整方式为基础，实现对大口径光学元件面型的精密调节。
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公开(公告)号：CN107015336B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN201710367106.9
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种大径厚比光学元件的多功能夹持系统，该夹持系统包括元件框、光学元件、夹持模块和压紧螺钉；光学元件通过夹持模块的固定在元件框内，夹持模块通过压紧螺钉固定在元件框上，夹持模块通过夹持模块安装面与元件框固定连接，夹持模块的光学元件接触面与光学元件的表面接触并传递压力，夹持模块能够实现光学元件接触面相对于夹持模块安装面在X轴方向转动、Y轴方向转动以及Z轴方向平动三个自由度的自适应调节，进而保证夹持模块的光学元件接触面与光学元件时刻处于面接触的状态，有利于控制光学元件面型。
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公开(公告)号：CN106990497B
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN201710367045.6
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径光学元件的气囊均布载荷面型调整系统，该系统包括承载架、气囊模块、压力架、进气阀、排气阀、光学元件和中间架；所述光学元件位于承载架内部，承载架的口部依次安装中间架和压力架，中间架和压力架组合形成密闭的气道，所述气囊模块连接在中间架上并与气道相通，气囊模块与光学元件的表面相接触，气囊模块在光学元件的表面进行均匀布置，气囊模块内的气压通过进气阀和排气阀以及外围的气动辅助系统来实现可连续的调节，每个气囊模块与光学元件接触面积一定的情况下，通过调节气囊模块内部的气压就可以实现气囊模块对光学元件支撑力的连续可控调节。本发明采用简单易行的结构以具有较高柔性的气囊作为光学元件的支撑点，实现对大口径光学元件面型的优化控制。
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公开(公告)号：CN107121748A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201710367072.3
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
CPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大口径光学元件的微挠性结构宏微结合精调装置，该装置包括基板、光学元件、盖板、盖板螺钉和微挠性精调模块；光学元件通过其自身的正面与基板内的三个支撑面接触安装，盖板通过盖板螺钉将光学元件固定在底框内部，微挠性精调模块安装在盖板上，微挠性精调模块采用宏动调节和微动调节相结合的方式来进行光学元件面型的调节，采用弹簧作为宏动调节的主要零件实现对光学元件面型的初步调节，采用微挠性结构件作为微动调节的主要零件实现对光学元件面型的精确调节。本发明的微挠性结构件能够将运动输入的调整精度进行放大，使得微挠性结构件的输出调整精度大大提高，宏动调节过程和微动调节过程互不影响，具有较大的工程实用意义。
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公开(公告)号：CN107037558A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201710367052.6
申请日：2017-05-23
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B7/00
CPC分类号： G02B7/00
摘要： 本发明公开了一种大径厚比光学元件的支撑系统和方法，该方法采用四个支撑点替代了常规的巨大环形支撑面对光学元件进行支撑，有效的利用了光学元件自身的重力来降低重力对光学元件面型的影响，在理论上实现了完全的自相互补偿。所提出的方法大大的降低的对于光学元件支撑表面的加工精度要求，减少了制造成本，提高了光学元件支撑系统工程实施过程的效率。支撑系统采用弧形面与平面之间的点接触对作为光学元件支撑模块的传递环节，能够自适应的将顶壳的上支撑表面调整到与光学元件下表面完全接触的状态，能够有效的减少支撑过程中对光学元件产生的局部应力集中，提高光学元件的面型精度。
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