一种偏振消光棱镜消光比的测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107356409B

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201710544049.7

    申请日:2017-07-05

    Abstract: 本发明公开了一种偏振消光棱镜消光比的测量装置及测量方法,属于光学检测技术领域,其目的在于提供一种测量范围大的偏振消光棱镜消光比的测量装置及测量方法,不仅能测量消光比在10‑2‑10‑3量级的普通偏振片的消光比,还能对消光比低至10‑6量级的棱镜消光比进行测量。该测量装置、测量方法采用干涉的方法将垂直透射光强进行放大,可有效解决垂直透射光透射率太低无法准确测量的问题,通过对平行透射光进行衰减减小与垂直透射光光强之间的差距,解决了垂直透射和平行透射两光强差距太大超过探测器线性响应范围的问题。根据干涉信号的振幅分别得到垂直和平行透射光束的光强,再通过数据处理得到待测样品的消光比。

    透镜的透射率测试系统及方法

    公开(公告)号:CN105628346B

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201610208314.X

    申请日:2016-04-05

    Abstract: 本发明涉及光学领域,具体提供了一种透镜的透射率测试系统,所述系统包括测试光发生装置、光阑、光阑控制装置、积分球、光谱测试装置以及光谱分析装置,所述测试光发生装置用于提供测试光,所述光阑设置于所述测试光发生装置与所述积分球之间,所述光阑与所述积分球之间用于放置被测透镜,所述积分球的入光孔位于所述被测透镜的焦点位置,所述光阑控制装置用于控制所述光阑的移动以使所述测试光透过所述光阑的通光孔到所述被测透镜预定位置,所述光谱测试装置设置于所述积分球的出光孔方向,用于对所述积分球的输出光进行光谱测试,所述光谱分析装置与所述光谱测试装置电连接,用于对所述光谱测试装置获得的光谱进行光谱分析。

    大尺寸钕玻璃片透射波面误差检测夹具

    公开(公告)号:CN104608075B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201510070923.9

    申请日:2015-02-11

    CPC classification number: B25B5/003 B25B5/145 B25B11/00

    Abstract: 本发明公开了一种大尺寸钕玻璃片透射波面误差检测夹具,涉及专用夹具技术领域中的大尺寸钕玻璃片透射波面误差检测的夹持装置,其目的在于提供一种大尺寸钕玻璃片透射波面误差检测夹具,使其能够同时实现大尺寸钕玻璃片的安全夹持、摆放角度的调节方便快捷。包括底座,底座两侧连接有行走机构,底座顶面连接有底座转盘,底座转盘顶部连接有支撑架,支撑架可随底座转盘一起绕底座的轴线转动,支撑架顶面从左往右依次设置有工型左滑轨、底部凹形夹块和工型右滑轨,工型左滑轨上设置有可沿工型左滑轨长度方向移动的左支撑臂,左支撑臂上设置有左侧凹形夹块;工型右滑轨上设置有可沿工型右滑轨长度方向移动的右支撑臂,右支撑臂上设置有右侧凹形夹块。

    透射率分布测量系统及方法

    公开(公告)号:CN106970049B

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN201710340790.1

    申请日:2017-05-15

    Abstract: 本发明提供了一种透射率分布测量系统及方法,属于光电子技术领域。该系统包括出光装置、平移台、成像装置以及控制装置,平移台用于放置待测样品,平移台位于出光装置与成像装置之间,成像装置与控制装置耦合。当待测样品置于样品台上时,探测光产生装置发出的探测光束入射到待测样品的待测区域,透过待测样品的探测光束入射到成像装置,在成像装置中所成的像被转换为电信号发送给控制装置。控制装置处理该电信号得到该待测区域的透射图像,并根据该透射图像及基准图像得到该待测区域的透射率分布数据。这样能够有效地提高系统的采样率,减少检测时间,提高测量效率。

    一种偏振消光棱镜消光比的测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN107356409A

    公开(公告)日:2017-11-17

    申请号:CN201710544049.7

    申请日:2017-07-05

    CPC classification number: G01M11/00

    Abstract: 本发明公开了一种偏振消光棱镜消光比的测量装置及测量方法,属于光学检测技术领域,其目的在于提供一种测量范围大的偏振消光棱镜消光比的测量装置及测量方法,不仅能测量消光比在10-2-10-3量级的普通偏振片的消光比,还能对消光比低至10-6量级的棱镜消光比进行测量。该测量装置、测量方法采用干涉的方法将垂直透射光强进行放大,可有效解决垂直透射光透射率太低无法准确测量的问题,通过对平行透射光进行衰减减小与垂直透射光光强之间的差距,解决了垂直透射和平行透射两光强差距太大超过探测器线性响应范围的问题。根据干涉信号的振幅分别得到垂直和平行透射光束的光强,再通过数据处理得到待测样品的消光比。

    透射率分布测量系统及方法

    公开(公告)号:CN106970049A

    公开(公告)日:2017-07-21

    申请号:CN201710340790.1

    申请日:2017-05-15

    CPC classification number: G01N21/59

    Abstract: 本发明提供了一种透射率分布测量系统及方法,属于光电子技术领域。该系统包括出光装置、平移台、成像装置以及控制装置,平移台用于放置待测样品,平移台位于出光装置与成像装置之间,成像装置与控制装置耦合。当待测样品置于样品台上时,探测光产生装置发出的探测光束入射到待测样品的待测区域,透过待测样品的探测光束入射到成像装置,在成像装置中所成的像被转换为电信号发送给控制装置。控制装置处理该电信号得到该待测区域的透射图像,并根据该透射图像及基准图像得到该待测区域的透射率分布数据。这样能够有效地提高系统的采样率,减少检测时间,提高测量效率。

    反射率分布测量系统及方法

    公开(公告)号:CN106970047A

    公开(公告)日:2017-07-21

    申请号:CN201710333688.9

    申请日:2017-05-12

    CPC classification number: G01N21/55

    Abstract: 本发明提供了一种反射率分布测量系统及方法,属于光电子技术领域。该系统包括探测光产生装置、样品台、成像装置以及控制装置。样品台用于放置待测样品,成像装置位于样品台上放置的待测样品对于探测光产生装置发出的探测光束的反射光传播路径中,成像装置与控制装置耦合。当待测样品置于样品台上时,探测光产生装置发出的探测光束入射到待测样品表面的待测区域,由待测样品反射的探测光束入射到成像装置,在成像装置中所成的像被转换为电信号发送给控制装置。控制装置处理该电信号得到待测区域的反射图像,并根据该反射图像及基准图像得到该待测区域的反射率分布数据。这样能够有效地提高系统的采样率,减少检测时间,提高测量效率。

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