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公开(公告)号：CN118641553A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410876109.5
申请日：2024-07-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/95
Abstract: 本发明公开了一种基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，按照以下步骤进行：S1、使用弱相干干涉光谱成像装置采集光学元件的原始干涉光谱信号；S2、得到空间强度结构图像；S3、根据空间强度结构图像，得到强度结构投影图像；S4、得到缺陷纹理特征；S5、得到光谱曲线；S6、结合步骤S4中得到的缺陷纹理特征和步骤S5中得到的光谱曲线，对不同类型缺陷进行区分。采用本发明公开的基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，突破了现有暗场和明场图像检测区分损伤坑缺陷的局限性，实现了光学元件缺陷分类，能够有效区分小尺度损伤坑及表面污染颗粒，从而实现高灵敏度检测，避免出现漏修复与错修复的问题。
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公开(公告)号：CN117724196A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311742485.7
申请日：2023-12-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/11 , G02B1/115 , G02B1/14 , C01G25/02 , C01B33/145
Abstract: 本发明涉及光学薄膜技术领域，提供了一种耐磨高透光学薄膜及其制备方法。本发明采用化学液相成膜的技术，使用氧化锆溶胶镀制内层膜，采用酸催化二氧化硅溶胶镀制外层膜，所得双层膜体系即为本发明的耐磨高透光学薄膜，该光学薄膜既具有很好的耐摩擦性，又能达到近100％的峰值透射率；并且，通过调节内外层膜的厚度，可以实现对膜层透射峰位的控制，以满足从紫外到近红外不同波段的减反需求。综上所述，本发明的方法可在基底上制备从紫外到近红外波段峰值透射率接近100％的减反薄膜，且薄膜具有优异的耐摩擦性，在保证膜层光谱性能的同时，大幅提升了膜层的环境适应性。
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公开(公告)号：CN108710163B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201810436156.2
申请日：2018-05-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/10 , G02B1/14 , C09D129/04
Abstract: 一种熔石英表面镀聚乙烯醇涂层、制备方法以及应用，本发明属于光学材料制备技术领域，包括：用孔径为0.15‑0.30μm的PVDF过滤头对质量百分比为0.5％‑5％的聚乙烯醇水溶液进行过滤，最后冷却待用；通过旋涂或提拉镀膜的方式将所述聚乙烯醇镀制在表面整洁的熔石英基片后表面，干燥后得到聚乙烯醇涂层。这种聚乙烯醇涂层能够将最高电场强度的分布从熔石英后表面转移到涂层上，从而降低熔石英后表面的电场强度，其在紫外波段的激光损伤阈值提高10‑20％。这种方法工艺简单，条件温和，易于控制，成本低廉，环境友好，在光学材料领域具有良好的应用前景。
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公开(公告)号：CN118307218A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410429105.2
申请日：2024-04-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜的制备方法，包括：对柔性玻璃基底进行清洗；使用碱催化二氧化硅溶胶，在清洗的柔性玻璃基底表面涂制内层膜；在内层膜表面制备非晶全氟聚合物，由此得到可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜。本发明制备的可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜应用于激光打靶中的靶丸碎片防护，本发明制备出的可卷绕激光靶碎片屏蔽防护膜既具备接近99％的三倍频峰值透过率，又具有很好的耐摩擦挤压性能，同时又能达到超过12J/cm2的激光损伤阈值，在保证光谱性能的同时，大幅提升了膜层的环境适应性。
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公开(公告)号：CN117310848A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311266562.6
申请日：2023-09-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及光学薄膜技术领域，提供了一种折射率可调二氧化硅光学薄膜的制备方法。本发明采用酸为稳定剂，通过加入酸将碱性二氧化硅溶胶的Zeta电位由负电位转变为正电位，之后再和酸性二氧化硅溶胶混合，能够提高酸碱混合二氧化硅溶胶的稳定性，延长其使用寿命。并且，由本发明的酸碱混合二氧化硅溶胶涂膜得到的二氧化硅光学薄膜，折射率可调范围宽，调节范围为1.10～1.44，不仅可以满足折射率为1.21至2.07的光学基底上单层减反膜的制备需求，还可用作多层膜的折射率匹配层，大大拓展了多层膜的光学设计范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116375350A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310413943.6
申请日：2023-04-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种高抗激光损伤性能的石英表面制备方法，包括以下步骤：先对石英基片进行刻蚀处理；其后再对所述石英基片进行Marangoni干燥处理；最后再对所述石英基片进行二氧化碳激光热处理；通过刻蚀能够有效去除石英表面的抛光残留物和亚表面缺陷层等低通量损伤前驱体，但同时也会引入高通量前驱体，比如痕量的无机盐和有机物类沉积物；而后利用Marangoni干燥大幅降低残留液膜厚度实现无机盐类沉积物的有效抑制；再利用二氧化碳激光热处理实现对有机物类沉积物的热降解，进而获得具有高抗激光损伤性能的石英表面。
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公开(公告)号：CN119510361A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411673582.X
申请日：2024-11-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请公开了一种基于二氧化硅薄膜的兆声清洗效果评估方法，涉及兆声清洗效果评估领域，该方法包括：制备二氧化硅薄膜样品；将所述二氧化硅薄膜样品放置于兆声清洗槽中进行兆声清洗；获取二氧化硅薄膜样品清洗前后的表征数据；根据二氧化硅薄膜样品清洗前后的表征数据对兆声清洗效果进行评估。本申请能够低成本、快捷、精准的评估兆声清洗效果。
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公开(公告)号：CN117571619A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311687068.7
申请日：2023-12-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法，其中光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统包括光学相干层析成像装置、激光泵浦装置和信号处理与控制模块。采用以上技术方案的一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法，利用激光泵浦配合光学相干层析成像，实现了对光学元件表面热敏性缺陷的快速检测，具备快速、无损、微米级高分辨结构成像、纳米级高精度相位探测等优点，突破传统热敏性缺陷检测手段“检测精度与检测效率不可兼得”的技术瓶颈，同时能够采集光学元件的三维结构图像和相位信息，从而可以获取热敏性缺陷在光学元件中包括深度位置信息在内的精准三维位置信息。
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公开(公告)号：CN108455870A
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201810342443.7
申请日：2018-04-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00 , C03C17/245
Abstract: 本发明涉及光学材料领域，具体而言，涉及一种石英以及增加石英抗激光损伤性能的方法。增加石英抗激光损伤性能的方法，包括以下步骤：对石英基片进行刻蚀处理后在所述石英基片上沉积二氧化硅；在沉积所述二氧化硅的同时，对沉积的所述二氧化硅进行熔融。其通过刻蚀能够将较小的微裂纹完全去除，同时能将较大的微裂纹完全暴露并钝化裂纹尖端，便于后续熔覆过程对微裂纹的填补和修复。而后利用熔融沉积的二氧化硅的流动性修复填补裂纹，从而提高熔石英的机械性能并最终提升其抗激光损伤性能。同时，大面积均匀的沉积和熔覆玻璃涂层，使得熔石英整个表面具有较好的面型。
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公开(公告)号：CN119023701B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411497463.3
申请日：2024-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/95 , G01N21/88 , G01N21/552 , G01N21/31
Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，涉及光学元件检测领域，包括：S1、基于微区受抑全反射成像原理，采用EMCCD在受抑全反射条件下扫描标准玻片上的探针光倏逝波图像Ⅰ；S2、在探针光倏逝波图像Ⅰ采集之后或之前，扫描未泵浦条件下元件表面的探针光倏逝波图像Ⅱ；S3、基于设定坐标及路径，完成对待测光学元件全口径范围内的扫描；S4、将各探针光倏逝波图像Ⅰ、各探针光倏逝波图像Ⅱ分别进行拼接、对比，得到光学元件全口径范围内吸收性缺陷的相对光吸收强度。本发明提供一种光学元件表面吸收性缺陷的检测方法及检测系统，能在高效率的情况下，保证高灵敏度的检测效果。
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