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公开(公告)号:CN103796746A
公开(公告)日:2014-05-14
申请号:CN201280044311.7
申请日:2012-09-11
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: B01J8/24
CPC classification number: B01F3/068 , B01F2003/063 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/40 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/15 , Y10T137/87652
Abstract: 在反应容器内,设有处理用空间。在反应容器的下端部,设有一个气体导入口。在一个气体导入口,安装有分散板。在反应容器的下部侧面,设有另一个气体导入口。在反应容器内的分散板上,容纳作为被处理物的粉体。分散板构成为气体能够通过且粉体不能通过。氮气从一个气体导入口通过分散板而导入处理用空间,并且,处理用气体从另一气体导入口不通过分散板就导入处理用空间。
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公开(公告)号:CN101248216B
公开(公告)日:2010-06-16
申请号:CN200680030920.1
申请日:2006-06-28
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 一种氟系气体产生装置,在具备阳极室和阴极室的电解槽内具有由含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解浴,通过对前述电解浴进行电解来产生含氟的气体,该氟系气体产生装置具有:原料供给配管,在前述电解槽中到达电解浴中,用于供给电解用原料;常闭型阀,设置在前述原料供给配管的中途;和设置有常开型阀的迂回用配管,将比前述常闭型阀靠向下游侧的前述原料供给配管与前述电解槽的气相部分连接。由此,电解浴不会被吸入到氟系气体产生装置的原料供给配管内,可事先防止在原料供给配管内发生固化。
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公开(公告)号:CN102834549B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201180018767.1
申请日:2011-03-23
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 从设置于阳极室的液面传感器向控制装置提供输出信号。该输出信号表示阳极室内的电解浴的液面高度是否高于基准高度。控制装置在阳极室内的电解浴的液面高度高于基准高度时令变换器回路中产生的压气机的驱动电压的频率上升既定值的量。由此,压气机所配备的马达的旋转速度上升,从压气机排出的氢气的排出压上升,阴极室内的压力下降。其结果,阴极室内的电解浴的液面高度上升并且阳极室内的电解浴的液面高度变得低于基准高度。
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公开(公告)号:CN1661134A
公开(公告)日:2005-08-31
申请号:CN200410081825.7
申请日:2004-12-17
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 本发明提供一种气体生成装置,通过延长过滤器的使用寿命而能够长时间保护压力调整阀。本发明的气体生成装置是一种将电解槽内的电解液电解生成气体的气体生成装置,包括:将从气体生成装置中生成的不要成分除去的除去塔,将从上述除去塔排放的雾沫除去的过滤器,以及调整上述电解槽内的压力的压力调整阀,上述过滤器插入上述除去塔的下游,上述压力调整阀配置在上述过滤器的下游。
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公开(公告)号:CN102812161B
公开(公告)日:2015-09-09
申请号:CN201180016695.7
申请日:2011-03-18
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 一种氟气产生装置,具有电解槽。在电解槽内形成电解浴。在阴极室内设置阴极,在阳极室内设置阳极。通过向阴极以及阳极之间施加电压而进行HF(氟化氢)的电解。从电解槽的阴极主要产生氢气,从阳极主要产生氟气。设置有两个用于加热填充于HF吸附塔的NaF颗粒的加热炉。在各加热炉内设置两个HF吸附塔。
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公开(公告)号:CN103764267A
公开(公告)日:2014-04-30
申请号:CN201280042265.7
申请日:2012-08-28
Applicant: 东洋炭素株式会社
CPC classification number: B01J8/10 , B01F3/06 , B01F9/001 , B01F9/0016 , B01F9/06 , B01F2003/063 , B01J2/12 , B01J2/18 , B01J8/002 , B01J8/008 , B01J8/085 , B01J8/087 , B01J8/16 , B01J19/28 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00858 , B01J2219/00761
Abstract: 粉体搅拌装置包含反应容器以及旋转驱动装置。反应容器具有圆筒形状的外周壁以及一对端面壁。在外周壁的一端以及另一端分别设有端面壁。反应容器以外周壁的轴心与水平方向平行的方式配置于隔热盖内。外周壁具有关于该轴心而旋转对称的内周面。在粉体处理时,粉体容纳在反应容器内,反应容器利用旋转驱动装置而绕通过外周壁轴心的旋转轴旋转。在该状态下,对反应容器内供给处理气体。另外,排出反应容器内的处理气体。
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公开(公告)号:CN101942670A
公开(公告)日:2011-01-12
申请号:CN201010275685.2
申请日:2004-12-17
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 本发明提供一种气体生成装置,通过延长过滤器的使用寿命而能够长时间保护压力调整阀。本发明的气体生成装置是一种将电解槽内的电解液电解生成气体的气体生成装置,包括:将从气体生成装置中生成的不要成分除去的除去塔,将从上述除去塔排放的雾沫除去的过滤器,以及调整上述电解槽内的压力的压力调整阀,上述过滤器插入上述除去塔的下游,上述压力调整阀配置在上述过滤器的下游。
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公开(公告)号:CN101959594B
公开(公告)日:2014-11-05
申请号:CN200980107772.2
申请日:2009-03-06
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: B01J19/00 , B01D53/68 , C08J7/12 , C23C8/08 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/6719 , B01J4/008 , H01L21/67017 , H01L21/67109
Abstract: 本发明的表面处理装置(100)具备:稀释气体供给装置(1),氟气供给装置(2),混合稀释气体与氟气的混合器(5),以及采用由混合器(5)生成的混合气体对被处理物进行处理的反应器(6)。由加热器(8)对从稀释气体供给装置供给的稀释气体进行加热,在混合器(5)中混合加热后的稀释气体与从氟气供给装置供给的氟气。混合后的气体向反应器(6)输送。反应器(6)内的气体通过排气装置(207)从反应器(6)导向流路(219、220、221、222)。阀(223、224、225、226)依次打开,通过使用流路(219、220、221、222),一边调整反应器(6)内的气体的流量一边将反应器(6)内的气体向除害装置(208)输送。
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公开(公告)号:CN101959594A
公开(公告)日:2011-01-26
申请号:CN200980107772.2
申请日:2009-03-06
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: B01J19/00 , B01D53/68 , C08J7/12 , C23C8/08 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/6719 , B01J4/008 , H01L21/67017 , H01L21/67109
Abstract: 本发明的表面处理装置(100)具备:稀释气体供给装置(1),氟气供给装置(2),混合稀释气体与氟气的混合器(5),以及采用由混合器(5)生成的混合气体对被处理物进行处理的反应器(6)。由加热器(8)对从稀释气体供给装置供给的稀释气体进行加热,在混合器(5)中混合加热后的稀释气体与从氟气供给装置供给的氟气。混合后的气体向反应器(6)输送。反应器(6)内的气体通过排气装置(207)从反应器(6)导向流路(219、220、221、222)。阀(223、224、225、226)依次打开,通过使用流路(219、220、221、222),一边调整反应器(6)内的气体的流量一边将反应器(6)内的气体向除害装置(208)输送。
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公开(公告)号:CN105236084A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201510565014.2
申请日:2012-08-28
Applicant: 东洋炭素株式会社
CPC classification number: B01J8/10 , B01F3/06 , B01F9/001 , B01F9/0016 , B01F9/06 , B01F2003/063 , B01J2/12 , B01J2/18 , B01J8/002 , B01J8/008 , B01J8/085 , B01J8/087 , B01J8/16 , B01J19/28 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00858 , B01J2219/00761
Abstract: 粉体搅拌装置包含反应容器以及旋转驱动装置。反应容器具有圆筒形状的外周壁以及一对端面壁。在外周壁的一端以及另一端分别设有端面壁。反应容器以外周壁的轴心与水平方向平行的方式配置于隔热盖内。外周壁具有关于该轴心而旋转对称的内周面。在粉体处理时,粉体容纳在反应容器内,反应容器利用旋转驱动装置而绕通过外周壁轴心的旋转轴旋转。在该状态下,对反应容器内供给处理气体。另外,排出反应容器内的处理气体。
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