金属图案化用材料、胺化合物及电子设备、以及金属图案的形成方法

    公开(公告)号:CN116157382A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202180055336.6

    申请日:2021-08-11

    Abstract: 本发明提供一种耐热性优异、抑制了金属薄膜向膜表面形成的金属图案化用材料、胺化合物、使用它们的金属图案的形成方法及电子设备。使用一种金属图案化用材料,其是在分子内具有芳环和/或杂芳环、氟原子和至少1个叔胺,芳环为选自由单芳环、联芳环、以及碳原子数为6以上且15以下的稠芳环组成的组中的至少1种,不具有碳原子数为16以上的稠芳环,形成芳环的碳原子数、以及形成杂芳环的碳原子数中,与氟原子直接结合的碳原子数的比例为10%以上,分子量为500以上且3000以下,玻璃化转变温度为60℃以上的化合物。

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