公开(公告)号：CN118696625A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202380021052.4

申请日：2023-02-09

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 川岛弘之 ,  小池健仁 ,  松本直树 ,  野村真太朗 ,  太田惠理子 ,  服部一希

IPC: H10K85/60 ,  C07D251/34 ,  C07D401/04 ,  H01L21/3065 ,  H10K50/805 ,  H10K50/81 ,  H10K71/60 ,  H10K102/20

Abstract: 本发明提供一种能够高度地抑制在膜表面形成金属薄膜的金属图案化用材料、杂环化合物、使用了它们的金属图案化用薄膜、有机电致发光元件、金属图案的形成方法及电子设备。一种金属图案化用材料，其由式(A1)或(B1)表示，式中，A各自独立地表示N或CR，至少一个为N，至少一个为CR；B表示N、NR、S、O或CR，至少一个为N、S或O，至少一个为CR。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117044428A

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN202280021378.2

申请日：2022-03-31

Applicant: 东曹株式会社

Inventor： 平野雅也 ,  松本直树 ,  新屋宏和 ,  野村真太朗 ,  川岛弘之 ,  小池健仁

IPC: H10K85/60 ,  H10K50/17 ,  H10K50/15

Abstract: 本发明提供一种抑制有机电致发光元件的横向电流的横向电流抑制材料、咔唑化合物、使用它们的空穴注入层、及驱动电压、发光效率、耐久性优异且横向电流少的有机电致发光元件。一种式(1)所表示的有机电致发光元件用的横向电流抑制材料[式(1)中，A由下述式(2)或(3)表示，B由下述式(4)表示]。#imgabs0#