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公开(公告)号:CN116157382A
公开(公告)日:2023-05-23
申请号:CN202180055336.6
申请日:2021-08-11
Applicant: 东曹株式会社
IPC: C07C211/56
Abstract: 本发明提供一种耐热性优异、抑制了金属薄膜向膜表面形成的金属图案化用材料、胺化合物、使用它们的金属图案的形成方法及电子设备。使用一种金属图案化用材料,其是在分子内具有芳环和/或杂芳环、氟原子和至少1个叔胺,芳环为选自由单芳环、联芳环、以及碳原子数为6以上且15以下的稠芳环组成的组中的至少1种,不具有碳原子数为16以上的稠芳环,形成芳环的碳原子数、以及形成杂芳环的碳原子数中,与氟原子直接结合的碳原子数的比例为10%以上,分子量为500以上且3000以下,玻璃化转变温度为60℃以上的化合物。
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公开(公告)号:CN113166098A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN201980078719.8
申请日:2019-11-29
Applicant: 东曹株式会社 , 公益财团法人相模中央化学研究所
IPC: C07D401/10 , C07D407/10 , C07D407/14 , C07D409/14 , H01L51/50 , C07D251/24
Abstract: 提供有助于形成发挥高发光效率和长寿命特性的有机电致发光元件且具有高玻璃化转变温度的三嗪化合物、包含该三嗪化合物的有机电致发光元件用材料和有机电致发光元件。式(1)所示的特定结构的三嗪化合物。
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公开(公告)号:CN118696625A
公开(公告)日:2024-09-24
申请号:CN202380021052.4
申请日:2023-02-09
Applicant: 东曹株式会社
IPC: H10K85/60 , C07D251/34 , C07D401/04 , H01L21/3065 , H10K50/805 , H10K50/81 , H10K71/60 , H10K102/20
Abstract: 本发明提供一种能够高度地抑制在膜表面形成金属薄膜的金属图案化用材料、杂环化合物、使用了它们的金属图案化用薄膜、有机电致发光元件、金属图案的形成方法及电子设备。一种金属图案化用材料,其由式(A1)或(B1)表示,式中,A各自独立地表示N或CR,至少一个为N,至少一个为CR;B表示N、NR、S、O或CR,至少一个为N、S或O,至少一个为CR。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN113166098B
公开(公告)日:2024-12-13
申请号:CN201980078719.8
申请日:2019-11-29
Applicant: 东曹株式会社 , 公益财团法人相模中央化学研究所
IPC: C07D401/10 , C07D407/10 , C07D407/14 , C07D409/14 , H10K85/60 , H10K50/11 , H10K50/16 , H10K50/17 , C07D251/24
Abstract: 提供有助于形成发挥高发光效率和长寿命特性的有机电致发光元件且具有高玻璃化转变温度的三嗪化合物、包含该三嗪化合物的有机电致发光元件用材料和有机电致发光元件。式(1)所示的特定结构的三嗪化合物。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN117044428A
公开(公告)日:2023-11-10
申请号:CN202280021378.2
申请日:2022-03-31
Applicant: 东曹株式会社
Abstract: 本发明提供一种抑制有机电致发光元件的横向电流的横向电流抑制材料、咔唑化合物、使用它们的空穴注入层、及驱动电压、发光效率、耐久性优异且横向电流少的有机电致发光元件。一种式(1)所表示的有机电致发光元件用的横向电流抑制材料[式(1)中,A由下述式(2)或(3)表示,B由下述式(4)表示]。#imgabs0#
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