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公开(公告)号：CN109298001B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201710612023.1
申请日：2017-07-25
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: G01N23/2206 , G01N23/203
Abstract: 本公开提供一种用于图像采集的电子束成像模块、电子束检测设备、以及利用上述电子束检测设备的图像采集方法。本公开的总体思路在于，通过将整体视场分层级划分为多个面积较小的子视场(CFOV)，并且采集这些子视场的图像，继而拼接这些图像、以及后续通过校正和积分平均化至少部分地去除甚至完全消除小视场之间的重叠，来合成全景图像。在子视场和全景视场的扫描中，采用至少一组偏转器来进行电子束的移位。本公开不仅实现了高速且精确的电子束扫描，而且实现了大视场电子束图像的成像。
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公开(公告)号：CN105702597B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201610082232.5
申请日：2016-02-05
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明公开一种检测系统。根据本发明一方面，检测系统包括多工作台或多腔体，其中腔体或工作台(N≥2)被布置成形成一个或多个路线用于晶片或掩模的检测。每个腔体中(或在每个工作台)的检测流程通过其在路线中的次级和所用的相对镜筒确定。对于具有N个腔体或工作台的系统，可以同时处理最大数量N个晶片或掩模。
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公开(公告)号：CN109298001A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201710612023.1
申请日：2017-07-25
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: G01N23/2206 , G01N23/203
Abstract: 本公开提供一种用于图像采集的电子束成像模块、电子束检测设备、以及利用上述电子束检测设备的图像采集方法。本公开的总体思路在于，通过将整体视场分层级划分为多个面积较小的子视场(CFOV)，并且采集这些子视场的图像，继而拼接这些图像、以及后续通过校正和积分平均化至少部分地去除甚至完全消除小视场之间的重叠，来合成全景图像。在子视场和全景视场的扫描中，采用至少一组偏转器来进行电子束的移位。本公开不仅实现了高速且精确的电子束扫描，而且实现了大视场电子束图像的成像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105719982A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610082472.5
申请日：2016-02-05
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01J37/20 , G03F1/86 , G03F7/7065 , H01J37/18 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/063 , H01J2237/18 , H01J2237/2002 , H01J2237/2007 , H01J2237/202 , H01J2237/20292 , H01J2237/24571 , H01J2237/2817 , H01L22/12
Abstract: 本发明公开一种检测系统。根据本发明一方面，检测系统包括：感测机构的多个镜筒；移动机构，用以在感测机构的多个镜筒下定位样品；和控制器，执行配置用以将所述镜筒配置成根据功能、权重和性能中的至少一种执行一种类型检测使得所述多个镜筒以适应的方式用于感测被检测的样品的模块。检测系统的感测机构的多个镜筒配置由不同的功能、权重和性能以检测样品，从而显著地减少如果相同地应用全部镜筒时所需的时间。
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公开(公告)号：CN115575411A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211188801.6
申请日：2022-09-28
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
Abstract: 本申请提供了一种晶片的缺陷检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质。该晶片的缺陷检测方法，包括：获取晶片的表面的结构特征信息；根据结构特征信息，对晶片的表面进行区域划分，并分别确定划分后的不同区域的结构标识信息；根据不同区域的结构标识信息，分别确定与不同区域匹配的缺陷检测策略；基于缺陷检测策略对晶片进行检测。根据本申请实施例，可以调和晶片上不同区域对检测灵敏度的要求。
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公开(公告)号：CN105702597A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610082232.5
申请日：2016-02-05
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01J37/265 , G03F1/86 , G03F7/7065 , H01J2237/202 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L22/10
Abstract: 本发明公开一种检测系统。根据本发明一方面，检测系统包括多工作台或多腔体，其中腔体或工作台(N≥2)被布置成形成一个或多个路线用于晶片或掩模的检测。每个腔体中(或在每个工作台)的检测流程通过其在路线中的次级和所用的相对镜筒确定。对于具有N个腔体或工作台的系统，可以同时处理最大数量N个晶片或掩模。
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公开(公告)号：CN110770874B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN201880027570.6
申请日：2018-02-28
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: H01J37/256
Abstract: 一种使用多束成像系统对衬底表面成像的方法，包括：使用多极场装置修改电子束；使用具有多个孔的分束装置从电子束生成小束；响应于将小束的焦点投射到表面上，使用偏转器组驱动小束以扫描表面区域以基于从该区域散射的电子接收信号；以及基于所述信号确定用于检查的区域的图像。多束成像系统包括：电子源；用于束成形和束畸变校正的第一多极场装置；分束装置；投射透镜组；偏转器组；物镜组；检测器阵列；第二多极场装置；处理器；以及存储器，存储用于基于所述信号确定用于检查的区域的图像的指令。
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公开(公告)号：CN110770874A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880027570.6
申请日：2018-02-28
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC: H01J37/256
Abstract: 一种使用多束成像系统对衬底表面成像的方法，包括：使用多极场装置修改电子束；使用具有多个孔的分束装置从电子束生成小束；响应于将小束的焦点投射到表面上，使用偏转器组驱动小束以扫描表面区域以基于从该区域散射的电子接收信号；以及基于所述信号确定用于检查的区域的图像。多束成像系统包括：电子源；用于束成形和束畸变校正的第一多极场装置；分束装置；投射透镜组；偏转器组；物镜组；检测器阵列；第二多极场装置；处理器；以及存储器，存储用于基于所述信号确定用于检查的区域的图像的指令。
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