公开(公告)号：CN108242390A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201711445960.9

申请日：2017-12-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 米川裕基 ,  高桥周平 ,  立花康三 ,  西村英树

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/02019

Abstract: 本发明涉及基板处理方法和基板处理装置，使图案的上下方向上的蚀刻量的均匀性提高。基板处理方法包括蚀刻工序、温度差形成工序、清洗工序。蚀刻工序对在第一面形成有图案的基板的第一面供给蚀刻液来蚀刻图案。温度差形成工序与蚀刻工序并行地进行，使图案的下部的温度比图案的上部的温度低。清洗工序对蚀刻工序后的第一面供给清洗液，由此将残留于图案的蚀刻液置换为清洗液。

公开(公告)号：CN116344385A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202211609815.0

申请日：2022-12-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 高桥周平

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：腔室，其用于收容基板；供气部，其向腔室内供给气体；排气部，其设置有排气调节机构且对腔室内进行排气；压力测定部，其测定腔室的内压；以及控制部，其基于压力测定部的测定结果控制排气调节机构，其中，供气部具有：供气流路，其具有用于取入空气的入口和向腔室内开口的出口，用于将经由入口从腔室的外部的空间取入的吸入空气经由出口供给到腔室内；过滤器，其设置于供气流路，用于在吸入空气被供给到腔室内之前从吸入空气中去除微粒；鼓风机，其设置于供气流路，用于形成从入口朝向出口流动的吸入空气的气流；以及吸气阀，其在鼓风机的上游侧调节向鼓风机导入的吸入空气的流量。

公开(公告)号：CN108242390B

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN201711445960.9

申请日：2017-12-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 米川裕基 ,  高桥周平 ,  立花康三 ,  西村英树

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基板处理方法和基板处理装置，使图案的上下方向上的蚀刻量的均匀性提高。基板处理方法包括蚀刻工序、温度差形成工序、清洗工序。蚀刻工序对在第一面形成有图案的基板的第一面供给蚀刻液来蚀刻图案。温度差形成工序与蚀刻工序并行地进行，使图案的下部的温度比图案的上部的温度低。清洗工序对蚀刻工序后的第一面供给清洗液，由此将残留于图案的蚀刻液置换为清洗液。

公开(公告)号：CN118335649A

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202311843451.7

申请日：2023-12-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 木下贵文 ,  伊藤优树 ,  齐木大辅 ,  桥本知幸 ,  天野嘉文 ,  相浦一博 ,  藤田阳 ,  高桥周平

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02 ,  B08B13/00 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08

Abstract: 本公开说明能够抑制异物的相对于基板的周缘部的上表面的附着的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备支承部、供给部、环状构件、旋转部、罩构件、以及配置于罩构件的上方的环状的整流构件。环状构件包括倾斜面，该倾斜面在环状构件的径向上随着向环状构件的中心侧去而向下方倾斜。整流构件包括：基座部；以及突出部，其与支承于支承部的基板的周缘部相对，并且自基座部朝向基板的周缘部突出。突出部在从上下方向观察时与支承部重叠。突出部的下表面位于比支承于支承部的基板的上表面靠上方且是比环状构件的上表面靠下方的位置。突出部的内周面随着自上方向下方去而朝向径向外方倾斜。