知搜-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

9 records (took 0.018 seconds)

    成膜装置和成膜方法
    1.
    发明授权
    成膜装置和成膜方法 有权

    公开(公告)号：CN101365823B

    公开(公告)日：2012-07-18

    申请号：CN200780002035.7

    申请日：2007-06-19

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 掛川崇

    IPC: C23C16/455 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

    CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/34 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45572 ,  C23C16/45574 ,  H01L21/28562 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/76841

    Abstract: 本发明提供一种成膜装置，其特征在于，包括：腔室，其区分用于对基板实施成膜处理的处理空间；平台，其设置于上述腔室内，用于载置上述基板；基板用加热单元，其设置于上述平台上，用于对上述基板进行加热；喷头，其与上述平台相对设置，且具有多个气体喷出孔；气体供给机构，其通过上述喷头向上述腔室内供给处理气体；冷却单元，其设置于上述喷头的上方，对该喷头进行冷却；和喷头用加热单元，其设置于上述冷却单元的上方，隔着该冷却单元对上述喷头进行加热。

    成膜装置和成膜方法
    2.
    发明公开
    成膜装置和成膜方法 有权

    公开(公告)号：CN101365823A

    公开(公告)日：2009-02-11

    申请号：CN200780002035.7

    申请日：2007-06-19

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 掛川崇

    IPC: C23C16/455 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285

    CPC classification number: C23C16/4557 ,  C23C16/34 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45572 ,  C23C16/45574 ,  H01L21/28562 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/76841

    Abstract: 本发明提供一种成膜装置，其特征在于，包括：腔室，其区分用于对基板实施成膜处理的处理空间；平台，其设置于上述腔室内，用于载置上述基板；基板用加热单元，其设置于上述平台上，用于对上述基板进行加热；喷头，其与上述平台相对设置，且具有多个气体喷出孔；气体供给机构，其通过上述喷头向上述腔室内供给处理气体；冷却单元，其设置于上述喷头的上方，对该喷头进行冷却；和喷头用加热单元，其设置于上述冷却单元的上方，隔着该冷却单元对上述喷头进行加热。

    气体供给装置和成膜装置
    3.
    发明授权
    气体供给装置和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN109504952B

    公开(公告)日：2021-07-06

    申请号：CN201811050750.4

    申请日：2018-09-10

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 八木宏宪 ,  掛川崇 ,  山口克昌 ,  古屋雄一 ,  孟贤男

    IPC: C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02

    Abstract: 本发明涉及气体供给装置和成膜装置。提供一种能够使工艺开始时的原料气体的流量在短时间内稳定化的气体供给装置。一个实施方式的气体供给装置能够经由缓冲罐和第一高速开闭阀向处理容器内间歇地供给原料气体，所述气体供给装置具有与所述缓冲罐的次级侧连接并且能够对所述缓冲罐内进行排气的排气线以及设置于所述排气线的第二高速开闭阀。

    气体供给装置和成膜装置
    4.
    发明公开
    气体供给装置和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN109504952A

    公开(公告)日：2019-03-22

    申请号：CN201811050750.4

    申请日：2018-09-10

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 八木宏宪 ,  掛川崇 ,  山口克昌 ,  古屋雄一 ,  孟贤男

    IPC: C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02

    Abstract: 本发明涉及气体供给装置和成膜装置。提供一种能够使工艺开始时的原料气体的流量在短时间内稳定化的气体供给装置。一个实施方式的气体供给装置能够经由缓冲罐和第一高速开闭阀向处理容器内间歇地供给原料气体，所述气体供给装置具有与所述缓冲罐的次级侧连接并且能够对所述缓冲罐内进行排气的排气线以及设置于所述排气线的第二高速开闭阀。

Patent Agency Ranking