公开(公告)号：CN1779905A

公开(公告)日：2006-05-31

申请号：CN200510117315.5

申请日：2005-11-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本仪秀 ,  菊池俊彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/66 ,  C23F4/00

Abstract: 本发明涉及一种基板处理系统，抑制由处理气体造成的测定装置的污染。在测定装置(4)的框体(30)内设置用于形成测定室(S)的测定区域(40)。测定室(S)将晶片(W)的搬运口(33)作为一个侧面，形成为长方体形状。在测定室(S)内设置载置板(42)。光学系统(45)被设置在分隔测定室(S)的顶面的相反侧。由此，光学系统(45)和测定室(S)的通气被遮断。在测定室(S)上设置向搬运口(33)提供清洁空气的供气口(50)。将晶片(W)送入测定室(S)，对晶片(W)进行测定时，从供气口(50)向搬运口(33)提供清洁的空气，将从搬运口(33)流入测定室(S)的处理气体稀释或压回去。

公开(公告)号：CN112956010B

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN201980072936.6

申请日：2019-09-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 远藤荣几 ,  金丸秀忠 ,  齐藤泰宏 ,  长久保启一 ,  坂本仪秀 ,  岩崎智德

IPC: H01L21/677

Abstract: 一种基板处理装置，其具有加载部、加载互锁室、处理模块、基板输送机构、以及控制部，基板输送机构具有多个基板保持部，各基板保持部构成为保持1张基板，控制部在处理模块逐张处理基板的情况下控制基板输送机构，以使第1基板保持部在加载部与处理模块之间输送基板，第2基板保持部在加载互锁室与处理模块之间输送基板，在处理模块同时处理多张基板的情况下控制基板输送机构，以使多个基板保持部在加载部、加载互锁室以及处理模块之间同时输送多张基板。

公开(公告)号：CN112956010A

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201980072936.6

申请日：2019-09-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 远藤荣几 ,  金丸秀忠 ,  齐藤泰宏 ,  长久保启一 ,  坂本仪秀 ,  岩崎智德

IPC: H01L21/677

Abstract: 一种基板处理装置，其具有加载部、加载互锁室、处理模块、基板输送机构、以及控制部，基板输送机构具有多个基板保持部，各基板保持部构成为保持1张基板，控制部在处理模块逐张处理基板的情况下控制基板输送机构，以使第1基板保持部在加载部与处理模块之间输送基板，第2基板保持部在加载互锁室与处理模块之间输送基板，在处理模块同时处理多张基板的情况下控制基板输送机构，以使多个基板保持部在加载部、加载互锁室以及处理模块之间同时输送多张基板。

公开(公告)号：CN100405536C

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200510117315.5

申请日：2005-11-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 坂本仪秀 ,  菊池俊彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/66 ,  C23F4/00

Abstract: 本发明涉及一种基板处理系统，抑制由处理气体造成的测定装置的污染。在测定装置(4)的框体(30)内设置用于形成测定室(S)的测定区域(40)。测定室(S)将晶片(W)的搬运口(33)作为一个侧面，形成为长方体形状。在测定室(S)内设置载置板(42)。光学系统(45)被设置在分隔测定室(S)的顶面的相反侧。由此，光学系统(45)和测定室(S)的通气被遮断。在测定室(S)上设置向搬运口(33)提供清洁空气的供气口(50)。将晶片(W)送入测定室(S)，对晶片(W)进行测定时，从供气口(50)向搬运口(33)提供清洁的空气，将从搬运口(33)流入测定室(S)的处理气体稀释或压回去。