公开(公告)号：CN1878967A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200480033006.3

申请日：2004-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 史蒂文·T·芬克

IPC: F16D71/04

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68792 ,  Y10T74/1836

Abstract: 一种多位止动机构，用于在能够通过移动而互相止动接触和脱离止动接触的第一物体和第二物体之间提供多个停止位置。本发明的多位止动机构包括构造成将多位止动机构固定到第一物体和/或第二物体的壳体、可转动地安装于壳体的可转动轴和位于可转动轴上的多个止动件。当轴在壳体内转动时，止动件相对于所述壳体转动至不同的位置。这样，可转动轴将止动件中的一个定位，以接触没有装所述多位止动机构的第一或第二物体。

公开(公告)号：CN1671884A

公开(公告)日：2005-09-21

申请号：CN03818399.4

申请日：2003-07-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 史蒂文·T·芬克

IPC: C23C16/509 ,  C23C16/50 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67017 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4412 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/6719

Abstract: 一种真空处理设备，包括具有多个抽气口的处理室，以及与多个抽气口的相应抽气口连接的多个抽气单元。多个抽气口优选地位于处理室下壁靠近处理室空间。还提供一种处理室，它包括下壁和侧壁，其中侧壁的高度约为4英寸。真空处理设备还包括室内衬，其设计用于占据处理室内开放空间。

公开(公告)号：CN1849691A

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：CN200480025729.9

申请日：2004-10-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 迈克尔·兰蒂斯 ,  史蒂文·T·芬克

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32642

Abstract: 一种聚焦环组件，设置为耦合到等离子体处理系统中的衬底支架，该组件包括聚焦环，聚焦环具有用于确定聚焦环的寿命的一个或更多个磨损指示器，其中聚焦环耦合到衬底支架便于聚焦环在等离子体处理系统中的自动定心。例如，安装在衬底支架上的定心环可包括定心特征，该定心特征设置为与聚焦环的配合特征相耦合。

公开(公告)号：CN100392278C

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200480033006.3

申请日：2004-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 史蒂文·T·芬克

IPC: F16D71/04

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68792 ,  Y10T74/1836

Abstract: 一种多位止动机构，用于在能够通过移动而互相止动接触和脱离止动接触的第一物体和第二物体之间提供多个停止位置。本发明的多位止动机构包括构造成将多位止动机构固定到第一物体和/或第二物体的壳体、可转动地安装于壳体的可转动轴和位于可转动轴上的多个止动件。当轴在壳体内转动时，止动件相对于所述壳体转动至不同的位置。这样，可转动轴将止动件中的一个定位，以接触没有装所述多位止动机构的第一或第二物体。

公开(公告)号：CN1853253A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：CN200480026697.4

申请日：2004-10-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 史蒂文·T·芬克 ,  埃里克·J·施特朗 ,  迈克尔·兰蒂斯

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32605 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244

Abstract: 电极板(26)构造为结合到等离子体处理系统中的电极(28)。该电极板(26)包括构造为容纳气体喷射装置(110)的多个气体喷射孔(100)。该电极板包括三个或更多安装孔(140)，其中该电极板构造为通过使三个或更多安装孔与装到电极上的三个或更多安装螺钉对准并结合，而与电极结合。

公开(公告)号：CN1906457A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200580001701.6

申请日：2005-01-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 史蒂文·T·芬克

IPC: G01B3/50

CPC classification number: G01B3/50

Abstract: 本发明公开了一种通过/不通过式量具和方法，用于检验用在等离子体加工工具的等离子体室内的工艺组件是否已经累积过多的磨损或沉积物。所述量具包括用于检验工艺组件的尺寸是否违反指定的尺寸公差的部件，所述违反表示工艺组件已经累积过多的磨损或沉积物。

公开(公告)号：CN1853254A

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：CN200480026969.0

申请日：2004-10-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 史蒂文·T·芬克 ,  埃里克·J·施特朗 ,  亚瑟·H·小拉弗拉弥 ,  杰伊·华莱士 ,  桑德拉·海岚德

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32633 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/67069

Abstract: 一种挡板组件，设置为耦合到等离子为体处理系统中的衬底支架，该组件包括挡板(64)，挡板具有一个或更多个开口，以允许通过其的气体通道，其中挡板耦合到衬底支架便于等离子体处理系统中挡板的自动定心。安装在衬底支架中的定心环(100)可包括设置为与挡板上的配合特征相耦合(68)的定心特征。在等离子体处理系统初始装配之后，挡板可以被替换并在等离子体处理系统中定心而无需对衬底支架进行拆卸和重新组装。