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公开(公告)号：CN102782805A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180012090.0
申请日：2011-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/677
CPC classification number: G05B19/4065 , G05B2219/32226 , Y02P90/14
Abstract: 一种具有用于检查半导体制造装置的程序的半导体制造系统，其进行以下步骤：显示用于指定检查项目的画面的步骤，该检查项目包括具备操作事项、确认事项的检查事项；从存储部读出与所指定的检查项目对应的检查事项，按工作顺序排列，并附加各检查事项是自动执行还是手动执行的执行属性，在画面中进行显示的步骤；和通过受理检查开始指令从存储部读出第一个检查事项的步骤，并且进行与a.检查事项是操作事项，执行属性为自动执行的情况；b.检查事项是操作事项，执行属性为手动执行的情况；c.检查事项是确认事项，执行属性为自动执行的情况；d.检查事项是确认事项，执行属性为手动执行的情况对应的步骤，直至不存在下一检查事项为止。
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公开(公告)号：CN102782805B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201180012090.0
申请日：2011-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/677
CPC classification number: G05B19/4065 , G05B2219/32226 , Y02P90/14
Abstract: 一种具有用于检查半导体制造装置的程序的半导体制造系统，其进行以下步骤：显示用于指定检查项目的画面的步骤，该检查项目包括具备操作事项、确认事项的检查事项；从存储部读出与所指定的检查项目对应的检查事项，按工作顺序排列，并附加各检查事项是自动执行还是手动执行的执行属性，在画面中进行显示的步骤；和通过受理检查开始指令从存储部读出第一个检查事项的步骤，并且进行与a.检查事项是操作事项，执行属性为自动执行的情况；b.检查事项是操作事项，执行属性为手动执行的情况；c.检查事项是确认事项，执行属性为自动执行的情况；d.检查事项是确认事项，执行属性为手动执行的情况对应的步骤，直至不存在下一检查事项为止。
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公开(公告)号：CN101990707A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200980112315.2
申请日：2009-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , C23C16/52 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/67259 , C23C16/4583 , C23C16/4586 , C23C16/46 , C23C16/52
Abstract: 基板(W)的异常载置状态的检测方法，用于对在设有加热器(6a、6b)的基板载置台(3)上载置的基板(W)加热的同时进行加热时，检测该基板(W)的载置状态的异常。上述基板(W)的异常载置状态的检测方法，包括：在处理一张基板(W)的期间，根据向上述加热器(6a、6b)供给的电力输出的信息或上述基板载置台(3)的计测温度的信息，检测上述电力输出或上述计测温度的最大值及最小值或上述电力输出或上述计测温度的累计值的工序；和根据检测出的上述最大值及上述最小值或检测出的上述累计值判定上述基板的异常载置状态的工序。
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公开(公告)号：CN113471098B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202110308892.1
申请日：2021-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统、基板处理方法以及控制装置，能够更有效地抑制处理结果的变动。基板处理系统具有对基板进行处理的处理模块、向处理模块重复搬送多个基板的搬送机构、以及控制处理模块中的对基板的处理的控制装置。控制装置用于基于工艺制程来进行处理模块中的处理，并且所述控制装置具有针对工艺制程的步骤的步骤时间设定偏置时间的功能，所述偏置时间是与通过处理模块进行了处理的基板张数对应的函数、或者是同与进行了处理的基板张数相当的参数对应的函数。
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公开(公告)号：CN113471098A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110308892.1
申请日：2021-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统、基板处理方法以及控制装置，能够更有效地抑制处理结果的变动。基板处理系统具有对基板进行处理的处理模块、向处理模块重复搬送多个基板的搬送机构、以及控制处理模块中的对基板的处理的控制装置。控制装置用于基于工艺制程来进行处理模块中的处理，并且所述控制装置具有针对工艺制程的步骤的步骤时间设定偏置时间的功能，所述偏置时间是与通过处理模块进行了处理的基板张数对应的函数、或者是同与进行了处理的基板张数相当的参数对应的函数。
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公开(公告)号：CN111809166A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN202010254572.8
申请日：2020-04-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/52 , C23C16/455
Abstract: 本发明提供一种能够缩短制程时间的处理装置和处理方法。处理装置是进行基板的处理的处理装置，其具备多个终端设备、控制特定的终端设备的下位控制部以及控制部。控制部执行处理基板的制程，来确定制程的多个控制步骤中的满足特定的条件的控制步骤，将确定出的控制步骤发送到下位控制部。下位控制部基于从控制部接收到的控制步骤来控制对应的特定的终端设备。
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公开(公告)号：CN106067434A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610248544.9
申请日：2016-04-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67276 , G05B2219/45031 , H01L21/67745 , H01L21/673 , H01L21/67011 , H01L21/677 , H01L2221/67 , H01L2221/683
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统，其能够在系统内部将多个仿真基板在时间上并行地模拟搬送，并且也能够进行不向处理室内搬送仿真基板的模拟搬送。条件表(122)作为维护宏设定部发挥作用，其从保存于存储装置(105)的各种维护宏(135)选定要执行的维护宏并设定它们的执行条件。由条件表(122)设定的维护宏(135)通过方案执行部(121)的控制信号与系统方案(130)一起被控制。方案执行部(121)使系统方案(130)和由条件表(122)设定的维护宏(135)协同工作，在基板处理系统(100)内执行模拟动作。
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公开(公告)号：CN101990707B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN200980112315.2
申请日：2009-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , C23C16/52 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/67259 , C23C16/4583 , C23C16/4586 , C23C16/46 , C23C16/52
Abstract: 基板(W)的异常载置状态的检测方法，用于对在设有加热器(6a、6b)的基板载置台(3)上载置的基板(W)加热的同时进行加热时，检测该基板(W)的载置状态的异常。上述基板(W)的异常载置状态的检测方法，包括：在处理一张基板(W)的期间，根据向上述加热器(6a、6b)供给的电力输出的信息或上述基板载置台(3)的计测温度的信息，检测上述电力输出或上述计测温度的最大值及最小值或上述电力输出或上述计测温度的累计值的工序；和根据检测出的上述最大值及上述最小值或检测出的上述累计值判定上述基板的异常载置状态的工序。
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