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公开(公告)号：CN103365079A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310092395.8
申请日：2013-03-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法以及不产生针孔等的、高品质的黑矩阵。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，使感光性基材成分(A)溶解于有机溶剂成分(S)中，用孔径为1μm以下的PTFE膜对所得的基材溶液进行过滤后，使颜料成分(G)分散于该基材溶液中。其中，上述感光性基材成分(A)含有碱可溶性树脂(A1)、光聚合性化合物(A2)、或光聚合引发剂(A3)。
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公开(公告)号：CN103376650A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310135839.1
申请日：2013-04-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供不产生针孔等的高品质的遮光层形成用感光性基材组合物。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法的特征在于，将重均分子量为10000～50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5～10质量％后进行过滤，使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。上述过滤优选用孔径为1μm以下的PTFE膜进行。
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公开(公告)号：CN1573552A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410049012.X
申请日：2004-06-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用而碱溶性增大的树脂(A)、通过曝光可产生酸的酸发生剂(B)和聚丙二醇(C)，该树脂(A)中含有包含衍生自羟基苯乙烯的第1结构单元(a1)、以及衍生自具有醇性羟基的(甲基)丙烯酸酯的第2结构单元(a2)且重均分子量在2000以上、8500以下而且所述结构单元(a1)的羟基和所述结构单元(a2)的醇性羟基的总计量的10摩尔％以上、25摩尔％以下被酸离解性溶解抑制基所保护的共聚物。
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公开(公告)号：CN103376650B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201310135839.1
申请日：2013-04-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供不产生针孔等的高品质的遮光层形成用感光性基材组合物。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法的特征在于，将重均分子量为10000～50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5～10质量％后进行过滤，使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。上述过滤优选用孔径为1μm以下的PTFE膜进行。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100410810C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200410049012.X
申请日：2004-06-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用而碱溶性增大的树脂(A)、通过曝光可产生酸的酸发生剂(B)和聚丙二醇(C)，该树脂(A)中含有包含衍生自羟基苯乙烯的第1结构单元(a1)、以及衍生自具有醇性羟基的(甲基)丙烯酸酯的第2结构单元(a2)且重均分子量在2000以上、8500以下而且所述结构单元(a1)的羟基和所述结构单元(a2)的醇性羟基的总计量的10摩尔%以上、25摩尔%以下被酸离解性溶解抑制基所保护的共聚物。
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公开(公告)号：CN1696831A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510070085.1
申请日：2005-05-09
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 一种正性抗蚀剂组合物，它包括：其碱溶性通过酸的作用而改变的树脂组分(A)、酸生成剂组分(B)、和聚丙二醇，其中所述组分(A)包括含有由通式(I)表示的构成单元(a1)、由通式(II)表示的构成单元(a2)和具有酸解离溶解抑制基团的构成单元(a3)的树脂组分(A1)，其中R表示氢原子或甲基，而m表示1～3的整数，其中R表示氢原子或甲基，R1表示具有1～5个碳原子的烷基，而l表示0～3的整数。
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公开(公告)号：CN103365079B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201310092395.8
申请日：2013-03-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法以及不产生针孔等的、高品质的黑矩阵。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法，其特征在于，使感光性基材成分(A)溶解于有机溶剂成分(S)中，用孔径为1μm以下的PTFE膜对所得的基材溶液进行过滤后，使颜料成分(G)分散于该基材溶液中。其中，上述感光性基材成分(A)含有碱可溶性树脂(A1)、光聚合性化合物(A2)、或光聚合引发剂(A3)。
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公开(公告)号：CN101122740B
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：CN200710140222.3
申请日：2007-08-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成高析像度的图案的层间绝缘膜用感光性树脂组合物。所述层间绝缘膜用感光性树脂组合物含有碱可溶性树脂成分(A)和感光剂(B)，所述碱可溶性树脂成分(A)含有具有下述通式(a-1)所示的结构单元(a1)和具有交联性基团的结构单元(a2)的共聚物(A1)。下述通式中，R0表示氢原子或甲基，R1表示单键或碳原子数为1～5的亚烷基，R2表示碳原子数为1～5的烷基，a表示1～5的整数，b表示0或1～4的整数，a+b为5以下。需要说明的是，存在2个以上R2时，各个R2可以相互不同，也可以相同。
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公开(公告)号：CN101122740A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200710140222.3
申请日：2007-08-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成高析像度的图案的层间绝缘膜用感光性树脂组合物。所述层间绝缘膜用感光性树脂组合物含有碱可溶性树脂成分(A)和感光剂(B)，所述碱可溶性树脂成分(A)含有具有下述通式(a－1)所示的结构单元(a1)和具有交联性基团的结构单元(a2)的共聚物(A1)。下述通式中，R0表示氢原子或甲基，R1表示单键或碳原子数为1～5的亚烷基，R2表示碳原子数为1～5的烷基，a表示1～5的整数，b表示0或1～4的整数，a+b为5以下。需要说明的是，存在2个以上R2时，各个R2可以相互不同，也可以相同。
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