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公开(公告)号：CN105659708A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201480058043.3
申请日：2014-11-12
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , H01J37/32532 , H01J37/34 , H01J37/3402
Abstract: 本发明涉及一种等离子体电极，所述等离子体电极具有：电极主体，其在外周面具有放电面，并在内部设置有用于在所述放电面形成隧道状磁场的磁铁；和接地部件，其与放电面的至少一部分隔开间隔地对置，并隔着电极主体相对，放电面以不设间隔或设置间隔的方式包围电极主体的外周。根据本发明，可提供一种能够同时实现等离子体处理速度的提高和稳定放电的等离子体电极。
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公开(公告)号：CN105051252A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015410.1
申请日：2014-03-07
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/509 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC classification number: C23C16/509 , B05D1/62 , C23C16/45574 , C23C16/50 , C23C16/54 , C23C16/545 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/32825 , H01J37/34 , H01J2237/3321
Abstract: 本发明是一种等离子体CVD装置，其包括：真空容器、和在真空容器内的等离子体CVD电极单元和基材保持机构，所述等离子体CVD电极单元包括：阳极；阴极，其与所述阳极隔开间隔地对置；第一气体供给喷嘴，其以气体通过所述阳极和阴极之间的等离子体生成空间的方式供给气体，基材保持机构配置于通过等离子体生成空间后的气体所触碰的位置，阳极在气体供给方向上的长度及阴极在气体供给方向上的长度均比阳极和阴极之间的距离长。根据本发明，提供一种能提高气体的分解效率、实现高成膜速度的等离子体CVD装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103403219A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280009418.8
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C14/35
CPC classification number: H01J23/02 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3438 , H01J37/3452
Abstract: 本发明的目的在于提供一种异常放电少、且能够长时间稳定地放电的等离子体处理用磁控管电极。将第二电极配置在比第一电极的外侧磁极的内侧端部更靠外侧的位置、或仅配置在磁通量密度低的部分。
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公开(公告)号：CN105051252B
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201480015410.1
申请日：2014-03-07
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/509 , H01L21/31 , H05H1/46
CPC classification number: C23C16/509 , B05D1/62 , C23C16/45574 , C23C16/50 , C23C16/54 , C23C16/545 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/32825 , H01J37/34 , H01J2237/3321
Abstract: 本发明是一种等离子体CVD装置，其包括：真空容器、和在真空容器内的等离子体CVD电极单元和基材保持机构，所述等离子体CVD电极单元包括：阳极；阴极，其与所述阳极隔开间隔地对置；第一气体供给喷嘴，其以气体通过所述阳极和阴极之间的等离子体生成空间的方式供给气体，基材保持机构配置于通过等离子体生成空间后的气体所触碰的位置，阳极在气体供给方向上的长度及阴极在气体供给方向上的长度均比阳极和阴极之间的距离长。根据本发明，提供一种能提高气体的分解效率、实现高成膜速度的等离子体CVD装置。
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公开(公告)号：CN103459661B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201280016136.0
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C14/34
CPC classification number: C23C14/0063 , C23C14/0068 , C23C14/562 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/455 , C23C16/45517 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32752 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J2237/3321 , H01J2237/3325
Abstract: 本发明提供一种等离子体CVD装置，是在真空容器内具备主辊和等离子体产生电极，在将长条基材沿着上述主辊的表面输送的同时，在上述长条基材的表面形成薄膜的真空成膜装置，其中，以包围由上述主辊和上述等离子体产生电极夹着的成膜空间的方式，隔着上述成膜空间地在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧，各设置至少一个沿上述长条基材的宽度方向延伸的侧壁，上述侧壁与上述等离子体产生电极电绝缘，在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧中的任一侧的侧壁上，具备1列以上的沿上述长条基材的宽度方向呈一列排列的多个气体供给孔所形成的气体供给孔列。
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公开(公告)号：CN105659708B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201480058043.3
申请日：2014-11-12
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , H01J37/32532 , H01J37/34 , H01J37/3402
Abstract: 本发明涉及一种等离子体电极，所述等离子体电极具有：电极主体，其在外周面具有放电面，并在内部设置有用于在所述放电面形成隧道状磁场的磁铁；和接地部件，其与放电面的至少一部分隔开间隔地对置，并隔着电极主体相对，放电面以不设间隔或设置间隔的方式包围电极主体的外周。根据本发明，可提供一种能够同时实现等离子体处理速度的提高和稳定放电的等离子体电极。
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公开(公告)号：CN103459661A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016136.0
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C14/34
CPC classification number: C23C14/0063 , C23C14/0068 , C23C14/562 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/455 , C23C16/45517 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32752 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J2237/3321 , H01J2237/3325
Abstract: 本发明提供一种等离子体CVD装置，是在真空容器内具备主辊和等离子体产生电极，在将长条基材沿着上述主辊的表面输送的同时，在上述长条基材的表面形成薄膜的真空成膜装置，其中，以包围由上述主辊和上述等离子体产生电极夹着的成膜空间的方式，隔着上述成膜空间地在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧，各设置至少一个沿上述长条基材的宽度方向延伸的侧壁，上述侧壁与上述等离子体产生电极电绝缘，在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧中的任一侧的侧壁上，具备1列以上的沿上述长条基材的宽度方向呈一列排列的多个气体供给孔所形成的气体供给孔列。
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