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公开(公告)号：CN101678389A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880017578.0
申请日：2008-05-29
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/227 , B05B15/52 , B08B1/00 , B08B1/008 , B08B7/0028 , B41J2/16535 , B41J2/16552 , B41J2002/1655
Abstract: 本发明提供一种涂覆头清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子显示器的制造方法。其中，所述涂覆头清洁方法，清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液，其特征在于，进行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向抵接所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离，此后，进行从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动作，进一步施行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向接触所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离。根据本发明，提供一种使用胶带材料可以有效地、不损伤涂覆头地将附着于涂覆头的排出口以及排出口面的浆料除去的涂覆头清洁方法。
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公开(公告)号：CN103459661A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016136.0
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C14/34
CPC classification number: C23C14/0063 , C23C14/0068 , C23C14/562 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/455 , C23C16/45517 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32752 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J2237/3321 , H01J2237/3325
Abstract: 本发明提供一种等离子体CVD装置，是在真空容器内具备主辊和等离子体产生电极，在将长条基材沿着上述主辊的表面输送的同时，在上述长条基材的表面形成薄膜的真空成膜装置，其中，以包围由上述主辊和上述等离子体产生电极夹着的成膜空间的方式，隔着上述成膜空间地在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧，各设置至少一个沿上述长条基材的宽度方向延伸的侧壁，上述侧壁与上述等离子体产生电极电绝缘，在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧中的任一侧的侧壁上，具备1列以上的沿上述长条基材的宽度方向呈一列排列的多个气体供给孔所形成的气体供给孔列。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103403219A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280009418.8
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C14/35
CPC classification number: H01J23/02 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/3438 , H01J37/3452
Abstract: 本发明的目的在于提供一种异常放电少、且能够长时间稳定地放电的等离子体处理用磁控管电极。将第二电极配置在比第一电极的外侧磁极的内侧端部更靠外侧的位置、或仅配置在磁通量密度低的部分。
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公开(公告)号：CN101678389B
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN200880017578.0
申请日：2008-05-29
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/227 , B05B15/52 , B08B1/00 , B08B1/008 , B08B7/0028 , B41J2/16535 , B41J2/16552 , B41J2002/1655
Abstract: 本发明提供一种涂覆头的清洁方法、浆料涂覆方法以及等离子显示器的制造方法。其中，所述涂覆头清洁方法，清洁附着于涂覆头的排出口附近的排出口面的涂覆液，其特征在于，进行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向抵接所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离，此后，进行从所述排出口微量排出涂覆液的微量排出动作，进一步施行1次以上压触动作，所述压触动作是使胶带在大致垂直方向接触所述排出口附近的排出口面后在大致垂直方向剥离。根据本发明，提供一种使用胶带材料可以有效地、不损伤涂覆头地将附着于涂覆头的排出口以及排出口面的浆料除去的涂覆头清洁方法。
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公开(公告)号：CN103459661B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201280016136.0
申请日：2012-02-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C14/34
CPC classification number: C23C14/0063 , C23C14/0068 , C23C14/562 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/455 , C23C16/45517 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32559 , H01J37/32568 , H01J37/32752 , H01J37/3277 , H01J37/3405 , H01J37/3417 , H01J2237/3321 , H01J2237/3325
Abstract: 本发明提供一种等离子体CVD装置，是在真空容器内具备主辊和等离子体产生电极，在将长条基材沿着上述主辊的表面输送的同时，在上述长条基材的表面形成薄膜的真空成膜装置，其中，以包围由上述主辊和上述等离子体产生电极夹着的成膜空间的方式，隔着上述成膜空间地在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧，各设置至少一个沿上述长条基材的宽度方向延伸的侧壁，上述侧壁与上述等离子体产生电极电绝缘，在上述长条基材的输送方向的上游侧和下游侧中的任一侧的侧壁上，具备1列以上的沿上述长条基材的宽度方向呈一列排列的多个气体供给孔所形成的气体供给孔列。
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公开(公告)号：CN1267205C
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN01805681.4
申请日：2001-12-26
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/227
Abstract: 本发明提供一种喷嘴，其特征在于，在向涂布对象物涂布涂布液的多个排出孔大致以直线状排列的同时，内部具有涂布液储存部的喷嘴中，所述涂布液储存部上设有在与排出孔的排列方向大致垂直相交方向上延伸的支柱。另外，本发明还提供一种使在表面上形成条状纵隔板，并在与该纵隔板大致垂直相交的方向上形成纵隔板高度以下的横隔板的基材与与该基材对向设置的喷嘴相对移动的同时，从设置于喷嘴的多个排出孔排出涂布液，向基材所选择的纵隔板间的沟槽部涂布涂布液的方法及装置。
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公开(公告)号：CN1406156A
公开(公告)日：2003-03-26
申请号：CN01805681.4
申请日：2001-12-26
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/227
Abstract: 本发明提供一种喷嘴，其特征在于，在向涂布对象物涂布涂布液的多个排出孔大致以直线状排列的同时，内部具有涂布液储存部的喷嘴中，所述涂布液储存部上设有在与排出孔的排列方向大致垂直相交方向上延伸的支柱。另外，本发明还提供一种使在表面上形成条状纵隔板，并在与该纵隔板大致垂直相交的方向上形成纵隔板高度以下的横隔板的基材与与该基材对向设置的喷嘴相对移动的同时，从设置于喷嘴的多个排出孔排出涂布液，向基材所选择的纵隔板间的沟槽部涂布涂布液的方法及装置。
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