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公开(公告)号：CN111809167B
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202010660344.0
申请日：2020-07-10
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
IPC: C23C16/54 , C23C16/505 , C23C16/52 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法。该PECVD设备包括：外腔；设置在外腔内的内腔上盖；滚轮模块，其设置在外腔内并位于内腔上盖下方，其包括多个滚轮组、驱动多个滚轮组升降以在托盘接送位和托盘封闭位之间移动的第一驱动模块、驱动多个滚轮组转动从而驱动托盘水平移动的第二驱动模块；以及控制模块，其配置成控制第二驱动模块驱动多个滚轮组在托盘接送位接收水平送入外腔的托盘并将其水平传送到位，并在到位后控制第一驱动模块向上驱动多个滚轮组使其进入托盘封闭位而顶推其所支撑的托盘在边缘处与内腔上盖相压靠，从而形成由内腔上盖和托盘构成的、用于进行PECVD成膜工艺的内腔。本发明能提高成膜质量、传送速度，并能降低设备故障率和成本。
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公开(公告)号：CN105154852A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201410260428.X
申请日：2014-06-12
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司 , 理想能源设备(上海)有限公司
Abstract: 本发明提供了一种异质结太阳能电池PECVD工艺受硼污染解决方法，所述方法包括异质结太阳能电池PECVD设备，所述异质结太阳能电池PECVD设备对硅片进行I层工艺、N层工艺和P层工艺，所述异质结太阳能电池PECVD设备包括用以在所述P层工艺与后续I层工艺之间共用的循环用具，在P层工艺之后增加水蒸气处理工艺用以在I层工艺之前除去所述循环用具表面的硼残留。如此设置，可以迅速去除循环用具例如同一腔体内部或者共享托盘表面的硼残留，如此可提高后续硅片表面非晶硅的钝化效果，减少载流子在硅表面的复合，提高少子寿命。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111850518A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010704046.7
申请日：2020-07-21
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
IPC: C23C16/46 , C23C16/513 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供托盘预热腔及对应的PECVD设备。PECVD设备包括：加载模块，其用于将硅片放置在托盘中；托盘转送模块，其用于将由加载模块传送的托盘送至托盘预热腔，并接收已预热的托盘；托盘预热腔，其接收和预热托盘至预设预热温度并将托盘传回至托盘转送模块；加载腔，其配置成接收由托盘转送模块传送的、已预热的托盘；PECVD工艺腔，其接收由加载腔传送的托盘，通过本征和掺杂PECVD工艺在托盘所承载的硅片的一面上沉积形成I/N或I/P型非晶硅薄膜；卸载腔，其接收由PECVD工艺腔传送的托盘；以及卸载模块，其接收由卸载腔传送的托盘并将硅片从托盘中卸载。本发明能有效提高设备产能、预热灵活性和预热效率，并能有效降低设备成本。
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公开(公告)号：CN111809167A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN202010660344.0
申请日：2020-07-10
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
IPC: C23C16/54 , C23C16/505 , C23C16/52 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法。该PECVD设备包括：外腔；设置在外腔内的内腔上盖；滚轮模块，其设置在外腔内并位于内腔上盖下方，其包括多个滚轮组、驱动多个滚轮组升降以在托盘接送位和托盘封闭位之间移动的第一驱动模块、驱动多个滚轮组转动从而驱动托盘水平移动的第二驱动模块；以及控制模块，其配置成控制第二驱动模块驱动多个滚轮组在托盘接送位接收水平送入外腔的托盘并将其水平传送到位，并在到位后控制第一驱动模块向上驱动多个滚轮组使其进入托盘封闭位而顶推其所支撑的托盘在边缘处与内腔上盖相压靠，从而形成由内腔上盖和托盘构成的、用于进行PECVD成膜工艺的内腔。本发明能提高成膜质量、传送速度，并能降低设备故障率和成本。
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公开(公告)号：CN213013088U
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202021596860.3
申请日：2020-08-05
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
IPC: C23C16/46 , C23C16/458 , H01L31/18
Abstract: 本实用新型提供层叠式预热腔。所述层叠式预热腔包括：第一层预热子腔，其包括用于承载第一托盘的第一承载件以及分别设置在第一层预热子腔的顶部和底部的第一组红外加热器和第二组红外加热器；以及第二层预热子腔，其层叠在第一层预热子腔上，且包括用于承载第二托盘的第二承载件以及分别设置在第二层预热子腔的顶部和底部的第三组红外加热器和第四组红外加热器；其中第一组红外加热器和第三组红外加热器的波长为(大于2μm)～3μm，第二组红外加热器和第四组红外加热器的波长为1.2μm～2μm。本实用新型能有效改善预热腔的加热能力，缩短托盘预热时间，降低对硅片表面薄膜的热损伤，提高设备产能。
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公开(公告)号：CN213013087U
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202021443008.2
申请日：2020-07-21
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
IPC: C23C16/46 , C23C16/513 , H01L31/18
Abstract: 本实用新型提供托盘预热腔及对应的PECVD设备。PECVD设备包括：加载模块，其用于将硅片放置在托盘中；托盘转送模块，其用于将由加载模块传送的托盘送至托盘预热腔，并接收已预热的托盘；托盘预热腔，其接收和预热托盘至预设预热温度并将托盘传回至托盘转送模块；加载腔，其配置成接收由托盘转送模块传送的、已预热的托盘；PECVD工艺腔，其接收由加载腔传送的托盘，通过本征和掺杂PECVD工艺在托盘所承载的硅片的一面上沉积形成I/N或I/P型非晶硅薄膜；卸载腔，其接收由PECVD工艺腔传送的托盘；以及卸载模块，其接收由卸载腔传送的托盘并将硅片从托盘中卸载。本实用新型能有效提高设备产能、预热灵活性和预热效率，并能有效降低设备成本。
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公开(公告)号：CN212648265U
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：CN202021965379.7
申请日：2020-09-10
Applicant: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
IPC: H01L31/18 , H01L31/0747 , C23C16/50
Abstract: 本实用新型提供一种托盘预热腔。该预热腔包括：托盘预热模块，其包括预热框架、水平分层设置在预热框架中的多层预热板、以及驱动预热框架上下移动的第一驱动模块；托盘顶推模块，其包括顶推框架、水平分层设置且在预热板下侧的多层顶推板、以及设置在预热框架的预热基座上驱动顶推框架上下移动的第二驱动模块；以及控制模块，其控制第一驱动模块驱动预热框架及预热板在第一和第二位置之间移动、以将间隔设置的第一或第二组预热板与传送托盘进出的托盘传送位相对准，还在将托盘传进或传出预热腔时控制第二驱动模块驱动顶推框架带动其顶推板从回缩等待位向上移动到顶推支撑位，并在托盘被放置至顶推杆上、或托盘被取走后向下驱动到回缩等待位。
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