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公开(公告)号:CN111370151A
公开(公告)日:2020-07-03
申请号:CN202010291807.0
申请日:2020-04-14
Applicant: 国核工程有限公司 , 上海核工程研究设计院有限公司
IPC: G21C17/00 , G21C15/02 , G21C15/14 , G21C15/24 , G21C15/243
Abstract: 本发明公开了一种非能动堆芯冷却系统流阻试验临措系统及使用方法,包括:连接水源至用户箱体之间的供水管线、提供动力的给水泵组、从用户箱体至排水地坑的排水管线、阀门、仪表和管件等附件,根据不同的阀门在线控制不同用户箱体的补水路径,并通过排放管线上设置的流量计进行数据采集,进而达到数据分析及试验结果评估的目的。本发明整合度高、可移植性强,可整体拆卸直接用于相同堆型核电厂非能动堆芯冷却系统流阻试验,或以方案为指导用于后续相似AP/CAP堆型核电厂非能动堆芯冷却系统系统调试试验。
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公开(公告)号:CN112052751A
公开(公告)日:2020-12-08
申请号:CN202010849139.9
申请日:2020-08-21
Applicant: 上海核工程研究设计院有限公司
Abstract: 本发明的目的在于公开一种安全壳水膜覆盖率检测方法,与现有技术相比,有效克服现有红外测量和人工测量手段在准确性和实时性上的不足,能够直接利用机器人拍摄的连续视频序列,快速、准确地测量水膜覆盖率;充分考虑安全壳表面的曲面特性,引入曲面成像校正模型,将不规则成像结果投影至二维平面,能够反映水膜覆盖的真实区域、尺寸,提高水膜覆盖率的测量精度,实现本发明的目的。
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公开(公告)号:CN111584105A
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN202010427181.1
申请日:2020-05-19
Applicant: 上海核工程研究设计院有限公司
IPC: G21C17/032 , F16M13/02
Abstract: 本发明的目的在于公开一种水下动压传感器安装装置,它包括安装基座、中空套管支撑和T型套管,安装基座焊接于IRWST水箱的内表面上,中空套管支撑的底部垂直固定在安装基座上,中空套管支撑的顶部垂直固定有T型套管的迎流面,中空套管支撑中设置有动压传感器的本体,动压传感器的感压膜片设置在T型套管的迎流面上,动压传感器的电缆从中空套管支撑中引出;与现有技术相比,可根据具体安装载体进行适用性调整,有效地减少临时装置安装对机组正式设备造成的影响,减小动压传感器迎流面与IRWST水箱内壁之间的距离,确保动压传感器所测数据与IRWST水箱内壁面平行度一致,实现传感器所测数据与IRWST水箱内壁面动态冲击载荷一致,实现本发明的目的。
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公开(公告)号:CN212847701U
公开(公告)日:2021-03-30
申请号:CN202020549069.0
申请日:2020-04-14
Applicant: 国核工程有限公司 , 上海核工程研究设计院有限公司
IPC: G21C17/00 , G21C15/02 , G21C15/14 , G21C15/24 , G21C15/243
Abstract: 本实用新型公开了一种非能动堆芯冷却系统流阻试验临措系统,包括:连接水源至用户箱体之间的供水管线、提供动力的给水泵组、从用户箱体至排水地坑的排水管线、阀门、仪表和管件等附件,根据不同的阀门在线控制不同用户箱体的补水路径,并通过排放管线上设置的流量计进行数据采集,进而达到数据分析及试验结果评估的目的。本实用新型整合度高、可移植性强,可整体拆卸直接用于相同堆型核电厂非能动堆芯冷却系统流阻试验,或以方案为指导用于后续相似AP/CAP堆型核电厂非能动堆芯冷却系统系统调试试验。
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公开(公告)号:CN212303095U
公开(公告)日:2021-01-05
申请号:CN202020839806.0
申请日:2020-05-19
Applicant: 上海核工程研究设计院有限公司
IPC: G21C17/032 , F16M13/02
Abstract: 本实用新型的目的在于公开一种水下动压传感器安装装置,它包括安装基座、中空套管支撑和T型套管,安装基座焊接于IRWST水箱的内表面上,中空套管支撑的底部垂直固定在安装基座上,中空套管支撑的顶部垂直固定有T型套管的迎流面,中空套管支撑中设置有动压传感器的本体,动压传感器的感压膜片设置在T型套管的迎流面上,动压传感器的电缆从中空套管支撑中引出;与现有技术相比,可根据具体安装载体进行适用性调整,有效地减少临时装置安装对机组正式设备造成的影响,减小动压传感器迎流面与IRWST水箱内壁之间的距离,确保动压传感器所测数据与IRWST水箱内壁面平行度一致,实现传感器所测数据与IRWST水箱内壁面动态冲击载荷一致,实现本实用新型的目的。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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