一种水基纳米银浆减薄方法及其用途

    公开(公告)号:CN105414556A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201510839979.6

    申请日:2015-11-27

    CPC classification number: B22F9/06 B22F1/0022 B82Y30/00 B82Y40/00

    Abstract: 本发明公开了一种水基纳米银浆减薄方法及其用途,该方法包含:步骤1,向水基纳米银浆中加入去离子水,进行稀释清洗;步骤2,搅拌、充分混合;步骤3,向混合溶液中加入硝酸盐电解质溶液,进行絮凝;步骤4,高速离心分离,去除上层溶液,保留底部纳米银浆;步骤5,重复步骤1-4若干次,得到有机包覆层减薄后的水基纳米银浆。本发明通过减薄稀释纳米银颗粒表面的有机包覆层,达到降低纳米银浆烧结温度、缩短烧结时间的效果,实现无压力辅助烧结互连;本发明制备的纳米银浆,用于芯片级烧结互连工艺,显著改善了未做减薄处理前纳米银浆互连接头的力学性能及热导率,对大功率密度电子封装中芯片级互连的散热意义重大。

    一种纳米助焊膏和低温环保型纳米焊锡膏及其制备方法

    公开(公告)号:CN107442969B

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201710804734.9

    申请日:2017-09-08

    Abstract: 本发明提供了一种低温环保焊锡膏,此焊锡膏由助焊膏和金属锡粉组成。助焊膏由604松香,十六烷基三甲基溴化铵,缓蚀剂咪唑和苯丙三唑,触变剂改性氢化蓖麻油,加入活性剂正丁醇,P‑105增粘剂,硝酸,氨水,二乙二醇丁醚和三乙二醇丁醚的一种或两种制备而成;金属锡粉蒸汽‑冷凝法制备而成。本发明助焊膏采用独有的表面活性剂包覆技术,该助焊膏可以提高纳米焊锡膏的成型、印刷性能和抗腐蚀性能,且能够在焊接时去除纳米微粒和焊盘表面的残余杂志和氧化物,提高纳米微粒和焊盘的表面活性,促进润湿和界面反应、形成互连,并及时形成保护层防止纳米微粒和焊盘在焊接过程中二次氧化,适合电子封装领域中低温无铅焊料的制备及封装互连过程。

    一种用作热界面材料的双峰分布纳米银膏及其制备方法

    公开(公告)号:CN104668551B

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201510043602.X

    申请日:2015-01-28

    Abstract: 本发明提供一种用作热界面材料的双峰分布纳米银膏及其制备方法:采用5nm—20nm小粒径纳米银颗粒和30nm—150nm的大粒径纳米银颗粒,按照质量比例为4:1—1:1与超纯水按照一定比例混合,机械搅拌,超声分散,然后离心,去除上层溶液,得到双峰分布纳米银膏。本发明进一步提供5nm—20nm小粒径纳米银颗粒和30nm—150nm的大粒径纳米银颗粒的制备方法。采用本发明中的方法所制备得到的双峰分布纳米银膏具有比单峰分布纳米银膏以及锡铅钎料更高的导热性能和更好的烧结结构稳定性。本发明中的制备方法简单,制备的工艺条件稳定可靠,对环境无污染,易于产业化应用。

    一种用作热界面材料的双峰分布纳米银膏及其制备方法

    公开(公告)号:CN104668551A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201510043602.X

    申请日:2015-01-28

    Abstract: 本发明提供一种用作热界面材料的双峰分布纳米银膏及其制备方法:采用5nm—20nm小粒径纳米银颗粒和30nm—150nm的大粒径纳米银颗粒,按照质量比例为4:1—1:1与超纯水按照一定比例混合,机械搅拌,超声分散,然后离心,去除上层溶液,得到双峰分布纳米银膏。本发明进一步提供5nm—20nm小粒径纳米银颗粒和30nm—150nm的大粒径纳米银颗粒的制备方法。采用本发明中的方法所制备得到的双峰分布纳米银膏具有比单峰分布纳米银膏以及锡铅钎料更高的导热性能和更好的烧结结构稳定性。本发明中的制备方法简单,制备的工艺条件稳定可靠,对环境无污染,易于产业化应用。

    一种新型预制片高温钎料及其制备方法

    公开(公告)号:CN104117782A

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201410393141.4

    申请日:2014-08-11

    CPC classification number: B23K35/0244 B23K35/302

    Abstract: 本发明提供了一种新颖的Cu@Sn核壳结构金属粉,以及由其制成新型预制片高温钎料,以及所述预制片用于焊盘焊接的应用,从而形成高温焊缝的方法,所述金属粉颗粒尺寸在1μm至40μm之间。所述预制片可以用于多种基板的焊接,在回流过程中,预制片内部的颗粒由于压力作用紧密接触,从而能够形成在金属间化合物中弥散分布铜颗粒的致密焊缝结构,较钎料膏形成的焊缝质量高出很多。该结构能够在250℃作用形成,形成后可以在350℃下服役,达到低温连接高温服役的目的。本发明工艺简单,成本低廉,实用性强,解决了目前功率器件芯片粘贴成本高,工艺温度高以及工艺时间长等问题。

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