公开(公告)号：CN112585299A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN201980054658.1

申请日：2019-09-02

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 黑泽伸也 ,  藤井智子 ,  松永裕嗣

IPC分类号： C23F3/03

摘要： 提供一种化学研磨液，其为用于铝或铝合金的化学研磨液，其含有过氧化氢(A)、氟化合物(B)、不属于前述氟化合物(B)的无机酸(C)、和含羟基的烃化合物(D)，前述过氧化氢(A)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2～20质量％，前述氟化合物(B)的以氟原子换算计的含量按前述化学研磨液的总量基准计为3～17质量％，前述无机酸(C)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为20～55质量％，前述含羟基的烃化合物(D)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2～15质量％。

公开(公告)号：CN112585299B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN201980054658.1

申请日：2019-09-02

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 黑泽伸也 ,  藤井智子 ,  松永裕嗣

IPC分类号： C23F3/03

摘要： 提供一种化学研磨液，其为用于铝或铝合金的化学研磨液，其含有过氧化氢(A)、氟化合物(B)、不属于前述氟化合物(B)的无机酸(C)、和含羟基的烃化合物(D)，前述过氧化氢(A)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2～20质量％，前述氟化合物(B)的以氟原子换算计的含量按前述化学研磨液的总量基准计为3～17质量％，前述无机酸(C)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为20～55质量％，前述含羟基的烃化合物(D)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2～15质量％。

公开(公告)号：CN115836143A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180040575.4

申请日：2021-06-01

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 黑泽伸也 ,  松永裕嗣 ,  玉井聪

IPC分类号： C23G1/10 ,  C23G1/06

摘要： 本发明涉及一种用于适当地去除存在于铜或铜合金的表面的自然氧化膜、有机物的处理液。本发明提供一种化学研磨液，其为用于铜或铜合金的表面处理的化学研磨液，其包含：(A)以前述化学研磨液的总量基准计为0.1～3.5质量％的过氧化氢；(B)以前述化学研磨液的总量基准计为1～20质量％的选自由硫酸和硝酸组成的组中的1种以上；(C)作为按照氟原子换算的含量以前述化学研磨液的总量基准计为0.05～0.8质量％的氟化物；(D)以前述化学研磨液的总量基准计为0.01～1质量％的选自由邻氨基苯甲酸、环己胺、环己醇和1,5‑戊二醇组成的组中的1种以上；(E)以前述化学研磨液的总量基准计为0.0005～0.005质量％的氟系表面活性剂；和(F)水。