用于对铜和铜合金选择性地进行蚀刻的蚀刻液和使用其的半导体基板的制造方法

    公开(公告)号:CN113015823A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201980074655.4

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: C23F1/18 H01L21/308

    摘要: 本发明涉及抑制镍、锡、金和它们的合金的溶解、且能对铜和铜合金选择性地进行蚀刻的蚀刻液。本发明的蚀刻液的特征在于,其包含:相对于蚀刻液的总质量为5~10.5质量%的(A)过氧化氢;相对于蚀刻液的总质量为0.3~6质量%的(B)硝酸;(C)任选具有取代基的、选自由三唑和四唑组成的组中的1种以上的含氮五元环化合物,所述取代基选自由碳数1~6的烷基、氨基、以及具有选自由碳数1~6的烷基和苯基组成的组中的取代基的取代氨基组成的组中的1种以上;以及(D)(d1)选自由碱金属氢氧化物、氨、胺和铵盐组成的组中的1种以上的pH调节剂、(d2)膦酸化合物或(d3)它们的组合。

    化学研磨液及使用了其的表面处理方法

    公开(公告)号:CN112585299B

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN201980054658.1

    申请日:2019-09-02

    IPC分类号: C23F3/03

    摘要: 提供一种化学研磨液,其为用于铝或铝合金的化学研磨液,其含有过氧化氢(A)、氟化合物(B)、不属于前述氟化合物(B)的无机酸(C)、和含羟基的烃化合物(D),前述过氧化氢(A)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2~20质量%,前述氟化合物(B)的以氟原子换算计的含量按前述化学研磨液的总量基准计为3~17质量%,前述无机酸(C)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为20~55质量%,前述含羟基的烃化合物(D)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2~15质量%。

    不锈钢表面的粗糙化处理方法、粗糙化不锈钢制造方法、及这些方法中使用的水性组合物

    公开(公告)号:CN116583614A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202180083201.0

    申请日:2021-12-13

    IPC分类号: C22C38/00

    摘要: 提供充分地并且以少的工序有效率地使不锈钢的表面粗糙化、并且良好地保持处理后的不锈钢的表面品质的粗糙化处理方法等。上述的课题通过具有使用第1水性组合物的粗糙化处理工序和使用第2水性组合物的后处理工序的不锈钢的粗糙化处理方法来解决。即,一种粗糙化处理方法,其中,粗糙化处理工序为:使第1水性组合物与含有铜或离子化倾向比铜大的金属的不锈钢的表面接触而进行粗糙化处理的工序,第1水性组合物中,以第1水性组合物的总量基准计,包含0.1~20质量%的过氧化氢,以第1水性组合物的总量基准计,包含0.25~40质量%的铜离子,以第1水性组合物的总量基准计,包含1~30质量%的卤化物离子,后处理工序为:在酸性条件下使第2水性组合物与在粗糙化处理工序中进行了处理的不锈钢的表面接触而进行后处理的工序,第2水性组合物至少包含过氧化物。

    用于对铜和铜合金选择性地进行蚀刻的蚀刻液和使用其的半导体基板的制造方法

    公开(公告)号:CN113015823B

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN201980074655.4

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: C23F1/18 H01L21/308

    摘要: 本发明涉及抑制镍、锡、金和它们的合金的溶解、且能对铜和铜合金选择性地进行蚀刻的蚀刻液。本发明的蚀刻液的特征在于,其包含:相对于蚀刻液的总质量为5~10.5质量%的(A)过氧化氢;相对于蚀刻液的总质量为0.3~6质量%的(B)硝酸;(C)任选具有取代基的、选自由三唑和四唑组成的组中的1种以上的含氮五元环化合物,所述取代基选自由碳数1~6的烷基、氨基、以及具有选自由碳数1~6的烷基和苯基组成的组中的取代基的取代氨基组成的组中的1种以上;以及(D)(d1)选自由碱金属氢氧化物、氨、胺和铵盐组成的组中的1种以上的pH调节剂、(d2)膦酸化合物或(d3)它们的组合。

    化学研磨液及使用了其的表面处理方法

    公开(公告)号:CN112585299A

    公开(公告)日:2021-03-30

    申请号:CN201980054658.1

    申请日:2019-09-02

    IPC分类号: C23F3/03

    摘要: 提供一种化学研磨液,其为用于铝或铝合金的化学研磨液,其含有过氧化氢(A)、氟化合物(B)、不属于前述氟化合物(B)的无机酸(C)、和含羟基的烃化合物(D),前述过氧化氢(A)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2~20质量%,前述氟化合物(B)的以氟原子换算计的含量按前述化学研磨液的总量基准计为3~17质量%,前述无机酸(C)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为20~55质量%,前述含羟基的烃化合物(D)的含量按前述化学研磨液的总量基准计为2~15质量%。