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公开(公告)号：CN101135850B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫光区激光束高度敏感的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN101165593A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710169939.0
申请日：2004-09-22
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种感光性组合物和图像形成方法，所述组合物包含下列通式(XI)至(XIII)代表的增感剂中的至少一种类型，在所述通式(XI)～(XIII)中，环A～G各自彼此独立地具有作为基本骨架的芳烃环或芳香杂环，环A和B、环D和E、或者环F和G选择性地互相键连形成包含N的键合环；在通式(XII)中，连接基团L代表包含芳烃环和/或芳香杂环的连接基团，连接基团L和N通过所述芳烃环或芳香杂环键连，n代表至少2的整数；通式(XIII)中，R代表选择性具有取代基的烷基；环A～G和连接基团L选择性具有取代基，该取代基选择性地互相键连成环。
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公开(公告)号：CN101135850A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN100573321C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫色光区激光束高度敏感的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫色激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1705913B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200480001373.5
申请日：2004-09-22
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种负型青紫色激光感光性组合物，其对青紫区域的激光束具有高灵敏度，并且不仅在黄色灯下安全光性能优异，而且所得到的图像具有优异的分辨率性能和矩形性能，所述负型青紫色激光感光性组合物特别适合用作干膜抗蚀材料以用于青紫色激光束的直接记录。本发明还提供了采用所述负型青紫色激光感光性组合物的图像形成材料、图像形成元件和图像形成方法。具体地说，本发明提供了一种负型青紫色激光感光性组合物，其特征在于，该组合物在曝光于青紫色激光束时，使膜残留率达到至少90％的最小曝光量至多为40mJ/cm2，而且在以曝光部分上的膜残留率(t(％))对青紫色激光束的曝光量对数(logE(mJ/cm2))作图而得到的膜残留率/曝光量曲线中，连接所述膜残留率的15％点和80％点的直线的γ值(t＝γlogE+δ)至少为4.0×102。本发明还提供了采用所述负型青紫色激光感光性组合物的图像形成材料、图像形成元件和图像形成方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101395534B
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN200780007279.4
申请日：2007-05-25
Applicant: 三菱化学株式会社
Inventor： 龟山泰弘
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007
Abstract: 本发明提供一种保护膜用热固性组合物，其即使在曝光光源的分光特性不同的情况下，灵敏度也不明显降低，能够形成具有高灵敏度的保护层，硬烘时无着色，在可见光区域下的光透过率良好，该保护膜用热固性组合物含有(A)碱溶性树脂、(B)具有两个以上烯键式不饱和基团的化合物以及(C)光聚合引发剂。该保护膜用热固性组合物在400nm波长下的光透过率为每1μm膜厚90％以上。组分(C)在310～370nm具有最大吸收波长。
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公开(公告)号：CN101390017B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200780006786.6
申请日：2007-05-25
Applicant: 三菱化学株式会社
Inventor： 龟山泰弘
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007 , G03F7/033
Abstract: 本发明提供一种保护膜用热固性组合物，其能够形成在曝光和显影后的剥离性优异、硬烘时无着色、在可见光区域下的透光率良好、热固化后的耐化学性优异的保护层。该保护膜用热固性组合物含有(A)碱溶性树脂、(B)具有2个以上烯键式不饱和基团的化合物以及(C)光聚合引发剂。烯键式不饱和基团相对于组分(A)和组分(B)的总重量的含量为1毫摩尔/g～5毫摩尔/g。使用该保护膜用热固性组合物以最佳曝光量曝光并固化所形成的曝光膜在0.4重量％氢氧化四甲基铵水溶液(25℃)中的溶解速度为2.3μm/分钟以下。
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公开(公告)号：CN1922142A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200580005604.4
申请日：2005-02-22
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C07D209/86 , G03F7/031 , G02B5/20
CPC classification number: C07D209/94 , C07D209/86 , G03F7/0007 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供具有特定结构的肟酯化合物、光聚合性组合物和使用该光聚合性组合物的滤色器。在包含黑色着色材料(a)、有机粘合剂(b)和光聚合引发剂(c)的光聚合性组合物中，该肟酯化合物构成(c)。该肟酯化合物可以用作高感光性光聚合引发剂。薄膜形式的含有该肟酯化合物的光聚合性组合物具有优异的感光度和分辨率，且具有高的遮光性，可以低成本地形成高质量的树脂黑底(BM)。使用该树脂BM的滤色器具有优异的精度、平坦性和耐久性，这样可以改进液晶显示装置的显示质量。其生产过程和滤色器本身没有害物质，这样可以降低对人体的危险，并提高环境安全性。它还适用于不使用着色材料的用途，例如光间隔器或肋壁(液晶分割取向突起)。
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公开(公告)号：CN1675588A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN104246609A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380021084.0
申请日：2013-04-25
Applicant: 三菱化学株式会社
Inventor： 龟山泰弘
IPC: G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02118 , C08G18/672 , C08G18/791 , G03F7/0047 , G03F7/027 , H01L27/3258
Abstract: 本发明的课题在于提供一种可兼备介电常数和高分辨力、并且具有高透射率及高灵敏度的感光性树脂组合物，所述介电常数和高分辨力存在折衷选择的关系。另外，本发明的课题还在于提供一种使用上述感光性树脂组合物而形成的固化物、含有该固化物的层间绝缘膜、含有该层间绝缘膜的TFT有源阵列基板及液晶显示装置。本发明涉及的感光性树脂组合物含有：(A)钛酸钡微粒、(B)氧化锆微粒、及(C)含有可溶于碱的树脂。
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