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公开(公告)号：CN101135850B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫光区激光束高度敏感的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN100573321C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫色光区激光束高度敏感的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫色激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN101135850A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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