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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101135850B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫光区激光束高度敏感的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN100573321C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫色光区激光束高度敏感的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫色激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫色激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN101165593A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710169939.0
申请日：2004-09-22
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种感光性组合物和图像形成方法，所述组合物包含下列通式(XI)至(XIII)代表的增感剂中的至少一种类型，在所述通式(XI)～(XIII)中，环A～G各自彼此独立地具有作为基本骨架的芳烃环或芳香杂环，环A和B、环D和E、或者环F和G选择性地互相键连形成包含N的键合环；在通式(XII)中，连接基团L代表包含芳烃环和/或芳香杂环的连接基团，连接基团L和N通过所述芳烃环或芳香杂环键连，n代表至少2的整数；通式(XIII)中，R代表选择性具有取代基的烷基；环A～G和连接基团L选择性具有取代基，该取代基选择性地互相键连成环。
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公开(公告)号：CN101135850A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1705913B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200480001373.5
申请日：2004-09-22
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供了一种负型青紫色激光感光性组合物，其对青紫区域的激光束具有高灵敏度，并且不仅在黄色灯下安全光性能优异，而且所得到的图像具有优异的分辨率性能和矩形性能，所述负型青紫色激光感光性组合物特别适合用作干膜抗蚀材料以用于青紫色激光束的直接记录。本发明还提供了采用所述负型青紫色激光感光性组合物的图像形成材料、图像形成元件和图像形成方法。具体地说，本发明提供了一种负型青紫色激光感光性组合物，其特征在于，该组合物在曝光于青紫色激光束时，使膜残留率达到至少90％的最小曝光量至多为40mJ/cm2，而且在以曝光部分上的膜残留率(t(％))对青紫色激光束的曝光量对数(logE(mJ/cm2))作图而得到的膜残留率/曝光量曲线中，连接所述膜残留率的15％点和80％点的直线的γ值(t＝γlogE+δ)至少为4.0×102。本发明还提供了采用所述负型青紫色激光感光性组合物的图像形成材料、图像形成元件和图像形成方法。
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