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公开(公告)号：CN100509426C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200580005786.5
申请日：2005-02-25
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: C09B67/0041 , C09B67/0033
Abstract: 本发明提供了一种能够用短波长的蓝色激光进行记录和读取的高级别光记录材料。一种光记录材料，其包含最大吸收波长(λmax)不小于340nm且不大于440nm的有机色素化合物A和最大吸收波长(λmax)不小于500nm且不大于900nm的金属络合物B，有机色素化合物A的含量比金属络合物B的含量高，且用预定方法计算的耐光性x不小于30%。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101135850B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫光区激光束高度敏感的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1902057A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200480039147.6
申请日：2004-12-24
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体股份有限公司
CPC classification number: C09B57/00 , G11B7/246 , G11B2007/24618
Abstract: 本发明提供一种可通过短波长的激光束高密度记录或读取光学信息的光学记录介质。所述光学记录介质包括基板和形成于基板上的记录层，所述记录层通过光照射可记录或读取信息，其中，所述记录层含有以下通式(I)的7－氨基喹诺酮化合物。在通式(I)中，X是氧原子或硫原子，R1是氢原子或可具有取代基的直链或支链烷基，R6是可具有取代基的直链或支链烷基，n是1～4。
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公开(公告)号：CN101135850A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1922028A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200580005786.5
申请日：2005-02-25
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: C09B67/0041 , C09B67/0033
Abstract: 本发明提供了一种能够用短波长的蓝色激光进行记录和读取的高级别光记录材料。一种光记录材料，其包含最大吸收波长(λmax)不小于340nm且不大于440nm的有机染料化合物A和最大吸收波长(λmax)不小于500nm且不大于900nm的金属络合物B，有机染料化合物A的含量比金属络合物B的含量高，且用预定方法计算的耐光性x不小于30％。
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公开(公告)号：CN1675588A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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