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公开(公告)号：CN100509426C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200580005786.5
申请日：2005-02-25
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: C09B67/0041 , C09B67/0033
Abstract: 本发明提供了一种能够用短波长的蓝色激光进行记录和读取的高级别光记录材料。一种光记录材料，其包含最大吸收波长(λmax)不小于340nm且不大于440nm的有机色素化合物A和最大吸收波长(λmax)不小于500nm且不大于900nm的金属络合物B，有机色素化合物A的含量比金属络合物B的含量高，且用预定方法计算的耐光性x不小于30%。
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公开(公告)号：CN1922028A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200580005786.5
申请日：2005-02-25
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: C09B67/0041 , C09B67/0033
Abstract: 本发明提供了一种能够用短波长的蓝色激光进行记录和读取的高级别光记录材料。一种光记录材料，其包含最大吸收波长(λmax)不小于340nm且不大于440nm的有机染料化合物A和最大吸收波长(λmax)不小于500nm且不大于900nm的金属络合物B，有机染料化合物A的含量比金属络合物B的含量高，且用预定方法计算的耐光性x不小于30％。
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公开(公告)号：CN101238182B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN200680025540.9
申请日：2006-07-11
Applicant: 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: G11B7/249 , C09B45/18 , C09B45/20 , C09B45/22 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2463 , G11B7/2467 , G11B7/247 , G11B7/2472 , G11B7/2475 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/2536 , G11B7/2542 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供一种可以用短波长的激光进行高密度的光信息的记录及/或读取的光学记录介质。用波长350～530nm的短波长的激光进行高密度的光信息的记录及/或读取的光学记录介质，具有记录层，所述记录层形成在基板上，含有金属络合物，金属络合物由通式[I]或通式[II]所表示的环状β-双酮偶氮化合物和配位于这些环状β-双酮偶氮化合物的2价金属离子构成。
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公开(公告)号：CN101238182A
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200680025540.9
申请日：2006-07-11
Applicant: 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: G11B7/249 , C09B45/18 , C09B45/20 , C09B45/22 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2463 , G11B7/2467 , G11B7/247 , G11B7/2472 , G11B7/2475 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/2536 , G11B7/2542 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供一种可以用短波长的激光进行高密度的光信息的记录及/或读取的光学记录介质。用波长350～530nm的短波长的激光进行高密度的光信息的记录及/或读取的光学记录介质，具有记录层，所述记录层形成在基板上，含有金属络合物，金属络合物由通式[I]或通式[II]所表示的环状β－双酮偶氮化合物和配位于这些环状β－双酮偶氮化合物的2价金属离子构成。
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公开(公告)号：CN101151164B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200680010179.2
申请日：2006-03-29
Applicant: 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: G11B7/2492 , C09B29/3634 , C09B45/14 , C09B45/18 , C09B45/20 , G11B7/2463 , G11B7/2467 , G11B7/248 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/2536 , G11B7/2542 , G11B7/2548 , G11B7/259 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供凭借短波长激光可以进行高密度的光信息的记录读取的、具有耐光性得到改善的记录层的光学记录介质。一种具有含有有机色素化合物的记录层的光学记录介质，记录层中含有金属络合物，该金属络合物由下述通式[I]～通式[III]所表示的吡啶酮偶氮化合物和与之配位的镍、钴、铁、锌、铜、锰等的2价金属离子构成，该吡啶酮偶氮化合物作为偶合剂成份含有6-羟基-2-吡啶酮结构，作为重氮成分含有异噁唑、1，2，4-三唑或吡唑结构。(在通式[I]～通式[III]中，R1～R10各自独立地是氢原子或1价官能团。)
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101151164A
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN200680010179.2
申请日：2006-03-29
Applicant: 三菱化学媒体株式会社
CPC classification number: G11B7/2492 , C09B29/3634 , C09B45/14 , C09B45/18 , C09B45/20 , G11B7/2463 , G11B7/2467 , G11B7/248 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/2536 , G11B7/2542 , G11B7/2548 , G11B7/259 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供凭借短波长激光可以进行高密度的光信息的记录读取的、具有耐光性得到改善的记录层的光学记录介质。一种具有含有有机色素化合物的记录层的光学记录介质，记录层中含有金属络合物，该金属络合物由通式[I]～通式[III]所表示的吡啶酮偶氮化合物和与之配位的镍、钴、铁、锌、铜、锰等的2价金属离子构成，该吡啶酮偶氮化合物作为偶合剂成分含有6－羟基－2－吡啶酮结构，作为重氮成分含有异噁唑、1，2，4－三唑或吡唑结构。(在通式[I]～通式[III]中，R1～R10各自独立地是氢原子或1价官能团)。
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公开(公告)号：CN101135850B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对青紫光区激光束高度敏感的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有青紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的青紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1902057A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200480039147.6
申请日：2004-12-24
Applicant: 三菱化学株式会社 , 三菱化学媒体股份有限公司
CPC classification number: C09B57/00 , G11B7/246 , G11B2007/24618
Abstract: 本发明提供一种可通过短波长的激光束高密度记录或读取光学信息的光学记录介质。所述光学记录介质包括基板和形成于基板上的记录层，所述记录层通过光照射可记录或读取信息，其中，所述记录层含有以下通式(I)的7－氨基喹诺酮化合物。在通式(I)中，X是氧原子或硫原子，R1是氢原子或可具有取代基的直链或支链烷基，R6是可具有取代基的直链或支链烷基，n是1～4。
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公开(公告)号：CN101135850A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182370.1
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社 , 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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公开(公告)号：CN1675588A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03818746.9
申请日：2003-08-05
Applicant: 三菱化学株式会社
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。
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