公开(公告)号：CN118778360A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202410352727.X

申请日：2024-03-26

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 南宫烂 ,  河京珍 ,  朴贤 ,  宋大锡 ,  金旼秀 ,  诸相炫 ,  金俊秀 ,  刘昭燕 ,  朴秀敏 ,  洪锡九

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了一种抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，所述共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元和由化学式M‑2表示的第二结构单元；和溶剂。

公开(公告)号：CN119535885A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411079823.8

申请日：2024-08-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴贤 ,  南宫烂 ,  河京珍 ,  宋大锡 ,  金旼秀

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。该抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，该共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元和由化学式M‑3A或化学式M‑3B表示的第三结构单元；以及溶剂。

公开(公告)号：CN118732423A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202311571205.0

申请日：2023-11-23

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 成太根 ,  文炯朗 ,  崔有廷 ,  任浣熙 ,  李忠宪 ,  宋大锡 ,  司空峻

IPC: G03F7/32

Abstract: 提供一种含金属光刻胶显影剂组合物以及包括使用所述含金属光刻胶显影剂组合物进行显影的步骤的形成图案的方法，所述含金属光刻胶显影剂组合物包含有机溶剂、酸化合物以及所述酸化合物的共轭碱化合物。

公开(公告)号：CN119126488A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202410747214.9

申请日：2024-06-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 河京珍 ,  南宫烂 ,  朴贤 ,  宋大锡 ,  金旼秀

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了一种抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，其包括由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元和由化学式M‑3A或化学式M‑3B表示的第三结构单元；和溶剂。关于上述化学式的细节如说明书中所述。

公开(公告)号：CN115685674A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210845633.7

申请日：2022-07-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  金圣振 ,  白载烈 ,  阵和英 ,  南宫烂 ,  朴贤 ,  宋大锡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，所述抗蚀剂底层组合物包含：聚合物，包含主链、侧链或包含在环中包含两个或大于两个氮原子的杂环的主链和侧链；化合物，包含由化学式1表示的部分；以及溶剂；以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法：化学式1的定义与实施方式中所描述的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN113204170A

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN202110115902.X

申请日：2021-01-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 白载烈 ,  权纯亨 ,  金旼秀 ,  朴贤 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  崔有廷

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含含由化学式1表示的结构单元的聚合物和溶剂，以及一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。在化学式1中，每一个取代基与详细描述中所定义的相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN113138532A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110056902.7

申请日：2021-01-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  金旼秀 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  安度源

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。

公开(公告)号：CN113138532B

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202110056902.7

申请日：2021-01-15

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  权纯亨 ,  朴贤 ,  白载烈 ,  金旼秀 ,  裵信孝 ,  宋大锡 ,  安度源

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。

公开(公告)号：CN119535886A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411079825.7

申请日：2024-08-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 宋大锡 ,  南宫烂 ,  河京珍 ,  朴贤 ,  金旼秀

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。该抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，该共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元；选自含有至少一个氟的磺酸化合物、含有至少一个氟的磺酰亚胺化合物和含有至少一个氟的羧酸化合物中的至少一种酸性化合物；以及溶剂。

公开(公告)号：CN119002177A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202410320656.5

申请日：2024-03-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴贤 ,  南宫烂 ,  河京珍 ,  宋大锡 ,  金旼秀

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供一种抗蚀剂面层组合物以及使用所述抗蚀剂面层组合物来形成图案的方法。所述抗蚀剂面层组合物包括共聚物以及溶剂，所述共聚物包含由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元及包括由化学式M‑3A、化学式M‑3B、化学式M‑3C及化学式M‑3D表示的结构单元中的至少一者的第三结构单元。