公开(公告)号：CN111315836A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201880072308.3

申请日：2018-07-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔正敏 ,  郑荣哲 ,  金廷熙 ,  姜东宪

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供了包含二氧化铈、含铈的二氧化铈活化剂和无机膜表面保护剂的有机膜CMP浆料组合物，以及使用其的有机膜抛光方法。

公开(公告)号：CN111315836B

公开(公告)日：2022-03-15

申请号：CN201880072308.3

申请日：2018-07-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔正敏 ,  郑荣哲 ,  金廷熙 ,  姜东宪

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供了包含二氧化铈、含铈的二氧化铈活化剂和无机膜表面保护剂的有机膜CMP浆料组合物，以及使用其的有机膜抛光方法。

公开(公告)号：CN109153907B

公开(公告)日：2021-10-15

申请号：CN201680068602.8

申请日：2016-10-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 姜东宪 ,  金廷熙 ,  崔正敏 ,  兪龙植

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及一种CMP研浆组成物及使用其研磨有机膜的方法，所述CMP研浆组成物包含：含有含铁组分的氧化剂；具有一个羧基的有机酸；以及水。本发明的CMP研浆组成物不包含研磨颗粒，藉此有效地阻止研磨颗粒引起的过度研磨和/或在研磨有机膜时出现刮痕。

公开(公告)号：CN115141549A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210299492.3

申请日：2022-03-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金龙国 ,  沈秀姸 ,  张根三 ,  黄慈英 ,  金廷熙 ,  李贤玗 ,  姜东宪 ,  李锺元

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明提供一种用于抛光钨图案晶片的化学机械抛光浆料组合物和使用其抛光钨图案晶片的方法。化学机械抛光组合物包含：溶剂；以及满足关系式1和关系式2的二氧化硅。关系式1和关系式2与说明书所定义的相同。本发明确保抛光速率和平整度的改进。

公开(公告)号：CN110023433B

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN201780074614.6

申请日：2017-09-12

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金廷熙 ,  姜东宪 ,  崔正敏 ,  俞龙植

IPC: C09G1/18 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的一种用于抛光有机膜的浆料组合物，其包括氧化剂、有机酸、包含衍生自马来酸或马来酸酐的重复单元的抛光促进剂和水，其中该抛光促进剂以低于有机酸的重量被包括。

公开(公告)号：CN110023433A

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201780074614.6

申请日：2017-09-12

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金廷熙 ,  姜东宪 ,  崔正敏 ,  俞龙植

IPC: C09G1/18 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的一种用于抛光有机膜的浆料组合物，其包括氧化剂、有机酸、包含衍生自马来酸或马来酸酐的重复单元的抛光促进剂和水，其中该抛光促进剂以低于有机酸的重量被包括。

公开(公告)号：CN116515399A

公开(公告)日：2023-08-01

申请号：CN202211421492.2

申请日：2022-11-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 沈秀姸 ,  李知虎 ,  金龙国 ,  崔世荣 ,  黄慈英 ,  金廷熙

IPC: C09G1/02 ,  C23F3/06

Abstract: 本文中公开一种用于对铜进行抛光的化学机械抛光浆料组合物及使用所述化学机械抛光浆料组合物的铜膜抛光方法。所述化学机械抛光浆料组合物包括：选自极性溶剂及非极性溶剂中的至少一种溶剂；研磨剂；以及选自包括式1的化合物及包括式2的化合物中的至少一种化合物。

公开(公告)号：CN116462637A

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202211605758.9

申请日：2022-12-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔世荣 ,  金龙国 ,  沈秀姸 ,  黄慈英 ,  金廷熙 ,  赵娟振

IPC: C07D249/18 ,  C07D249/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/768 ,  H01L21/48

Abstract: 公开了一种式1的重氮类化合物或其盐、包含所述化合物的化学机械抛光浆料组合物和使用所述化学机械抛光浆料组合物的抛光方法。

公开(公告)号：CN109153907A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201680068602.8

申请日：2016-10-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 姜东宪 ,  金廷熙 ,  崔正敏 ,  兪龙植

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及一种CMP研浆组成物及使用其研磨有机膜的方法，所述CMP研浆组成物包含：含有含铁组分的氧化剂；具有一个羧基的有机酸；以及水。