印刷电路板以及制造该印刷电路板的方法

    公开(公告)号:CN120021351A

    公开(公告)日:2025-05-20

    申请号:CN202411021144.5

    申请日:2024-07-29

    Abstract: 本公开提供一种印刷电路板以及制造该印刷电路板的方法。所述印刷电路板包括:绝缘层;通孔,包括第一区域和第二区域,所述第一区域从所述绝缘层的上表面穿透所述绝缘层的一部分,所述第二区域从所述绝缘层的下表面穿透所述绝缘层的另一部分;以及金属过孔,包括第一金属层、第二金属层和第三金属层,所述第一金属层设置在所述第一区域的一部分中,所述第二金属层设置在所述第一金属层的上方并且设置在所述第一区域的另一部分中,所述第三金属层设置在所述第一金属层的下方并且设置在所述第二区域中。所述第一金属层的上表面位于所述绝缘层的所述上表面的下方。

    功率半导体设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103872116A

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201310148587.6

    申请日:2013-04-25

    CPC classification number: H01L29/7397 H01L29/1095 H01L29/41741

    Abstract: 本发明在此公开一种功率半导体设备,该功率半导体设备包括:漂移层,该漂移层形成在半导体衬底的第一表面上;第一导电类型的井层,该第一导电类型的井层形成在漂移层上;沟槽,该沟槽被形成以在厚度方向上通过井层到达漂移层;第一电极,该第一电极形成在沟槽内;第二导电类型的第二电极区,该第二导电类型的第二电极区形成在井层上,包括在垂直方向上与沟槽接触的第一区和在平行方向上与沟槽分隔开且与第一区垂直的第二区;第一导电类型的第二电极区,该第一导电类型的第二电极区被形成以与第二导电类型的第二电极区的侧表面接触;以及第二电极,该第二电极形成在井层上并且电连接至第二导电类型的第二电极区和第一导电类型的第二电极区。

    绝缘栅双极型晶体管
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103839986A

    公开(公告)日:2014-06-04

    申请号:CN201310042628.3

    申请日:2013-02-01

    CPC classification number: H01L29/7397 H01L29/1095

    Abstract: 本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管,该绝缘栅双极型晶体管包括:第一导电类型的第一半导体区域;形成在所述第一半导体区域一个表面上的第二导电类型的第二半导体区域;在长度方向上连续形成在所述第二半导体区域的一个表面上的所述第一导电类型的第三半导体区域;形成在所述第三半导体区域之间、延伸到所述第二半导体区域内部、以及在长度方向上连续的多个沟槽;形成在所述第三半导体区域的一个表面上的所述第二导电类型的第四半导体区域,形成在所述沟槽内的绝缘层;埋入所述绝缘层内的栅电极;以及形成在所述第二半导体区域内与所述第三半导体区域对应的位置的至少一个位置的阻挡层。

    用于控制功率因数修正的功率因数修正电路和方法

    公开(公告)号:CN103795236B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201310520179.9

    申请日:2013-10-29

    Abstract: 于此公开了一种功率因数修正电路,包括:升压转换器电路,在该升压转换器电路中,包括升压电感、整流二极管和升压开关的多个升压电路被相互连接;以及限制电路,包括限制电感和限制开关,以限制所述升压转换器电路。所述限制电感被控制为在所述升压电感被接通之前被接通,以将零电压应用至所述升压电感。可以减少在所述升压开关被接通时产生的切换损耗并提高AC‑DC电源装置的效率。

    半导体装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103794654A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201310058798.0

    申请日:2013-02-25

    Abstract: 本发明公开了一种半导体装置,该半导体装置包括:基板;形成在所述基板上的第一氮化物半导体层;形成在所述第一氮化物半导体层上的第二氮化物半导体层;形成在所述第二氮化物半导体层的一边上的阴极电极;具有一端和另一端的阳极电极,所述一端嵌在所述第二氮化物半导体层的另一边上达到预定深度,以及所述另一端与所述阴极电极间隔开并且形成延伸到所述阴极电极的上部;以及在所述阳极电极和所述阴极电极之间的所述第二氮化物半导体层上形成以覆盖所述阴极电极的绝缘膜。本发明提供的半导体装置能够通过额外形成电流传输路径增加电流传输量。

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