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公开(公告)号:CN118613049A
公开(公告)日:2024-09-06
申请号:CN202410202238.6
申请日:2024-02-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H10B12/00 , H01L23/482 , H01L23/488 , H01L23/64
Abstract: 一种半导体器件包括:衬底,包括有源区域;单元栅极结构,设置在衬底中,与有源区域交叉,并且在第一水平方向上延伸;位线结构,与单元栅极结构交叉,并且在与第一水平方向交叉的第二水平方向上延伸;接触插塞,设置在位线结构之间;着接焊盘结构,设置在接触插塞上,并且包括下着接焊盘和在下着接焊盘上的上着接焊盘,其中,上着接焊盘包括空腔;导电图案,设置在上着接焊盘的空腔中;以及绝缘图案结构,与位线结构之一接触并且与着接焊盘结构接触。
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公开(公告)号:CN114597191A
公开(公告)日:2022-06-07
申请号:CN202110755874.8
申请日:2021-07-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/522 , H01L23/50 , H01L23/528
Abstract: 提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括设置在基底上的第一位线。设置掩埋接触件,掩埋接触件设置在第一位线之间并且连接到基底。接合垫设置在掩埋接触件上。第二位线设置在基底的外围区域上。第二位线的上表面和接合垫的上表面彼此共面。第一绝缘图案设置在第二位线之间。第二绝缘图案设置在接合垫之间。设置连接到接合垫的单元电容器。第一绝缘图案包括与第二绝缘图案的至少一个绝缘层不同的绝缘层。
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