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公开(公告)号：CN1767171A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510099582.4
申请日：2005-09-14
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/768
CPC classification number: H01L21/31116 , H01L28/91
Abstract: 通过在第一结构上淀积金属氧化物材料以及退火该淀积的金属氧化物材料，在第一结构上形成刻蚀停止层。在刻蚀停止层上形成第二结构，以及使用刻蚀停止层作为刻蚀停止，通过第二结构刻蚀形成部分。
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