公开(公告)号：CN111270236B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN201911217843.6

申请日：2019-12-03

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  金镇奭 ,  沈承辅 ,  崔新革 ,  金承熙 ,  李栋熙 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李秉雄 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/18 ,  C23F1/02 ,  C23F1/26

摘要： 本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案的性质的金属图案和阵列衬底。

公开(公告)号：CN110284139B

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN201910207694.9

申请日：2019-03-19

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  金镇爽 ,  沈承辅 ,  崔新革 ,  沈枟亨 ,  李栋熙 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/18 ,  C23F1/02

摘要： 本发明的实施方式的蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、四‑氮环化合物、具有两个或更多个羰基的羰基环化合物和水，并且四‑氮环化合物和羰基环化合物的重量比为约1:0.1至约1:2。蚀刻剂组合物可蚀刻钛/铜的多层并且可用于制造具有优异蚀刻图案特性的金属图案和阵列基板。

公开(公告)号：CN113805441A

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：CN202110664970.1

申请日：2021-06-16

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  权昶佑 ,  安一培 ,  崔新革 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  崔珉祐 ,  许舜范

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 公开了一种剥离组合物。一实施例的剥离组合物以剥离组合物的总重量为基准而包括：1重量％以上50重量％以下的极性溶剂；1重量％以上60重量％以下的二醇化合物；1重量％以上20重量％以下的胺化合物；以及1重量％以上40重量％以下的水，其中，以剥离组合物的总重量为基准，极性溶剂以10重量％以上40重量％以下的含量包括N,N‑二甲基丙酰胺和环丁砜中的至少一个。剥离组合物可以在形成于电极上的光致抗蚀剂图案的去除工序中使用，并且可以显示出防止电极腐蚀的特性。

公开(公告)号：CN111270236A

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201911217843.6

申请日：2019-12-03

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  金镇奭 ,  沈承辅 ,  崔新革 ,  金承熙 ,  李栋熙 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李秉雄 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/18 ,  C23F1/02 ,  C23F1/26

摘要： 本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案的性质的金属图案和阵列衬底。

公开(公告)号：CN110284139A

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201910207694.9

申请日：2019-03-19

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社 ,  东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  金镇爽 ,  沈承辅 ,  崔新革 ,  沈枟亨 ,  李栋熙 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/18 ,  C23F1/02

摘要： 本发明的实施方式的蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、四-氮环化合物、具有两个或更多个羰基的羰基环化合物和水，并且四-氮环化合物和羰基环化合物的重量比为约1:0.1至约1:2。蚀刻剂组合物可蚀刻钛/铜的多层并且可用于制造具有优异蚀刻图案特性的金属图案和阵列基板。

公开(公告)号：CN110747473A

公开(公告)日：2020-02-04

申请号：CN201910660021.9

申请日：2019-07-22

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 金俸均 ,  金镇爽 ,  沈承辅 ,  崔新革 ,  金承熙 ,  李栋熙 ,  鞠仁说 ,  金范洙 ,  金相泰 ,  朴英哲 ,  尹暎晋 ,  林大成

IPC分类号： C23F1/16 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H05K3/06

摘要： 本发明涉及蚀刻剂组合物以及制造布线基板的方法。蚀刻剂组合物可包括：过氧硫酸盐、环胺化合物、包括羧基的第一两性化合物和包括砜基的第二两性化合物，其中第二两性化合物可不同于第一两性化合物。

公开(公告)号：CN110747473B

公开(公告)日：2022-12-16

申请号：CN201910660021.9

申请日：2019-07-22

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 金俸均 ,  金镇爽 ,  沈承辅 ,  崔新革 ,  金承熙 ,  李栋熙 ,  鞠仁说 ,  金范洙 ,  金相泰 ,  朴英哲 ,  尹暎晋 ,  林大成

IPC分类号： C07C229/00

摘要： 本发明涉及蚀刻剂组合物以及制造布线基板的方法。蚀刻剂组合物可包括：过氧硫酸盐、环胺化合物、包括羧基的第一两性化合物和包括砜基的第二两性化合物，其中第二两性化合物可不同于第一两性化合物。