沉积设备和沉积方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117626215A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311107547.7

    申请日:2023-08-30

    IPC分类号: C23C16/04 C23C16/458

    摘要: 提供了一种沉积设备和沉积方法,所述沉积设备包括:掩模;掩模框架;平台,设置在掩模框架的后表面上;以及第一外力施加部至第三外力施加部,设置在平台上。第一部分和第二部分中的每个包括支撑件和使支撑件移动的驱动部。第一外力施加部至第三外力施加部向掩模框架施加外力以控制掩模框架的形状。

    夹持装置及包括其的掩模组件制造装置

    公开(公告)号:CN109423601B

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN201810171097.0

    申请日:2018-03-01

    发明人: 金明圭 郑京勳

    IPC分类号: C23C14/04 C23C14/24

    摘要: 提供了夹持装置及包括该夹持装置的掩模组件制造装置。根据本发明一实施方式的夹持装置作为包括夹持单元和使夹持单元移动的拉伸单元的夹持装置,其中,夹持单元包括基础台、相隔开地布置在基础台上的第一驱动台和第二驱动台,以及布置在第一驱动台上的第一指部和布置在第二驱动台上的第二指部。

    夹持装置及包括其的掩模组件制造装置

    公开(公告)号:CN109423601A

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201810171097.0

    申请日:2018-03-01

    发明人: 金明圭 郑京勳

    IPC分类号: C23C14/04 C23C14/24

    摘要: 提供了夹持装置及包括该夹持装置的掩模组件制造装置。根据本发明一实施方式的夹持装置作为包括夹持单元和使夹持单元移动的拉伸单元的夹持装置,其中,夹持单元包括基础台、相隔开地布置在基础台上的第一驱动台和第二驱动台,以及布置在第一驱动台上的第一指部和布置在第二驱动台上的第二指部。

    沉积设备
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220746055U

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202322347922.7

    申请日:2023-08-30

    摘要: 提供了一种沉积设备,其包括:掩模,在掩模中限定有多个沉积开口;掩模框架,包括第一部分、第二部分、第三部分和第四部分并且设置在掩模的后表面上,并且在掩模框架中限定有开口;平台,设置在掩模框架的后表面上;以及第一外力施加部、第二外力施加部和第三外力施加部,设置在平台上,其中,第一部分和第二部分中的每个在第一方向上延伸,并且第三部分和第四部分中的每个在与第一方向垂直的第二方向上延伸,并且第一外力施加部至第三外力施加部中的每个包括支撑掩模框架的外表面的支撑件和使支撑件在与掩模框架的外表面垂直的方向上移动的驱动部。根据公开的沉积设备包括能够调节掩模框架的位置的外力施加部,使得沉积设备具有改善的沉积精度。

    基板传送装置
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221079960U

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202322633141.4

    申请日:2023-09-27

    IPC分类号: H01L21/677

    摘要: 本实用新型提供了一种基板传送装置,其包括:载体,包括用于安置基板的主体部、在第一方向上与主体部相邻的第一端部以及在与第一方向相反的方向上与主体部相邻的第二端部;第一移动部,在第一方向上与第一端部相邻,并且包括上部移动磁体;第一框架,包括使载体磁悬浮的上部固定磁体;第二移动部,布置在第二端部的下方,并且包括第一下部移动磁体和第二下部移动磁体;以及第二框架,布置在第二移动部的下方,并且包括与第一下部移动磁体相对的第一线性推进模块以及与第二下部移动磁体相对的第一下部固定磁体。