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公开(公告)号：CN107533283B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201680023233.0
申请日：2016-04-11
Abstract: 本发明的课题是抑制在裁剪时产生的异物粒子附着于防护膜组件。本发明涉及的防护膜组件的制造方法是制造包含防护膜和支撑该防护膜周围的防护膜组件框的防护膜组件的方法，所述方法包含如下操作：在基板上形成防护膜(101)，将具有伸缩性且在受到来自外部的刺激时粘着力会降低的粘着片(106，107)粘贴于基板的两面侧，在粘贴有粘着片的部分的基板的内部形成切口，维持粘贴有粘着片的状态，将基板的形成了上述切口的部分的外侧的基板外周部(111)分离从而形成防护膜组件框，对粘着片给予刺激而剥离粘着片。
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公开(公告)号：CN107533283A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680023233.0
申请日：2016-04-11
CPC classification number: G03F1/24 , C09J7/38 , G03F1/54 , G03F1/60 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F1/76 , G03F1/80 , G03F1/82
Abstract: 本发明的课题是抑制在裁剪时产生的异物粒子附着于防护膜组件。本发明涉及的防护膜组件的制造方法是制造包含防护膜和支撑该防护膜周围的防护膜组件框的防护膜组件的方法，所述方法包含如下操作：在基板上形成防护膜(101)，将具有伸缩性且在受到来自外部的刺激时粘着力会降低的粘着片(106，107)粘贴于基板的两面侧，在粘贴有粘着片的部分的基板的内部形成切口，维持粘贴有粘着片的状态，将基板的形成了上述切口的部分的外侧的基板外周部(111)分离从而形成防护膜组件框，对粘着片给予刺激而剥离粘着片。
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公开(公告)号：CN112088334A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980017088.9
申请日：2019-03-01
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。
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公开(公告)号：CN112088334B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN201980017088.9
申请日：2019-03-01
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN117270313A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311217869.7
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
IPC: G03F1/62 , C01B32/168 , C01B32/17 , B82Y40/00 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法。一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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公开(公告)号：CN110325908A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201880012953.6
申请日：2018-02-09
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供EUV透射性高、释气少、污染少的EUV用防护膜组件及其制造方法。防护膜组件(100)的特征在于，具有防护膜(101)、支撑框(103)以及第1粘接层(109)，所述第1粘接层(109)设置于支撑框的与吊挂有防护膜的端部相反一侧的端部，在第1粘接层的沿与防护膜面交叉的方向且处于吊挂防护膜一侧的侧面具有无机物层(111)，上述无机物层的质量吸收系数(μm)为5×103cm2/g～2×105cm2/g的范围。
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公开(公告)号：CN103842399B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201280048389.6
申请日：2012-10-05
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C09K3/10 , C08G18/2081 , C08G18/3876 , C08G18/757 , C08G18/7621 , C08G18/7671 , C08G2190/00 , C09D175/04 , G02B1/04 , H01L51/5253 , C08L75/04 , C08L81/00
Abstract: 本发明的聚合性组合物含有（A）异氰酸酯化合物、（B）选自4，8或4，7或5，7－二巯基甲基－1，11－二巯基－3，6，9－三硫杂十一烷、4－巯基甲基－1，8－二巯基－3，6－二硫杂辛烷、季戊四醇四巯基乙酸酯、季戊四醇四巯基丙酸酯、2，5－双（巯基甲基）－1，4－二噻烷、双（巯基乙基）硫醚、1，1，3，3－四（巯基甲基硫基）丙烷、4，6－双（巯基甲基硫基）－1，3－二噻烷、2－（2，2－双（巯基甲基硫基）乙基）－1，3－二硫杂环丁烷中的至少一种的硫醇化合物、和（C）有机强碱盐。
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公开(公告)号：CN117270314A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311217958.1
申请日：2021-04-02
Applicant: 三井化学株式会社 , 国立研究开发法人产业技术综合研究所
IPC: G03F1/62 , G03F7/20 , C01B32/168 , C01B32/17 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法。一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。
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