防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法

    公开(公告)号:CN118020023A

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202280061342.7

    申请日:2022-09-12

    Abstract: 本发明的防护膜组件具备防护膜组件框、支撑于上述防护膜组件框的一个端面的防护膜、以及设于上述防护膜组件框的另一个端面的粘着层,并且满足下述式(1)。式(1):[A60℃]≥4.0gf/mm2。式(1)中,[A60℃]表示将防护膜组件制成试验用层叠体时的第一剥离强度。试验用层叠体是通过将防护膜组件以粘着层与石英玻璃基板的表面接触的方式载置在石英玻璃基板上、并且在预定的条件下将载荷保持在防护膜组件上而获得的。第一剥离强度表示在预定的条件下,使用标准型万能试验机将试验用层叠体所含的防护膜组件从上述石英玻璃基板剥离时所需要的每单位粘接面积的载荷。

    防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法

    公开(公告)号:CN117916662A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202280061304.1

    申请日:2022-09-12

    Abstract: 一种防护膜组件,其具备防护膜组件框、防护膜以及粘着层。粘着层的内壁面和外壁面的至少一者满足下述式(1)。式(1):([A2s]/[A50s])≤0.97。式(1)中,A2s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对粘着层的距表面的深度为第一深度的第一深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第一深度是通过用氩气团簇离子束即溅射离子枪对表面的600μm见方的区域进行累计2秒照射而形成的。A50s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对深度为第二深度的第二深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第二深度是通过用上述溅射离子枪对上述区域进行累计50秒照射而形成的。

    防护膜组件框、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜组件的制造方法

    公开(公告)号:CN118974649A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202380027548.2

    申请日:2023-03-03

    Abstract: 本发明的目的在于提供可抑制由防护膜的张力引起的应变并且能够抑制由防护膜组件框的变形引起的原版的应变的防护膜组件框、防护膜组件以及防护膜组件的制造方法。防护膜组件框具备用于支撑防护膜的硬质框构件(12A)和用于与具有图案的原版连接的软质框构件(11X)。软质框构件(11X)与前述硬质框构件(12A)连接。前述软质框构件(11X)是由基材层(112)和粘着层(111)在与前述防护膜的面方向正交的厚度方向上以前述粘着层(111)配置于两端的方式交替层叠而成的。前述硬质框构件(12A)的杨氏模量高于前述软质框构件(11X)的表观杨氏模量。前述硬质框构件(12A)的杨氏模量为25GPa以上。

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