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公开(公告)号:CN101372328B
公开(公告)日:2011-12-21
申请号:CN200810098203.3
申请日:2008-05-15
申请人: 株式会社细美事
CPC分类号: B01J37/0215 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162
摘要: 根据本发明示范性范例提供一种在设备中用于制造碳纳米管的触媒散布装置,包含:网舟,其储存要散布在基板上的触媒,并包括具有网状物的底部;输送单元,其输送该网舟或该基板;以及振动单元,其振动该网舟来将该触媒散布在该基板上。
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公开(公告)号:CN100595900C
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200710107577.2
申请日:2007-05-21
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01L21/677
CPC分类号: B65G47/514 , H01L21/67742 , H01L21/67751 , H01L21/67769 , Y10S414/135 , Y10T29/49829
摘要: 本发明提供了一种用于调整先进先出的缓冲系统,具体说是一种暂时存储多个基板并能够调整先进先出的缓冲系统。该缓冲系统包括一个或多个具有轴和安装固定在轴上的辊筒的缓冲层,用以暂时存储或传递基板,使缓冲层上下移动的垂直移动单元,其使得载有待传递基板的缓冲层与驱动单元连接,驱动单元,其使得载有待传递基板的缓冲层的轴旋转,从而传递基板。
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公开(公告)号:CN101109067A
公开(公告)日:2008-01-23
申请号:CN200710103759.2
申请日:2007-05-23
申请人: 株式会社细美事
发明人: 金庚皓
IPC分类号: C23C14/24
CPC分类号: C23C14/042 , C23C14/243
摘要: 本发明提供一种用于薄膜沉积的旋转式蒸发器及使用其的薄膜沉积装置。该旋转式蒸发器包括具有开口的上表面、内部填充沉积原料的熔炉,加热熔炉的加热单元,以及通过外部提供的预定电力使蒸发器旋转的旋转单元。该使用旋转式蒸发器的薄膜沉积装置,包括用于接受沉积的基板,与基板相连接的掩膜,其用于覆盖基板的一部分使之免受沉积并使基板上需要的部分进行沉积,支承基板和掩膜的基板夹具系统以及利用旋转单元进行旋转的蒸发器。该旋转单元包括具有开口的上表面、内部填充沉积原料的熔炉和加热熔炉的加热单元。
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公开(公告)号:CN101088636A
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200710098261.1
申请日:2007-04-25
申请人: 株式会社细美事
CPC分类号: B08B1/04 , H01L21/67046
摘要: 本发明提供一种用于清洁平板显示器的装置及其所使用的滚刷。该装置包括内壁,中空圆柱形结合部,每一个该结合部与该内壁连接且在其上具有开口,滚刷,每一个该滚刷都包括穿过中空圆柱形结合部开口的旋转轴,与旋转轴结合为一体并具有比结合部外径大的内径的中空圆柱形挡液部件,以及刷体。
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公开(公告)号:CN101740876A
公开(公告)日:2010-06-16
申请号:CN200810177554.3
申请日:2008-11-21
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01Q21/00 , H01Q1/26 , H05H1/46 , H01L21/3065
摘要: 本发明的课题是提供一种等离子天线以及使用该天线的等离子处理装置。解决方案是本发明的实施方式的等离子天线用于等离子发生装置的等离子天线中,前述等离子天线具有下述形状:其接受电源供给部提供的电源,并在分支部向电介质的外周分支,前述分支的天线向中央集中,并在接地部接地。
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公开(公告)号:CN101740158A
公开(公告)日:2010-06-16
申请号:CN200810177553.9
申请日:2008-11-21
申请人: 株式会社细美事
CPC分类号: B29C45/0013 , B29K2995/0005
摘要: 本发明提供一种用于合成具有增强的导电性的导电复合材料的装置和方法。该装置包括:注模机,其对通过混合碳纳米管和聚合物而生成的丸粒进行注模;以及电场发生器,其在对熔化的丸粒进行注模时将电场施加到熔化的丸粒上,从而重新排列包含在熔化的丸粒注模而成的复合材料中的碳纳米管。
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公开(公告)号:CN101452822A
公开(公告)日:2009-06-10
申请号:CN200810111353.3
申请日:2008-05-27
申请人: 株式会社细美事
IPC分类号: H01L21/00 , H01L21/304 , B08B1/04
摘要: 本发明提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板,由基板向下突出设置的多个磁盘刷,设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第1框架和第2框架,分别设置在第1框架和第2框架上部的第1凸缘和第2凸缘,从第1凸缘和第2凸缘贯通第1框架和第2框架的、分别调节第1凸缘和第2凸缘到基板的距离的第1修正部件和第2修正部件。
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