感应化学液体泄漏的装置和方法

    公开(公告)号:CN101403860A

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:CN200810161500.8

    申请日:2008-10-06

    发明人: 金希锡 林泰权

    IPC分类号: G03F7/16 G01M3/26

    CPC分类号: G01M3/26 Y10T137/8158

    摘要: 提供一种感应化学液体泄漏的装置和方法。用于感应化学液体泄漏的装置包括测量提供到处理室的化学液体流速的感应单元、使用测定的化学液体流速来判断是否发生化学液体泄漏并且产生控制信号的过程控制单元、和接收控制信号的输入并控制设备运转的设备控制单元。

    用于薄膜沉积的旋转式蒸发器及使用其的薄膜沉积装置

    公开(公告)号:CN101109067A

    公开(公告)日:2008-01-23

    申请号:CN200710103759.2

    申请日:2007-05-23

    发明人: 金庚皓

    IPC分类号: C23C14/24

    CPC分类号: C23C14/042 C23C14/243

    摘要: 本发明提供一种用于薄膜沉积的旋转式蒸发器及使用其的薄膜沉积装置。该旋转式蒸发器包括具有开口的上表面、内部填充沉积原料的熔炉,加热熔炉的加热单元,以及通过外部提供的预定电力使蒸发器旋转的旋转单元。该使用旋转式蒸发器的薄膜沉积装置,包括用于接受沉积的基板,与基板相连接的掩膜,其用于覆盖基板的一部分使之免受沉积并使基板上需要的部分进行沉积,支承基板和掩膜的基板夹具系统以及利用旋转单元进行旋转的蒸发器。该旋转单元包括具有开口的上表面、内部填充沉积原料的熔炉和加热熔炉的加热单元。

    狭缝喷头及具备该狭缝喷头的药液涂敷装置

    公开(公告)号:CN101088624A

    公开(公告)日:2007-12-19

    申请号:CN200710106114.4

    申请日:2007-05-25

    发明人: 李政桓

    IPC分类号: B05B1/02 B05C5/02 B05C11/10

    摘要: 提供一种可顺畅提供药液,同时容易维持装备状态的狭缝喷头及具备该狭缝喷头的药液涂敷装置。具备形成药液流入的供给孔的第1本体部,与第1本体部对向配置地第2本体部,在上述第1及第2本体部之间配置的、使上述第1及第2本体部间隔所定间隔的隔板的药液涂敷装置。这里隔板最好在第1本体及第2本体部之间形成与供给孔连结的喷出孔。

    狭缝喷头及具备该狭缝喷头的药液涂敷装置

    公开(公告)号:CN101088624B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN200710106114.4

    申请日:2007-05-25

    发明人: 李政桓

    IPC分类号: B05B1/02 B05C5/02 B05C11/10

    摘要: 本发明提供一种可顺畅提供药液,同时容易维持装备状态的狭缝喷头及具备该狭缝喷头的药液涂敷装置。具备形成药液流入的供给孔的第1本体部,与第1本体部对向配置地第2本体部,在上述第1及第2本体部之间配置的、使上述第1及第2本体部间隔所定间隔的隔板的药液涂敷装置。这里隔板最好在第1本体及第2本体部之间形成与供给孔连结的喷出孔。

    基板清洗装置及其修正方法

    公开(公告)号:CN101452822A

    公开(公告)日:2009-06-10

    申请号:CN200810111353.3

    申请日:2008-05-27

    发明人: 尹泰烈 李晟熙

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/304 B08B1/04

    摘要: 本发明提供了一种提高清洗力的基板清洗装置和提高清洗装置的清洗能力为目的的修正方法。基板清洗装置包含基板,由基板向下突出设置的多个磁盘刷,设置在基板上多个磁盘刷两侧的、支承基板的第1框架和第2框架,分别设置在第1框架和第2框架上部的第1凸缘和第2凸缘,从第1凸缘和第2凸缘贯通第1框架和第2框架的、分别调节第1凸缘和第2凸缘到基板的距离的第1修正部件和第2修正部件。