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公开(公告)号：CN119998231A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380070935.4
申请日：2023-10-03
Applicant: 同和热处理技术株式会社 , 株式会社名城毫微碳 , 株式会社大阪曹达
IPC: C01B32/16
Abstract: 一种碳纳米管回收装置，其回收碳纳米管，该碳纳米管回收装置具备回收碳纳米管的回收室，回收室具有壳体和设于壳体的下方的储存容器，壳体具有与碳纳米管生成装置相通的第1开口部、对第1开口部进行开闭的开闭机构、以及与储存容器相通的第2开口部，储存容器相对于该壳体拆装自如地安装。
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公开(公告)号：CN107429377A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680019600.X
申请日：2016-03-31
Applicant: 同和热处理技术株式会社
Abstract: 在钢部件的氮化处理方法中，在氮势为能够在钢部件的表面生成γ’相或ε相的氮化铁化合物层的氮化气体气氛中进行钢部件的氮化处理工序，之后，进行使钢部件在425℃～600℃的氮化铁化合物层不生长的气氛中历经5分钟以上而通过的通过工序，使氮化铁化合物层的最表层成为γ’相，并且使氮化铁化合物层的40％以上析出γ’相。
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公开(公告)号：CN104334766B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201380020718.0
申请日：2013-04-17
Applicant: 同和热处理技术株式会社 , 本田技研工业株式会社 , 新日铁住金株式会社
CPC classification number: C23C8/26 , C21D1/06 , C21D1/76 , C21D6/02 , C21D9/28 , C21D9/32 , C21D2201/05 , C21D2211/004 , C21D2221/00 , C22C38/001 , C22C38/002 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/06 , C22C38/22 , C22C38/24 , F16H55/06
Abstract: 本发明是在具有规定成分的钢构件的表面形成有氮化铁化合物层的氮化钢构件；关于利用X射线衍射对该氮化钢构件的表面进行测定得到的Fe4N的(111)晶面的X射线衍射峰强度IFe4N(111)和Fe3N的(111)晶面的X射线衍射峰强度IFe3N(111)，IFe4N(111)/{IFe4N(111)+IFe3N(111)}所示的强度比为0.5以上；前述氮化铁化合物层的维氏硬度为900以下，前述氮化铁化合物层正下方的母材的维氏硬度为700以上，且前述氮化铁化合物层的维氏硬度与前述母材的维氏硬度之差为150以下；前述氮化铁化合物层的厚度为2～17μm。
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公开(公告)号：CN105705678A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201480060931.9
申请日：2014-10-31
Applicant: 同和热处理技术株式会社
CPC classification number: C23C16/27 , C01B32/05 , C01B32/25 , C23C14/0036 , C23C14/0635 , C23C14/14 , C23C14/34 , C23C14/345 , C23C16/26 , C23C16/515 , C23C28/046 , C23C28/048
Abstract: [课题]本发明能够无需恒温装置之类的大型设备、腔室内的气体压力为低压时成膜速度也不下降地制造硬度及密合性优异的DLC覆膜。[解决手段]本发明提供DLC覆膜的成膜方法，其为通过等离子体CVD法在基材上形成DLC覆膜的成膜方法，将使用直流脉冲电源施加于基材的电压设为偏置电压，作为供给于腔室内的成膜气体使用乙炔气体或甲烷气体，并且对于腔室内的气体的总压，在使用甲烷气体的情况下设为0.5Pa以上且3Pa以下，使用乙炔气体的情况下设为0.3Pa以上且3Pa以下，前述偏置电压设为0.9kV以上且2.2kV以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112601923A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201980055498.2
申请日：2019-08-21
Applicant: 同和热处理技术株式会社 , 丰田自动车株式会社
Abstract: 一种热处理装置，其具有：处理室单元，其在炉壳的内部装卸自如地固定于该炉壳；以及供电部，处理室单元具有：处理容器，在该处理容器进行工件的热处理；隔热构件，其设于处理容器的内部；加热器，该加热器的发热体位于处理容器的内部，且该发热器的端子位于处理容器的外部；以及母线，其设于处理容器的外部，且与加热器的端子电连接，供电部设于处理容器的外部，母线和供电部装卸自如地连接。
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公开(公告)号：CN109312444B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201780037897.7
申请日：2017-09-27
Applicant: 同和热处理技术株式会社
Abstract: 在连续氮化处理炉中设置氮化室、加热器、第1氮化区以及温度比第1氮化区的气氛气体温度低25℃～150℃的第2氮化区，构成为使第1氮化区的气氛气体流入到第2氮化区，构成为实施在第1氮化区中在钢构件的表面形成由ε相或ε相和γ’相构成的铁氮化化合物层、在第2氮化区中使γ’相析出到铁氮化化合物层的氮化处理。
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公开(公告)号：CN105705678B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201480060931.9
申请日：2014-10-31
Applicant: 同和热处理技术株式会社
Abstract: [课题]本发明能够无需恒温装置之类的大型设备、腔室内的气体压力为低压时成膜速度也不下降地制造硬度及密合性优异的DLC覆膜。[解决手段]本发明提供DLC覆膜的成膜方法，其为通过等离子体CVD法在基材上形成DLC覆膜的成膜方法，将使用直流脉冲电源施加于基材的电压设为偏置电压，作为供给于腔室内的成膜气体使用乙炔气体或甲烷气体，并且对于腔室内的气体的总压，在使用甲烷气体的情况下设为0.5Pa以上且3Pa以下，使用乙炔气体的情况下设为0.3Pa以上且3Pa以下，前述偏置电压设为0.9kV以上且2.2kV以下。
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公开(公告)号：CN105593394A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201480053979.7
申请日：2014-09-30
Applicant: 同和热处理技术株式会社 , 本田技研工业株式会社
CPC classification number: C23C8/26 , C21D1/06 , C21D9/0056 , C21D9/32 , C23C8/80
Abstract: 进行第一氮化处理工序，在该第一氮化处理工序中，在可生成γ’相或者ε相的氮化化合物层的氮势的氮化气气氛中对钢构件进行氮化处理，其后，进行第二氮化处理工序，在该第二氮化处理工序中，在氮势比第一氮化处理工序的氮势低的氮化气气氛中对钢构件进行氮化处理，由此，使氮化化合物层中析出γ’相。能够在被处理零件整体上均匀地生成所期望的相态的氮化化合物层，制造出具有高的耐点蚀性和弯曲疲劳强度的氮化钢构件。
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