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公开(公告)号：CN116970343B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202310965201.4
申请日：2023-08-02
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种用于曲面玻璃盖板抛光的稀土抛光液及其制备方法和应用。该稀土抛光液包括稀土磨粉、无机凝胶、聚合物盐、乙二胺四乙酸盐、多聚磷酸酯盐和C2～C6羧酸；在稀土抛光液中，稀土磨粉的质量浓度为50wt％以上；基于所述稀土磨粉的重量，无机凝胶的用量为0.30～0.95wt％，聚合物盐的用量为0.2～0.8wt％，乙二胺四乙酸盐的用量为0.05～2.0wt％，多聚磷酸酯盐的用量为0.05～0.8wt％，C2～C6羧酸的用量为0.2～0.8wt％。本发明的稀土抛光液的稀土磨粉的质量浓度较高，可达50wt％以上，且其比较稳定，不易分层，不易板结，可用于曲面玻璃盖板抛光。
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公开(公告)号：CN107353833A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710607527.4
申请日：2017-07-24
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/768
Abstract: 本发明公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料，包括：水、氧化铈、分散剂、聚甲基丙烯酸盐、pH缓冲调节剂；按照质量百分比计，氧化铈的含量为0.3-25％，聚甲基丙烯酸盐为固体氧化铈的0.05％-5％，分散剂为聚甲基丙烯酸盐的10％-50％，pH缓冲调节剂含量为4％-6％。本发明还公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺。本发明得到的CMP氧化铈抛光浆料具有选择性高、切削速率高、耐磨性好、颗粒集中、不团聚等优点，适于工业生产和控制。
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公开(公告)号：CN116694233A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310978520.9
申请日：2023-08-04
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/321
Abstract: 本发明公开了一种抛光组合物及其制备方法和用途，基于抛光组合物的总重量，抛光组合物包括如下组分：研磨颗粒0.2～12wt%，聚(甲基)丙烯酸盐0.01～10wt%，C5‑C12多元醇0.1～28wt%，和C2‑C8羧酸0.5～5wt%。本发明的抛光组合物可用于有效地抛光ITO层，并且相对于抛光停止层可以具有较高的抛光速率以及抛光选择比。
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公开(公告)号：CN112062146A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010835590.5
申请日：2020-08-19
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C01F17/218 , C01F17/206 , C01F17/10
Abstract: 本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料及其制备方法，制备方法包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物。本发明制备的铈钇抛光浆料纯度高，金属钠离子含量小于0.5ppm，分散性好、颗粒均匀、研磨效率高。
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公开(公告)号：CN118978866A
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202411072024.8
申请日：2024-08-06
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司 , 中国北方稀土(集团)高科技股份有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种含氟稀土抛光粉及其制备方法和抛光组合物。该含氟稀土抛光粉的制备方法包括如下步骤：将氟碳酸稀土在400～600℃下焙烧0.5～3h，得到一次焙烧物；将一次焙烧物在600～850℃下焙烧0.5～3h，得到二次焙烧物；将二次焙烧物在850～1200℃下焙烧1～8h，得到三次焙烧物；将三次焙烧物粉碎，得到含氟稀土抛光粉。本发明的制备方法能够提高含氟稀土抛光粉的研削力，降低含氟稀土抛光粉的划伤率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116694233B
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202310978520.9
申请日：2023-08-04
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: H01L21/321 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种抛光组合物及其制备方法和用途，基于抛光组合物的总重量，抛光组合物包括如下组分：研磨颗粒0.2～12wt%，聚(甲基)丙烯酸盐0.01～10wt%，C5‑C12多元醇0.1～28wt%，和C2‑C8羧酸0.5～5wt%。本发明的抛光组合物可用于有效地抛光ITO层，并且相对于抛光停止层可以具有较高的抛光速率以及抛光选择比。
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公开(公告)号：CN116970343A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202310965201.4
申请日：2023-08-02
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种用于曲面玻璃盖板抛光的稀土抛光液及其制备方法和应用。该稀土抛光液包括稀土磨粉、无机凝胶、聚合物盐、乙二胺四乙酸盐、多聚磷酸酯盐和C2～C6羧酸；在稀土抛光液中，稀土磨粉的质量浓度为50wt％以上；基于所述稀土磨粉的重量，无机凝胶的用量为0.30～0.95wt％，聚合物盐的用量为0.2～0.8wt％，乙二胺四乙酸盐的用量为0.05～2.0wt％，多聚磷酸酯盐的用量为0.05～0.8wt％，C2～C6羧酸的用量为0.2～0.8wt％。本发明的稀土抛光液的稀土磨粉的质量浓度较高，可达50wt％以上，且其比较稳定，不易分层，不易板结，可用于曲面玻璃盖板抛光。
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公开(公告)号：CN116656244A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310891589.8
申请日：2023-07-20
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C09G1/02 , H01L21/3105 , H01L21/762
Abstract: 本发明公开了一种用于鳍式场效应晶体管的化学机械抛光组合物，包括：研磨粒子、添加剂，添加剂包括：研磨抑制剂、研磨选择剂、介质水、pH调节剂，研磨粒子起到研磨作用，研磨粒子为二氧化铈包覆的无机氧化物颗粒；研磨抑制剂用于降低氧化物沟槽研磨力，研磨抑制剂选用有机高分子酸及其衍生物或者盐所形成的聚合物中的一种或者多种；研磨选择剂用于降低氮化硅研磨力，研磨选择剂选用多元醇；pH调节剂用于调整组合物的pH值和Zeta电位。本发明还公开了一种用于鳍式场效应晶体管的化学机械抛光组合物及制备方法。本发明得到的组合物能够有效降低氧化物沟槽的碟型坑形成，并且组合物有宽pH适用范围。
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公开(公告)号：CN100519421C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200410097548.9
申请日：2004-11-26
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C01F17/00
Abstract: 本发明是一种制备白色氧化铈的方法。本发明的技术特点是以碳酸铈或其他铈类化合物为原料，经氟化处理，再经焙烧、冷却处理，可以得到白色氧化铈，其真比重为6～8g/cm3，TREO≥85%，CeO2/TREO≥90%Pr6O11/TREO＜1%，可用作为抛光材料。
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公开(公告)号：CN116873967A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310236021.2
申请日：2020-08-19
Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
IPC: C01F17/218 , C01F17/206 , C01F17/10 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料的制备方法，包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物。本发明制备的铈钇抛光浆料纯度高，金属钠离子含量小于0.5ppm，分散性好、颗粒均匀、研磨效率高。
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