Invention Publication
- Patent Title: CMP用铈钇研磨材料的制备方法
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Application No.: CN202310236021.2Application Date: 2020-08-19
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Publication No.: CN116873967APublication Date: 2023-10-13
- Inventor: 周薇 , 赵延 , 刘露涛 , 程磊 , 杜悦 , 王泽 , 门宇剑 , 黄绍东 , 杨国胜 , 张存瑞
- Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
- Applicant Address: 内蒙古自治区包头市稀土高新区校园路东39号
- Assignee: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
- Current Assignee: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
- Current Assignee Address: 内蒙古自治区包头市稀土高新区校园路东39号
- Agency: 北京康盛知识产权代理有限公司
- Agent 张良
- Main IPC: C01F17/218
- IPC: C01F17/218 ; C01F17/206 ; C01F17/10 ; C09G1/02
Abstract:
本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料的制备方法，包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物。本发明制备的铈钇抛光浆料纯度高，金属钠离子含量小于0.5ppm，分散性好、颗粒均匀、研磨效率高。
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