公开(公告)号：CN116873967A

公开(公告)日：2023-10-13

申请号：CN202310236021.2

申请日：2020-08-19

Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司

Inventor： 周薇 ,  赵延 ,  刘露涛 ,  程磊 ,  杜悦 ,  王泽 ,  门宇剑 ,  黄绍东 ,  杨国胜 ,  张存瑞

IPC: C01F17/218 ,  C01F17/206 ,  C01F17/10 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料的制备方法，包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物。本发明制备的铈钇抛光浆料纯度高，金属钠离子含量小于0.5ppm，分散性好、颗粒均匀、研磨效率高。

公开(公告)号：CN112062146A

公开(公告)日：2020-12-11

申请号：CN202010835590.5

申请日：2020-08-19

Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司

Inventor： 周薇 ,  赵延 ,  刘露涛 ,  程磊 ,  杜悦 ,  王泽 ,  门宇剑 ,  黄绍东 ,  杨国胜 ,  张存瑞

IPC: C01F17/218 ,  C01F17/206 ,  C01F17/10

Abstract: 本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料及其制备方法，制备方法包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物。本发明制备的铈钇抛光浆料纯度高，金属钠离子含量小于0.5ppm，分散性好、颗粒均匀、研磨效率高。

公开(公告)号：CN119119874A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411277646.4

申请日：2024-09-12

Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司 ,  中国北方稀土(集团)高科技股份有限公司

Inventor： 卢华晟 ,  周薇 ,  范伟 ,  张存瑞 ,  赵延 ,  刘露涛

IPC: C09G1/02 ,  B24B57/00 ,  B24B7/24

Abstract: 本发明公开了一种含氧化铈的抛光组合物及其制备方法和用途。该抛光组合物包括450～600重量份氧化铈、200～600重量份水、0.5～4重量份纤维素类化合物、6～15重量份含聚酰胺化合物和0.2～4重量份有机酸。该抛光组合物具有较高的粘度和较短的抛光时间。

公开(公告)号：CN112080207B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202010835858.5

申请日：2020-08-19

Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司

Inventor： 黄绍东 ,  杨国胜 ,  张存瑞 ,  周薇 ,  赵延 ,  刘露涛 ,  程磊 ,  杜悦 ,  王泽 ,  门宇剑

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法，包括：制备稀土元素镧、铈、钐、钇的氟碳酸稀土，氟的加入量为REO的5％～10％；氟碳酸稀土的焙烧和粒度分级制得稀土抛光粉；稀土抛光粉包括：氧化镧、氧化铈、氧化钐和氧化钇。本发明通过精确计算Y2O3的加入量使CeO2晶格常数变小，形成氧空位，增强了抛光粉的耐磨性、研削力、反应活性。

公开(公告)号：CN112080207A

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN202010835858.5

申请日：2020-08-19

Applicant: 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司

Inventor： 黄绍东 ,  杨国胜 ,  张存瑞 ,  周薇 ,  赵延 ,  刘露涛 ,  程磊 ,  杜悦 ,  王泽 ,  门宇剑

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法，包括：制备稀土元素镧、铈、钐、钇的氟碳酸稀土，氟的加入量为REO的5％～10％；氟碳酸稀土的焙烧和粒度分级制得稀土抛光粉。本发明还公开了一种稀土抛光粉，包括氧化铈和氧化钇，氧化铈的稀土氧化物总量占比CeO2/TREO＝45w％～85w％，氧化钇的稀土氧化物总量占比Y2O3/TREO＝1w％～10w％，摩尔比REO：Y2O3＝1：0.015～0.15。本发明通过精确计算Y2O3的加入量使CeO2晶格常数变小，形成氧空位，增强了抛光粉的耐磨性、研削力、反应活性。