本发明公开了一种用于鳍式场效应晶体管的化学机械抛光组合物，包括：研磨粒子、添加剂，添加剂包括：研磨抑制剂、研磨选择剂、介质水、pH调节剂，研磨粒子起到研磨作用，研磨粒子为二氧化铈包覆的无机氧化物颗粒；研磨抑制剂用于降低氧化物沟槽研磨力，研磨抑制剂选用有机高分子酸及其衍生物或者盐所形成的聚合物中的一种或者多种；研磨选择剂用于降低氮化硅研磨力，研磨选择剂选用多元醇；pH调节剂用于调整组合物的pH值和Zeta电位。本发明还公开了一种用于鳍式场效应晶体管的化学机械抛光组合物及制备方法。本发明得到的组合物能够有效降低氧化物沟槽的碟型坑形成，并且组合物有宽pH适用范围。