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公开(公告)号：CN115248538B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN114355621A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
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公开(公告)号：CN114114674A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202210093399.7
申请日：2022-01-26
Abstract: 本发明公开了一种基于无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括两对光束偏转器、第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一透镜、第二透镜、第一光电感应器、第二光电感应器和控制器等部件。本发明利用光束偏转器实现光束的位置和角度控制，完全消除控制执行部件中的机械运动，消除环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率（可以达到1 MHz以上）的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN114019765A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN113703170A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113654656A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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公开(公告)号：CN113515016A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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公开(公告)号：CN109870441B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201910238571.1
申请日：2019-03-27
Applicant: 浙江大学
IPC: G01N21/64
Abstract: 本发明公开一种基于移频的三维超分辨光切片荧光显微成像方法和装置，将准直的激光改变为横截面为椭圆形的平行光，椭圆形光斑入射到空间光调制器上后取空间光调制器的正负一级衍射光，两路光分别通过透镜后会聚到光阑，每束光在通过光阑之后被分割为若干的长条形光斑，两路光分别从物镜出射后在探测物镜的焦平面处进行干涉激发样品得到荧光，收集荧光信号得到结构光照明下的一幅二维图像；利用振镜改变结构光的方向，利用空间光调制器改变两路结构光之间的相位差，在二维平面上得到多张结构光照明下的图像；之后用另外一个方向的振镜进行扫描，结合探测物镜压电的移动对三维物镜进行成像，得到超分辨率的三维光片照明图像。
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公开(公告)号：CN109358004B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201811457587.3
申请日：2018-11-30
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种双波长差分非标记显微成像的方法和装置，其中方法包括：利用具有波长差的第一激光与第二激光扫描样品，其中有一束激光为空心光束，另一束激光为实心光束；采集样品发出的信号光，所述的信号光包括由第一激光反射的第一信号光和由第二第一激光反射的第二信号光；对所述第一信号光和第二信号光的数据进行相减处理，得到差分信号，并利用所述差分信号进行重建成像。本发明使用波长接近的两束激光同时照射样品并同时探测从样品面反射的两束激光，然后将探测到的两个信号做差分处理，得到分辨率更高的图像。本发明的横向分辨率高、信噪比高、成像速度快、成像时间长，同时装置简单，方便操作。
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公开(公告)号：CN112326672A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011232223.2
申请日：2020-11-06
IPC: G01N21/88 , G01N21/958 , G01N21/01
Abstract: 本发明公开了一种基于多色并行移频照明的快速成像系统，包括光源、显微物镜、管镜、多色图像探测器阵列、控制模块和数据处理模块，光源包括垂直照明光源和两组以上倾斜照明光源；同一组倾斜照明光源的照明波长相同，不同组倾斜照明光源的照明波长不同；垂直照明光源的照明波长与任一组倾斜照明光源的照明波长不同，或与其中一组倾斜照明光源的照明波长相同。本发明利用照明光场的波长差异性，通过控制模块并行施加多色倾斜照明光场，利用多色图像探测器阵列快速并行采集各照明波长下被观测样品的远场像；借助数据处理模块，结合移频重构算法获取被观测样品宽频段空间频谱信息，重构恢复被观测样品的像，快速提升整个显微系统的成像速度。
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