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公开(公告)号：CN116165850B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202310119397.5
申请日：2023-01-17
Abstract: 本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头，该物镜镜头包括：光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组，第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜；第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜；第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜；第一透镜组负责接收光源，并将光源折射至第二透镜组，第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将收集的光线折射至第三透镜组，第三透镜组将光线将聚焦于基底，物镜镜头中的透镜均处于同一光轴，本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN119138947B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411642566.4
申请日：2024-11-18
Applicant: 浙江大学医学院附属邵逸夫医院
Abstract: 本发明属于外科器械技术领域，提供了一种手术用拉钩组件。本发明包括操作手柄部、钩体连接部和拉钩工作部，手术用拉钩组件包括固定件支架，钩体连接部包括第一连接段，第一连接段连接操作手柄部，第一连接段与拉钩工作部具有夹角，第一连接段的中央设有支架导轨，固定件支架能够在支架导轨内滑动，固定件支架包括靠近拉钩工作部的固定端，固定端设有至少一个固定孔。替代额外设置干扰手术操作以及更换拉钩延长手术时间，同时多次牵开手术区域可能对手术区域的肌肉和神经造成额外损伤；在钩体连接段设置光源组对固定件支架下方区域进行辅助照明，避免固定件支架和临时螺钉产生的阴影对手术者造成影响。
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公开(公告)号：CN118778380B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202411280459.1
申请日：2024-09-13
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN119395899A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202411841259.9
申请日：2024-12-13
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
Abstract: 本发明公开一种复用SLM实现菲涅尔非相干相关全息超分辨显微系统及方法，系统包括：显微镜模块、起偏模块、空间光调制模块、全息探测模块及图像处理模块；显微镜模块使用光源照射样品并将样品光收集；起偏模块包括透镜及偏振单元，形成偏振样品光；空间光调制模块包括空间光调制器及转换单元，将第二调制样品光输入至全息探测模块中；全息探测模块包括第二四分之一波片、成像透镜单元及偏振相机，图像处理模块获取偏振图像集并进行处理，得到再现图像。本方法保持了波带片图案的完整性，解决了现有菲涅尔非相干相关全息技术中随机误差及像质减弱的问题，同时提高系统的灵活性。
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公开(公告)号：CN118068592B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410461710.8
申请日：2024-04-17
Applicant: 浙江大学医学院附属邵逸夫医院
Abstract: 本发明公开一种正视反射成像眼镜，本设备涉及光学成像技术领域，本设备包括，呈位置对称的方式设置在壳罩内的第一平面反射镜和第二平面反射镜，第一平面反射镜和第二平面反射镜两者中心间距为43mm至47mm之间的任意数值。壳罩一侧设有限位夹具，限位夹具具有与壳罩连接的延伸板，延伸板连接有第一限位板，第一限位板两侧分别通过第二限位带和第一限位带连接有第二限位板，第二限位板相对第一限位板侧面具有第一护板，第一护板下方连接有辅助限位件，辅助限位件具有与第一护板下方连接的辅助板，本设备能够解决现有视野转换设备在佩戴舒适以及稳固性方面的缺陷，提升设备佩戴舒适以及稳固性，提升设备使用效果，提高用户体验。
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公开(公告)号：CN118068592A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410461710.8
申请日：2024-04-17
Applicant: 浙江大学医学院附属邵逸夫医院
Abstract: 本发明公开一种正视反射成像眼镜，本设备涉及光学成像技术领域，本设备包括，呈位置对称的方式设置在壳罩内的第一平面反射镜和第二平面反射镜，第一平面反射镜和第二平面反射镜两者中心间距为43mm至47mm之间的任意数值。壳罩一侧设有限位夹具，限位夹具具有与壳罩连接的延伸板，延伸板连接有第一限位板，第一限位板两侧分别通过第二限位带和第一限位带连接有第二限位板，第二限位板相对第一限位板侧面具有第一护板，第一护板下方连接有辅助限位件，辅助限位件具有与第一护板下方连接的辅助板，本设备能够解决现有视野转换设备在佩戴舒适以及稳固性方面的缺陷，提升设备佩戴舒适以及稳固性，提升设备使用效果，提高用户体验。
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公开(公告)号：CN112666803B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110048240.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN112505064B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202011506981.9
申请日：2020-12-18
Applicant: 之江实验室 , 浙江大学 , 中电科风华信息装备股份有限公司
IPC: G01N21/95
Abstract: 本发明是一种晶圆缺陷检测系统及方法，包括处理单元、控制组件、位移组件、检测组件和信号采集单元，所述位移组件与检测组件配合设置，位移组件通过位移控制检测组件的检测信号采集及运动，所述控制组件通过指令控制位移组件的移动，间接控制检测组件的检测信号采集，所述检测组件采集的信号及控制组件的指令信息传输到信号采集单元，所述信号采集单元将采集的信号传输给处理单元处理，得到缺陷信息；本发明降低了对面阵探测器灵敏度的要求，可以有效地降低探测器成本；相对传统扫描方式，可以极大的提升整个系统的检测速度；由于面阵探测器在面区域曝光过程中不移动，可以改善传统扫描方式抖动模糊的问题，提高缺陷的检测识别率。
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公开(公告)号：CN115826364A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211493606.4
申请日：2022-11-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于双步双光子效应的高通量超分辨纳米刻写方法与装置，将存在延时的一个激发光和一个促进光合束，入射到数字微镜器件，随后成像到三维样品台的基板上涂覆的具有双步双光子效应的光刻胶上；根据所需刻写结构控制数字微镜器件，完成基板所在焦面处的曝光，同时控制三维样品台，以及激发光和促进光的延时，使延时大于光刻胶分子的单重态的激发态S1到多重态T1，进而实现双步双光子效应，实现任意三维纳米结构的刻写；激发光和促进光为同一波长且重复频率相同的激光束，且激发光的脉宽为飞秒，促进光的脉宽为皮秒或者纳秒。本发明实现超分辨激光刻写，并且结合数字微镜器件，进而实现高通量刻写能力。
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公开(公告)号：CN115598833A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211046913.8
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于方形多模光纤高通量的三维激光直写方法及系统，本发明将由多个方形多模光纤组成的光纤阵列作为激光直写头，每一方形多模光纤均利用一空间光调制器对入射方形多模光纤的光场根据加载的计算好的相位图进行相位调制，在出射面实现聚焦，聚焦后的激光对待加工物体进行三维激光直写；其中，每一方形多模光纤对应的计算好的相位图通过设置的聚焦位置，利用闭环的迭代遗传算法进行优化获得，每一方形多模光纤出射激光的聚焦位置根据光纤阵列排列时的加工误差进行设置。利用方形多模光纤可以紧致排列的特点，可将系统拓展为多通道，继而实现多通道并行直写，直写效率进一步提高，解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
