磁头
    71.
    发明公开
    磁头 有权

    公开(公告)号:CN113409829A

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202010951377.0

    申请日:2020-09-11

    Abstract: 提供能够提高记录密度的磁头。根据实施方式,磁头包括第1屏蔽件、第2屏蔽件、磁极、第1磁性层以及第1非磁性部件。第1屏蔽件包括第1部分区域~第3部分区域。从第2部分区域朝向第3部分区域的方向沿着第1方向。第1部分区域的位置处于第2部分区域与第3部分区域的位置之间。从第1屏蔽件朝向第2屏蔽件的第2方向与第1方向交叉。磁极设置在第1部分区域与第2屏蔽件之间。磁极处于第2部分区域与第3部分区域之间。第1磁性层处于磁极与第2屏蔽件之间。第1非磁性部件包括第1部分、第2部分。第1部分处于磁极与第1磁性层之间。第2部分在第2方向上处于第2部分区域与第2屏蔽件之间。第2部分与第2部分区域电连接。

    磁记录装置
    72.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113393868A

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202010945118.7

    申请日:2020-09-10

    Abstract: 提供能提高记录密度的磁记录装置。根据实施方式,磁记录装置包括磁头、磁记录介质以及电气电路。所述磁头包括磁极、第1屏蔽件以及设置在所述磁极与所述第1屏蔽件之间的层叠体。所述层叠体包括:第1磁性层、设置在所述磁极与所述第1磁性层之间的第2磁性层、设置在所述第2磁性层与所述第1磁性层之间的第1非磁性层、设置在所述第1磁性层与所述第1屏蔽件之间的第2非磁性层以及设置在所述磁极与所述第2磁性层之间的第3非磁性层。

    磁头以及磁记录装置
    73.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112786074A

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN202010952619.8

    申请日:2020-09-11

    Abstract: 提供能够提高记录密度的磁头以及磁记录装置。根据实施方式,磁记录装置包括磁头和电气电路。所述磁头包括第1磁极、第2磁极以及设置在所述第1磁极与所述第2磁极之间的层叠体。所述层叠体包括:第1非磁性层;第1磁性层,其设置在所述第1非磁性层与所述第2磁极之间;第1层,其设置在所述第1磁性层与所述第2磁极之间;第2非磁性层,其设置在所述第1层与所述第2磁极之间;第2磁性层,其设置在所述第2非磁性层与所述第2磁极之间;以及第3非磁性层,其设置在所述第2磁性层与所述第2磁极之间。所述电气电路向所述层叠体供给第1电流,所述第1电流具有从所述第2磁极朝向所述第1磁极的第1方向。

    磁头以及磁记录装置
    74.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112614517A

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202010933146.7

    申请日:2020-09-08

    Abstract: 提供能够提高记录密度的磁头以及磁记录装置。根据实施方式,磁记录装置包括磁头和电气电路。磁头包括磁极、第1屏蔽件、和设置在磁极与第1屏蔽件之间的层叠体。层叠体包括第1磁性层、第2磁性层、设置在第1磁性层与第2磁性层之间的第1层以及设置在第1磁性层与第1层之间的第1非磁性层,所述第1层包含选自由Ta、Zr、Hf、Mo、W、Tc、Re、Ru、Rh、Os、Ir、Pd、Pt、Mn、Cr、V、Ti、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、GD、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb以及Lu构成的组中的至少一种。电气电路向层叠体供给电流。

    磁头以及磁记录装置
    75.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112466341A

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN202010170190.7

    申请日:2020-03-12

    Abstract: 提供能提高记录密度的磁头及磁记录装置。磁头包括磁极、第1屏蔽件、第1磁性层~第3磁性层及第1中间层~第4中间层。第1磁性层~第3磁性层分别设置在磁极与第1屏蔽件之间、第1磁性层与第1屏蔽件之间、第2磁性层与第1屏蔽件之间。第1中间层设置在磁极与第1磁性层之间,包含选自由Au、Cu、Ag、Al以及Ti构成的第1组的至少一种。第2中间层设置在第1磁性层与第2磁性层之间,包含选自由Ta、Ir、W、Mo、Cr、Tb、Rh以及Pd构成的第2组的至少一种。第3中间层设置在第2磁性层与第3磁性层之间,包含选自第1组的至少一种。第4中间层设置在第3磁性层与第1屏蔽件之间,包含选自第2组的至少一种。

    磁阻效应元件的制造方法
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101488554A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200910007723.3

    申请日:2007-02-16

    CPC classification number: G01R33/093 B82Y25/00 G11B5/3932

    Abstract: 本发明的磁阻效应元件的制造方法包括下列步骤:形成构造体,该构造体包括:包括磁化方向根据外部磁场而变化的磁化自由层、磁化方向固定于一个方向的磁化固定层、以及置于磁化自由层和磁化固定层之间的中间层的磁阻效应薄膜;置于磁阻效应薄膜的磁化固定层上的磁耦合层;置于磁耦合层上的铁磁层;置于铁磁层上的反铁磁层;在与磁阻效应薄膜的薄膜表面平行并与磁化固定层的磁化方向垂直的方向上对磁化自由层施加偏置磁场的偏置机构部;以及用以使电流在从磁化固定层至磁化自由层的方向上通过的一对电极;以及对磁化自由层赋予初始磁化方向,该初始磁化方向相对于磁化固定层的磁化方向的角度大于等于100°且小于160°。

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