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公开(公告)号：CN116990906A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202310766642.1
申请日：2023-06-27
申请人： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
摘要： 本发明涉及一种基于MZ结构的硅铌酸锂混合集成电光调制器及其制备方法，由下至上包括衬底、硅波导层、隔离层、铌酸锂层和金属层；其中，所述铌酸锂层由底部slab与上部rib的脊型波导结构组成。本发明降低了整个器件的插入损耗，同时减少光在硅波导中传输的材料局限性，如双光子吸收效应等；另外，本器件的铌酸锂波导最小线宽为2um，在保持器件优异性能的情况下，降低了对铌酸锂刻蚀精度的要求，增大了器件对刻蚀工艺的容差。
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公开(公告)号：CN116931266A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202210348966.9
申请日：2022-04-01
申请人： 华为技术有限公司
发明人： 赵骁宇
摘要： 本申请涉及一种光学结构及其制备方法、AR显示设备，该光学结构衬底，及位于所述衬底上的至少一层的衍射光学波导，所述衍射光学波导包括周期性间隔设置的第一透光区和第二透光区，其中，所述衍射光学波导包括聚合物材料，所述第二透光区设有多个孔洞，所述多个孔洞内填充有气体；所述第一透光区的孔隙率小于所述第二透光区的孔隙率。本申请的衍射光学波导包括聚合物材料，第二透光区内设有多个填充有气体的孔洞，由于气体和聚合物材料的存在，导致第一透光区和第二透光区的孔隙率差异较大，从而使得第一透光区的折射率大于第二透光区的折射率，相对于单一的透光区而言，本申请的光学结构能够在不增加色散的情况下提高折射率调制度。
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公开(公告)号：CN116859511A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310851298.6
申请日：2023-07-12
申请人： 吉林大学
IPC分类号： G02B6/124
摘要： 一种基于二维光栅结构的少模层间耦合器及其制备方法，属于平面光波导器件及其制备技术领域。本发明由硅片衬底、在硅片衬底上制备的二氧化硅下包层、在二氧化硅下包层上制备的聚合物层间耦合层、在聚合物层间耦合层和二氧化硅下包层上制备的聚合物上包层组成，聚合物层间耦合层被包覆在聚合物上包层之中；上层氮化硅直波导芯由上层氮化硅直波导和上层二维光栅波导组成，下层氮化硅直波导芯层由下层二维光栅波导和下层氮化硅直波导组成。本发明充分发挥了氮化硅波导传输损耗低、透明窗口宽、热稳定性高的优势，以及聚合物材料种类多、制备工艺简单等优势，并且这两种材料还具备工艺成熟、相互兼容的特点，适合大规模制备生产，具有重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN113341501B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202010830200.5
申请日：2020-08-18
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
摘要： 本公开的各种实施例涉及一种集成芯片及其形成方法，所述集成芯片包括上覆在光栅耦合器结构上的保护环结构。波导结构设置在半导体衬底内且包括光栅耦合器结构。内连结构上覆在半导体衬底上。所述内连结构包括接触件刻蚀停止层(CESL)及位于半导体衬底之上的导电接触件。所述导电接触件延伸穿过接触件刻蚀停止层。所述保护环结构延伸穿过接触件刻蚀停止层且具有与导电接触件的上表面对齐的上表面。
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公开(公告)号：CN116338856B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310423175.2
申请日：2023-04-19
申请人： 嘉兴驭光光电科技有限公司
摘要： 公开了一种显示用光波导装置和显示设备。该光波导装置的输入部包括第一波导基板和形成在其表面上的第一浮雕光栅，第一浮雕光栅和第一波导基板的折射率n1、n2满足n2＜n1，使得预定视场角范围内任一入射角的光束经预定级次的衍射后在离开第一浮雕光栅所在区域前在所述表面上经过的最大平均反射次数为N，N≤2，且当N≤1时，N≤M‑0.25；当1＜N≤1.5时，N≤M‑0.5；当1.5＜N≤2时，N≤M‑0.75，M为假设第一波导基板与第一浮雕光栅折射率相同情况下的最大平均反射次数。根据本发明，减少了光在光栅所在区域的反射次数，降低反射损失，提高耦入综合效率。
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公开(公告)号：CN116626808A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310454818.X
申请日：2023-04-18
申请人： 深圳珑璟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例涉及光波导技术领域，公开了一种二维扩瞳体全息光波导及其制作方法和装置，该光波导包括波导基底和设置在波导基底的转折光栅，转折光栅包括在波导基底的厚度方向上重叠第一体全息光栅和第二体全息光栅，第一体全息光栅用于将在波导基底内沿第一方向全反射传播的光束进行第一衍射，第二体全息光栅用于将经第一衍射的光束进行第二衍射以使光束在波导基底沿第二方向传播，可通过相互相干的第一光束和第二光束分别进行第一次曝光得到第一体全息光栅、进行第二次曝光得到第二体全息光栅，该光波导制作方法及装置简单、可避免两束干涉光的偏振方向无法保持一致出现背景光干扰的情况。
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公开(公告)号：CN116594125A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310877880.X
申请日：2023-07-18
申请人： 中天通信技术有限公司 , 中天宽带技术有限公司 , 江苏中天科技股份有限公司
摘要： 本申请提供一种硅光芯片耦合器、光模块及硅光芯片耦合器的加工方法。其中，硅光芯片耦合器包括：芯片基层；覆盖层，设置在芯片基层在第一方向上的表面上并且覆盖芯片基层，覆盖层在第一方向上的表面上设置有安装槽，安装槽在第二方向上延伸至芯片基层和覆盖层的端面上，其中，第一方向和第二方向垂直设置；光波导，设置在芯片基层在第一方向上的表面上并且伸入覆盖层内，光波导与安装槽在第二方向上间隔设置；超构透镜，填充设置在安装槽内，超构透镜包括透镜本体和设置在透镜本体上的刻痕结构，超构透镜在第二方向上的尺寸大于光波导在第二方向的尺寸。应用本申请的技术方案能够有效地解决相关技术中的光纤和光波导的耦合效率低的问题。
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公开(公告)号：CN116560094A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310653043.9
申请日：2023-06-05
申请人： 中光学(上海)科技有限公司 , 中光学集团股份有限公司 , 南阳利达光电有限公司
摘要： 本发明公开了一种AR衍射光波导眼动范围均匀性和视场均匀性的优化方法，是将需要优化的目标函数设置为均匀性参数和平均出光效率，利用算法优化耦入光栅，扩瞳区域光栅的形貌参数，以改善人眼在眼动范围内不同的出瞳位置时，整个视场的出光均匀性和耦出效率。本发明通过优化耦入，扩瞳区域的光栅参数，提高了人眼在不同的出瞳位置时接收到的图像均匀性和亮度，改善AR衍射光波导的整体显示效果。
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公开(公告)号：CN116482929A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310391158.5
申请日：2023-04-12
申请人： 上海鲲游科技有限公司
摘要： 本发明提供了一种掩模结构，掩模结构包括：沿第一方向排列的若干掩模单元；掩模单元沿第一方向的宽度适配于光栅结构的光栅周期；掩模单元包括：第一图形化区域，用于制备光栅单元的凸起部分；第一图形化区域沿第一方向的宽度适配于对应的光栅单元的凸起部分沿第一方向的宽度；第二图形化区域，用于制备光栅单元的凹槽部分；第二图形化区域沿第一方向的宽度适配于对应的光栅单元的凹槽部分沿第一方向的宽度；其中，第二图形化区域具体包括：若干图形化子单元，图形化子单元包括遮光区域与透光区域；凹槽部分的凹槽深度与透光区域沿第一方向的宽度相关。本发明提供的掩膜结构可以用于制备深度调制的光栅结构、降低了工艺复杂度及工艺难度。
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公开(公告)号：CN116430569A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310302777.2
申请日：2023-03-24
申请人： 宁波力显智能科技有限公司
摘要： 本申请涉及一种照明装置、扫描成像方法和全内反射显微成像系统。所述照明装置包括：光源，用于提供多条光线；准直光路，用于接收所述多条光线，并对所述多条光线进行准直，使所述多条光线间相互平行到达波导；所述波导，含有多个耦合入射区域，多个所述耦合入射区域用于将所述多条光线耦合进所述波导的内部，所述多条光线在所述波导中全内反射，反射至目标样品，以使显微成像装置对所述目标样品进行成像。采用本装置能够样品提供均匀的光源，照亮了成像的视野，并使得全内反射显微成像系统的成像最低倍数不被限制，提高了扫描的效率。
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