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公开(公告)号：CN208923072U
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201821698516.8
申请日：2018-10-19
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种晶圆传输机构，晶圆传输机构包括：支架；至少一个晶圆传输装置，其在支架的垂直方向间隔设置；所述晶圆传输装置包括晶圆托架及平移滑轨，平移滑轨设置在支架上，晶圆托架可移动的设置在平移滑轨上，所述晶圆托架在垂直方向上间隔设置。根据本实用新型的晶圆传输机构，结构简单，传输效率高，稳定性好。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206221978U
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201621090244.4
申请日：2016-09-28
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本实用新型公开了一种真空源切换装置，该真空源切换装置包括：真空源；真空源管路，真空源管路与真空源相连且适于连接设备，真空源管路内的空气适于单向从设备流向真空源；真空发生装置；压缩空气源；压缩空气源管路，压缩空气源管路与压缩空气源相连且适于连接真空发生装置；真空发生装置管路，真空发生装置管路与真空发生装置相连且适于连接设备，真空发生装置管路与真空源管路并联，真空发生装置管路内的空气适于单向从设备流向真空发生装置。在真空源无法为设备提供负压环境时，压缩空气源可以为真空发生装置提供压缩空气，这样真空发生装置在压缩空气的作用下产生真空，从而可以为设备提供负压环境，设备可以继续正常工作。
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公开(公告)号：CN201833261U
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201020283470.0
申请日：2010-08-05
Applicant: 清华大学
IPC: B24B29/00
Abstract: 本实用新型公开一种化学机械抛光机的抛光头支架，包括：水平基板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽，所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸；和支撑侧板，所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板，其中所述水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端。根据本实用新型的抛光头支架，结构简单，易于加工，成本低，并且安装精度要求降低，使用该抛光头支架的化学机械抛光机控制精度要求降低，提高了抛光效率。
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公开(公告)号：CN210499744U
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201920720791.3
申请日：2019-05-18
Applicant: 清华大学 , 华海清科股份有限公司
IPC: B24B37/005 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/00
Abstract: 本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器，压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元；正压控制单元的输入端连接正压供给源，负压控制单元的输入端连接负压供给源，正压控制单元的输出端与负压控制单元的输出端共同连接终端元件；第一压力传感器连接在终端元件的气路端口处；正压控制单元、负压控制单元和第一压力传感器分别与控制器连接；控制器获取第一压力传感器采集的终端元件的端口压力，并控制正压控制单元和/或负压控制单元的开关，以使端口压力稳定在预设目标压力。化学机械抛光装置包括与承载头内的压力腔室气路连接的压力控制装置。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209045492U
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201821698430.5
申请日：2018-10-19
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/673
Abstract: 本实用新型公开了一种晶圆缓存装置及后处理单元，晶圆缓存装置包括：壳体和支撑结构，所述壳体内设置有缓存空间且所述壳体上设置有与所述缓存空间连通的开口，所述支撑结构设置在所述缓存空间内且适于支撑晶圆。根据本实用新型的晶圆缓存装置可以稳定地存放晶圆，提高晶圆生产线的加工效率，有效地保护晶圆。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN208020018U
公开(公告)日：2018-10-30
申请号：CN201820357514.6
申请日：2018-03-15
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B57/02
Abstract: 本实用新型公开了一种自清洁抛光液输送装置，自清洁抛光液输送装置包括：基座、悬臂、清洗装置、用于向容水腔内供水的第一输水管和抛光液管，基座上设有基座孔；悬臂可转动地设在基座上，悬臂内限定出容水腔，悬臂下端设有连通容水腔的喷嘴；清洗装置设在悬臂上方以对悬臂进行喷水清洗；第一输水管穿过基座孔后与容水腔连通；抛光液管向上穿过基座孔后向下伸出悬臂。由此，通过基座、悬臂和清洗装置配合，能够把悬臂上的抛光液冲洗掉，可以保证悬臂的表面清洁，从而可以防止抛光液在悬臂上产生结晶，进而可以提升产品的抛光质量。
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公开(公告)号：CN206672910U
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201621085830.X
申请日：2016-09-27
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/687
Abstract: 本实用新型公开了一种晶圆支撑装置，晶圆支撑装置包括：基板；柔性组件，所述柔性组件为多个且连接在所述基板上；晶圆支撑件，所述晶圆支撑件连接在多个所述柔性组件上。在机械手取放晶圆时，柔性组件在感受到压力后可以变形，从而可以缓冲机械手传递来的冲击力，这样可以有效避免晶圆碎片，进而可以降低对机械手的要求，以及可以提高晶圆的取放安全性。
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公开(公告)号：CN202240852U
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201120374836.X
申请日：2011-09-28
Applicant: 清华大学
IPC: B24B29/00
Abstract: 本实用新型公开了一种抛光液挡板，所述抛光液挡板包括：本体，所述本体为环形，所述本体上间隔开地设有多个容纳槽，其中每个所述容纳槽沿竖直方向延伸且下端敞开。根据本实用新型的抛光液挡板通过设置多个沿竖直方向延伸的所述容纳槽，从而可以容纳多个外套筒。在进行化学机械抛光时，所述抛光液挡板可以挡住飞溅出来的抛光液，并可以使抛光液沿所述抛光液挡板的本体的内表面流下以便集中排放，从而不会污染抛光环境。
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公开(公告)号：CN209551448U
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201821698517.2
申请日：2018-10-19
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
IPC: B24B37/10 , B24B37/34 , H01L21/304 , B08B3/02 , B08B13/00
Abstract: 本实用新型公开了一种晶圆的处理装置、化学机械抛光系统。晶圆的处理装置包括：驱动组件以及处理组件，所述驱动组件带动所述晶圆旋转的同时所述处理组件绕垂直于所述晶圆表面的轴线摆动以向所述晶圆表面喷射流体。根据本实用新型实施例的处理装置在对晶圆进行处理时，可以防止损坏晶圆，处理效果好。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN208288551U
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201820433643.9
申请日：2018-03-28
Applicant: 清华大学 , 天津华海清科机电科技有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种兆声清洗装置的喷管及用于晶圆清洗的兆声清洗装置。喷管的一端引入兆声流体，喷管的另一端用于将兆声流体导流到旋转的工件上，喷管包括管本体、过渡弯管和喷头，管本体一端为水孔，喷头连接在管本体的另一端，喷头上设有长条形的喷口，过渡弯管连接在管本体和喷头之间。根据本实用新型的喷管，由于喷口形成为长条形，喷口的长度大于喷口的宽度，使得当工件旋转一圈时，在径向方向上长条形的喷口覆盖的宽度大大增加，使得清洗完整工件表面所需的旋转圈数将大大减少，有效地缩短了清洗时间，提高了清洗效率。
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