公开(公告)号：CN113196442A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980083747.9

申请日：2019-12-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卢多维克·戈代 ,  约瑟夫·C·奥尔森 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: H01J37/305 ,  H01J37/08 ,  H01J37/30

Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。

公开(公告)号：CN113168021A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980080151.3

申请日：2019-12-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 摩根·埃文斯 ,  约瑟夫·C·奥尔森 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B27/44 ,  G02B6/122 ,  G02B6/12

Abstract: 本申请的实施方式大致关于用于形成多个光栅的方法。该方法大致包括在设置于基板上的波导组合器的一个或多个保护的区域上沉积材料，该材料具有当离子束引导朝向基板时抑制设置于波导组合器上的光栅材料移除的厚度；及将离子束引导朝向基板。本文所公开的方法允许在一个或多个未受保护的区域中形成多个光栅，同时在保护的区域中不会形成光栅。

公开(公告)号：CN113167923A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980076789.X

申请日：2019-10-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塔帕什里·罗伊 ,  韦恩·麦克米兰 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B1/04

Abstract: 在本公开内容中提供了具有纳米结构的超颖表面的实施方式，所述纳米结构具有所需的几何轮廓及配置。在一个实施方式中，超颖表面包括形成在基板上的纳米结构，其中该纳米结构的形状为立方形或圆柱形。在另一个实施方式中，超颖表面包括在基板上的多个纳米结构，其中每个纳米结构彼此以大于35nm的间隙间隔开来。在又一个实施方式中，超颖表面包括在基板上的多个纳米结构，其中所述纳米结构由以下至少一者制成：TiO2、氮化硅或非晶硅，或GaN或氧化铝锌或折射率大于1.8且吸收系数小于0.001的任何材料，该基材是透明的，其中该基板的吸收系数小于0.001。

公开(公告)号：CN112805613A

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201980064955.4

申请日：2019-10-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卢多维克·戈代 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B30/00

Abstract: 本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板或设置在基板上的装置层的暴露部分。每个凸起具有在与装置层接触的底表面处的后尾边缘，在每个凸起的顶表面处的前导边缘和从顶表面到装置层的高度。重复以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的至少一个后续深度。

公开(公告)号：CN111742402A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201980014108.7

申请日：2019-01-29

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·尤多夫斯基 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  卢多维克·戈代 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: H01L21/683

Abstract: 此处所述的实施方式涉及具有多个孔穴形成于其中的基板吸盘设备。在吸盘设备的主体中形成所述孔穴。在一个实施方式中，在主体的吸盘表面中形成第一多个通口且延伸至主体的底部表面。在另一实施方式中，在多个孔穴的底部表面中形成第二多个通口且延伸穿过主体至主体的底部表面。

公开(公告)号：CN111492313A

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201880081359.2

申请日：2018-11-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 ,  韦恩·麦克米兰 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  罗伯特·简·维瑟

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  G03F1/22 ,  G03F1/80 ,  H01L21/033 ,  H01L21/3065

Abstract: 本文所述的实施方式涉及用于利用基板制造波导结构的方法。形成具有由基板形成的输入耦合区域、波导区域，和输出耦合区域的波导结构。所述区域是通过将印模压印到抗蚀剂中以形成正波导图案来形成，所述抗蚀剂安置在硬掩模上，所述硬掩模形成在基板表面上。正波导图案的部分和形成在所述部分下的硬掩模被去除。基板被掩模和蚀刻以在输入耦合区域和输出耦合区域中形成光栅。正波导图案的剩余残留部分和安置在所述剩余残留部分下方的硬掩模被去除以形成波导结构，所述波导结构具有由基板形成的输入耦合区域、波导区域，和输出耦合区域。

公开(公告)号：CN111316155A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201880071471.8

申请日：2018-09-04

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  罗伯特·简·维瑟 ,  塔帕什里·罗伊

IPC: G02F1/1335

Abstract: 本文公开的方面涉及用于显示装置的滤色器，且更具体而言涉及用于透射或反射和回收利用液晶显示装置中的光的颜色的滤色器。在一方面中，超颖表面(metasurface)形成在LCD装置中的两个偏光器之间。在另一方面中，超颖表面形成在LCD装置的白色光导上。超颖表面被形成以透射所需颜色的光并且以将非所需颜色的光反射回至光导中，以被回收利用并且通过LCD装置的其他位置。使用滤色器以回收利用反射的光颜色增加了显示装置(诸如LCD装置)的效率。

公开(公告)号：CN111201589A

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201980005019.6

申请日：2019-04-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 ,  摩根·埃文斯 ,  约瑟夫·C·奥尔森

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/67

Abstract: 本文描述的具体实施方式，涉及在基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法，以及使用角度蚀刻系统在循序基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法。方法包括将保持在平台上的基板的部分定位在离子束的路径中。基板上设置有光栅材料。离子束经配置以相对于基板的表面法线的离子束角θ接触光栅材料，并在光栅材料中形成光栅。基板围绕平台的轴线旋转，以在离子束与光栅的表面法线之间产生旋转角φ。光栅相对于基板的表面法线具有倾斜角θ'。由方程式φ＝cos-1(tan(θ')/tan(θ))选出旋转角φ。