微环电光调制器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112230448A

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN202011102516.9

    申请日:2020-10-15

    Abstract: 本发明提供一种微环电光调制器及其制备方法,微环电光调制器包括从下至上的硅衬底、埋氧层、辐射加固层、硅层及氧化硅层;本发明将掺杂离子注入埋氧层中形成辐射加固层,以在辐射加固层中产生大量电子陷阱,从而可俘获电子,以补偿由于高能电离辐射所导致的Si/SiO2界面和体氧化物中所累积的正电荷,以此可降低绝缘埋氧层中正电荷数量,从而在对微环电光调制器施加偏置电压之后,可以有效地减缓P型掺杂板被夹断的速度,增加载流子浓度变化的时长,使得有效折射率可以持续改变,从而可增加微环电光调制器的调制时长,使得微环电光调制器可以在辐射环境中工作更长时间。

    硅基光调制器
    63.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105629522B

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201410620813.0

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明提供一种硅基光调制器,至少包括:脊型波导,所述脊型波导包括平板部和位于所述平板部中间的凸条,所述凸条高于所述平板部;所述脊型波导中形成有第一轻掺杂区和第二轻掺杂区,所述第一轻掺杂区形成于所述凸条中间,且沿所述凸条的延伸方向延伸;所述第二轻掺杂区形成于所述第一轻掺杂区两侧的凸条中和与所述凸条两侧相连的平板部中;所述第一轻掺杂区和所述第二轻掺杂区的掺杂类型相反。在本发明的技术方案中,在脊型波导的凸条内由第一轻掺杂区和第二轻掺杂区形成两个背对背的PN结,在硅基光调制器工作时可以形成两个耗尽区,弥补解决离子注入对准误差的问题,并且提高了硅基光调制器的调制效率。

    一种基于硅光子晶体的三光束分光器

    公开(公告)号:CN108152886A

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201611100701.8

    申请日:2016-12-05

    Abstract: 本发明提供一种基于硅光子晶体的三光束分光器,包括:二维硅光子晶体波导;偏振选择缺陷,设置于所述二维硅光子晶体波导的输入通道,使三光束分光器具有偏振选择功能;功率控制缺陷,设置于所述二维硅光子晶体波导的十字交叉区域,使得三束输出光具有相等的功率输出。本发明通过在二维硅光子晶体波导的输入通道引入不同的偏振选择缺陷,使得分光器具有偏振选择功能,对于TE分光器而言,TE波能够进入并在分光器中传播,而TM波不能进入,对于TM分光器则恰好相反;并且,同时通过在波导的十字交叉区域引入功率控制缺陷,使得三束输出光具有相等的功率输出。本发明具有传输效率高、适用波长范围大、结构简单、易于级联以及工作带宽较大等重要优势。

    一种具有周期结构的半导体及其制备方法

    公开(公告)号:CN102693900B

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201210174632.0

    申请日:2012-05-31

    Abstract: 本发明提供一种具有周期结构的半导体及其制备方法,首先提供一的AAO模板,所述AAO模板包括铝基底和具有周期排列的多个孔道的氧化铝层,于各该孔道内填充光刻胶,并使所述光刻胶覆盖所述氧化铝层,然后去除所述铝基底,接着去除各该孔道的底部以使所述孔道形成通孔,接着键合一半导体衬底及所述氧化铝层,并去除光刻胶,接着于所述通孔内填充半导体材料,最后去除所述氧化铝层,以完成所述具有周期结构的半导体的制备。本发明利用AAO模板实现了半导体周期结构的制备,工艺简单,成本低、可靠性和重复性好、且与半导体工艺兼容,采用本方法可制备出具有纳米级周期结构的半导体,适用于工业生产。

    液压微位移驱动器及微位移装置

    公开(公告)号:CN103552975A

    公开(公告)日:2014-02-05

    申请号:CN201310572651.3

    申请日:2013-11-15

    Abstract: 本发明提供一种液压微位移驱动器及微位移装置,至少包括:设有内腔(18)的缸筒(13);密封所述缸筒(13)两端的上端盖(12)以及下端盖(15);位于所述上端盖上表面的球形凸台(11);所述球形凸台的中心线与所述缸筒的中心线重合;设置于所述下端盖(15)内与所述内腔连通的进油通道(14)以及与所述进油通道(14)导通的进油嘴(17)。本发明提出的液压微位移驱动器采用向密封的缸筒内充进一定压力的液体使得圆柱形管状缸筒产生相应的轴向伸长来实现微位移驱动,具有驱动行程较大、驱动平稳、抗干扰能力强以及皮实耐用等特点,克服了压电晶体驱动行程小、稳定性较差缺陷。

    一种光栅耦合器及其制作方法

    公开(公告)号:CN102692682B

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201210193178.3

    申请日:2012-06-12

    Abstract: 本发明提供一种光栅耦合器及其制作方法,提供一SOI衬底,刻蚀所述SOI衬底的顶层硅,形成周期为500~800nm的耦合光栅,同时于所述顶层硅中隔出CMOS有源区;于所述耦合光栅上制作覆盖于所述耦合光栅及CMOS有源区的栅氧化层;于所述栅氧化层表面形成导电层,刻蚀所述导电层,形成与所述耦合光栅周期相同的覆层结构,同时形成CMOS的栅极结构;最后形成保护层以完成制备。所述耦合光栅、栅氧化层及覆层结构均与CMOS的制备同时完成,可共享掩膜,降低了制作成本;覆盖于栅氧化层上的导电上覆层提高了耦合效率;优化的结构参数使得光栅耦合器的耦合效率显著提高;新颖的光栅耦合器结构使耦合效率对SOI埋氧层厚度的依赖性大为降低,从而放松了对SOI衬底的规格要求。

    具有光栅的单纤三向复用器

    公开(公告)号:CN102879858A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210419042.X

    申请日:2012-10-26

    Abstract: 本发明提供一种具有光栅的单纤三向复用器。该单纤三向复用器至少包括:用于接入第一波长及第二波长的光波信号的输入波导;用于接入第三波长的光波信号的上传波导;第一输出波导;第二输出波导;及多模波导耦合器;该多模波导耦合器用于分离所述第一波长信号及第二波长信号,并使两者分别由第一输出波导及第二输出波导输出;此外,该多模波导耦合器所具有的光栅,能反射所述第三波长的光波信号,并使该光波信号由输入波导输出。优选地,输入波导、上传波导、第一输出波导、第二输出波导及多模波导耦合器均通过对半导体基底的刻蚀来形成。本发明的优点包括:结构紧凑小巧,且制作工艺与CMOS工艺完全兼容,无需复杂工艺,加工成本低。

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