一种基于反射式点衍射干涉仪的位相缺陷检测系统与方法

    公开(公告)号:CN106770335A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201710123331.8

    申请日:2017-03-03

    Abstract: 本发明公开了一种基于反射式点衍射干涉仪的位相缺陷检测系统与方法。该系统包括:点光源、相位采集组件和成像组件;方法为:首先用光纤激光器作为点光源产生一个标准球面波,该球面波经过准直透镜形成平面波,然后利用该平行波透过待测光学元件获取其位相缺陷信息;在待测光学元件后面依据待测元件与CCD靶面的共轭关系放置成像透镜,在该透镜的焦点处倾斜放置一个点衍射板,然后其透射光束经过成像透镜会聚到反射式点衍射板上,由点衍射板反射的参考光与测试光在CCD靶面上叠加,产生高密度线性载频的干涉图,结合无镜成像技术对此干涉图进行解调,即可获得准确的位相缺陷信息。本发明可以实现缺陷的高精度快速扫描检测和缺陷类型的判断。

    泰曼型点源阵列异位同步移相干涉仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN106643475A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201611187788.7

    申请日:2016-12-20

    CPC classification number: G01B9/02

    Abstract: 发明公开了一种泰曼型点源阵列异位同步移相干涉仪及其测量方法,属于光学干涉测量仪器领域。该干涉仪包括点光源及其分光组件、泰曼型主干涉仪和分光成像组件。方法为:点光源发出的球面波经分光组件分成四束后进入主干涉仪,采用分光组件将一个点光源复制成相同的四个,通过调整四个点光源在主干涉仪准直物镜焦面上与光轴的距离,在参考面与测试面的干涉中引入不同的相移量,然后通过分光成像组件在一个CCD上同时获取四幅成像清晰的相移干涉图。本发明具有成本低、抗震性好、对比度好、易于操作等特点,可以用于光学元件的实时高精度检测等领域。

    一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法

    公开(公告)号:CN106501216A

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:CN201611223080.2

    申请日:2016-12-27

    CPC classification number: G01N21/45

    Abstract: 本发明公开了一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法,属于光学干涉测量领域。该方法包括三个步骤:第一步、将待测光学平行平板放入测量光路,测量由光学平行平板前后表面形成的干涉腔的波面偏差;第二步、将光学平行平板放入由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔中,测量透过上述光学平行平板后反射回来的波像差;第三步、将待测光学平行平板从干涉测量腔中移除,测量由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔的波面偏差;然后根据三次测量结果计算待测光学平行平板的均匀性分布。本方法步骤少、操作简单、精度高,可以用于激光器工作物质、航天器窗口玻璃的光学平行平板折射率均匀性分布的高精度测量。

    平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法

    公开(公告)号:CN105092530A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201510263169.0

    申请日:2015-05-21

    Abstract: 本发明公开了一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法。步骤为:对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶前表面进行一次干涉测量;在待测平行平晶后面放置反射参考平晶,对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量;对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶后表面进行一次干涉测量;对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次空腔干涉测量;用第二透射参考平晶替换第一透射参考平晶,对第二透射参考平晶和第一透射参考平晶工作面进行一次干涉测量;对第二透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量;综合测量结果,得到待测平行平晶的光学非均匀性。本发明简单易行、精确高效,测量对象不受前后表面平行度的限制。

    斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法

    公开(公告)号:CN103983366A

    公开(公告)日:2014-08-13

    申请号:CN201410239682.1

    申请日:2014-05-30

    Abstract: 本发明公开了一种斜入射反射型点衍射板及其干涉测量方法。该点衍射板的基底采用折射率均匀的光学玻璃,且该光学玻璃为平行平板结构;所述基底的入射面上部镀有增透膜、下部镀有介质膜,基底的反射面上部镀有高反膜、下部镀有增透膜;所述入射面下部的介质膜内设有一个椭圆孔;所述基底反射面上部的高反膜在入射面上的投影与入射面下部的介质膜部分重叠,使反射面上部的高反膜只将入射光反射一次。干涉测量方法为:(1)调整点衍射板的位置,(2)用探测器采集载频干涉图,(3)对干涉图进行傅里叶变换处理恢复波前相位,(4)对恢复的相位进行Zernike拟合,(5)系统误差标定。本发明对激光瞬态波前检测的精度高、成本低,且测试过程简单方便。

    基于谷值功率锁定的半外腔线偏振干涉光源及其设计方法

    公开(公告)号:CN119787077A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411927146.0

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种基于谷值功率锁定的半外腔线偏振干涉光源及其设计方法。装置包括激光电源、激光器、电热丝、保温胶、分光器BS、PD光电池和激光稳频系统;设计方法关键在于:所述激光器为三纵模半外腔线偏氦氖激光器,激光器内置布儒斯特窗,激光器的关键参数由纵模光强耦合模型计算得到,两个边模可被完全抑制,形成光强调谐曲线中的高占比谷底,便于稳频算法识别实现中心纵模频率锁定。本发明的方法可以使激光器的输出功率达到2.4mW以上,克服了传统双纵模稳频干涉光源功率受限的缺点,提高了单模功率转化效率,为迅速发展的超精密加工与测量技术等各种领域提供一种单模转化完整、输出功率高、波长稳定性较好的新型稳频技术和新型干涉光源。

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