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公开(公告)号：CN105383219A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510829873.8
申请日：2015-11-24
申请人： 张洪岩
发明人： 张洪岩
CPC分类号： B44C5/0484 , B44C1/1712 , B44C1/20 , B44C1/227 , C23F1/14
摘要： 本发明提供一种金属板装饰画的制作方法，利用这种方法制作的金属板装饰画不仅具有非平面画的立体感，层次感，而且这种方法采取经过多种工艺步骤处理后的金属板作为材料，制造出来的金属板装饰画更具有金属的质感和震撼效果。且所述金属板作画方法所生产的金属板画，其成本较低，且具有很高的观赏价值。
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公开(公告)号：CN104093810B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201380007749.2
申请日：2013-01-29
申请人： 日立化成株式会社
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/04 , H01L21/321
CPC分类号： H01L21/3212 , B24B37/044 , C09G1/00 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , C09K3/1472 , C23F1/00 , C23F1/14
摘要： 本发明涉及一种金属用研磨液，其用于对具有金属的基板的至少上述金属的一部分进行研磨，该金属用研磨液含有：A成分，包含氨基酸的金属溶解剂；B成分，具有苯并三唑骨架的化合物；和C成分，重均分子量为10,000以上的丙烯酸聚合物，且上述B成分与上述C成分的质量比(B成分∶C成分)为1∶1～1∶5。由此，以更高水平兼顾高研磨速度和低蚀刻速度，从而能够形成可靠性更高的埋设图案。
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公开(公告)号：CN102804345B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201080034414.6
申请日：2010-06-03
申请人： 嘉柏微电子材料股份公司
发明人： S.帕拉尼萨米钦娜萨姆比 , H.西里瓦达尼
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： G11B5/8404 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , C23F1/14 , G11B23/505
摘要： 本发明提供包含α-氧化铝、热解氧化铝、硅石、使镍-磷氧化的氧化剂、络合剂、和水的化学-机械抛光组合物。本发明还提供化学-机械抛光基材的方法，其包括使基材与抛光垫和化学-机械抛光组合物接触、使该抛光垫和抛光组合物相对于该基材移动、和磨蚀该基材的至少一部分以抛光该基材。
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公开(公告)号：CN101791237B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN200910262524.7
申请日：2009-12-29
申请人： 德普伊产品公司
发明人： J·M·爱德华兹
IPC分类号： A61B17/3205
CPC分类号： A61B17/1659 , A61B17/155 , A61B17/157 , A61B17/1615 , A61B17/1668 , A61B2017/00526 , C23F1/14
摘要： 本发明公开了包含整形外科切割工具的整形外科手术器械，所述整形外科手术器械包括被成形用于切除患者部分骨骼的金属切割插件和模制在所述切割插件上的主体。所述金属切割插件包括多个化学蚀刻孔，并且所述主体被模制到所述金属切割插件上，使得所述多个化学蚀刻孔中的每一个都至少部分地被所述主体的一部分填充。所述切割插件可以包括多个被成形用于切除所述患者的部分骨骼的切齿。还公开了制造整形外科手术器械的方法。
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公开(公告)号：CN104907917A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510111674.3
申请日：2015-03-13
申请人： 不二越机械工业株式会社
IPC分类号： B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/04 , B24B57/02 , C23F1/08 , C23F1/12 , C23F1/14 , H01J37/32055 , H01J37/32073 , H01J37/32348 , H01L21/02024 , H01L21/30625 , H01L21/67075 , H01L21/67092 , H01L29/1602 , H01L29/1608 , H01L29/2003
摘要： 本发明提供一种工件研磨方法和工件研磨装置。本发明的方法能够以高研磨效率研磨高硬度工件。该方法包括如下步骤：将工件的表面压在转动研磨板的研磨部上；以及在执行该加压步骤时供给研磨液。该方法的特征在于，将通过气体放电而已经被活性化的活性化气体转变成气泡并混入研磨液中。
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公开(公告)号：CN102016768B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN200980114134.3
申请日：2009-02-26
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马修·H·弗雷 , 迈克尔·J·罗布雷希特 , 乔治·F·扬博尔
CPC分类号： G06F3/044 , C23F1/02 , C23F1/14 , G01R27/2605 , G06F3/0412 , G06F3/045 , G06F2203/04108 , G06F2203/04112
摘要： 本发明涉及一种触屏传感器，所述触屏传感器包括可见光透明基底和导电微图案，所述导电微图案设置在所述可见光透明基底之上或之内。所述微图案包括触摸感测区域内的第一区域微图案，以及第二区域微图案。所述第一区域微图案在第一方向上具有第一薄层电阻值，所述第一区域微图案对可见光透明，并且具有至少90％的开放区域。所述第二区域微图案在所述第一方向上具有第二薄层电阻值。所述第一薄层电阻值不同于所述第二薄层电阻值。
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公开(公告)号：CN104093810A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380007749.2
申请日：2013-01-29
申请人： 日立化成株式会社
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/04 , H01L21/321
CPC分类号： H01L21/3212 , B24B37/044 , C09G1/00 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , C09K3/1472 , C23F1/00 , C23F1/14
摘要： 本发明涉及一种金属用研磨液，其用于对具有金属的基板的至少上述金属的一部分进行研磨，该金属用研磨液含有：A成分，包含氨基酸的金属溶解剂；B成分，具有苯并三唑骨架的化合物；和C成分，重均分子量为10,000以上的丙烯酸聚合物，且上述B成分与上述C成分的质量比(B成分∶C成分)为1∶1～1∶5。由此，以更高水平兼顾高研磨速度和低蚀刻速度，从而能够形成可靠性更高的埋设图案。
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公开(公告)号：CN103985806A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201410233155.X
申请日：2014-05-28
申请人： 马鞍山太时芯光科技有限公司
CPC分类号： H01L33/40 , C23F1/14 , C23F1/20 , C23F1/26 , H01L33/62 , H01L2933/0016 , H01L2933/0066
摘要： 本发明公开了一种LED芯片P面电极、制备P面电极用刻蚀液及P面电极制备方法，属于LED电极制备技术领域。本发明的P面电极包括接触电极和焊线电极，接触电极包括第一镀金层、金铍层和第二镀金层，焊线电极的第一镀钛层厚度为镀铝层的厚度为第二镀钛层的厚度为本发明的刻蚀液包括钛刻蚀液、铝刻蚀液和金刻蚀液，组成简单、配比合理，避免了电极金属层厚度增加造成的湿法刻蚀电极图形变形问题，本发明P面电极的制备方法，对LED芯片P面电极依次进行光刻和湿法刻蚀处理以获得厚度适度增加的焊线电极，工艺简单，重复性好。本发明很好的解决了焊线电极与封装导线之间的虚焊、脱离问题。
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公开(公告)号：CN103025896A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201180031527.5
申请日：2011-06-03
申请人： 新日铁住金株式会社
CPC分类号： C21D8/1294 , C21D6/008 , C21D8/12 , C21D8/1255 , C21D9/46 , C21D2201/05 , C21D2221/00 , C22C1/02 , C22C38/00 , C22C38/001 , C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/06 , C23F1/00 , C23F1/02 , C23F1/14 , C25F3/06 , H01F1/14783 , H01F1/16
摘要： 在通过蚀刻来加工槽时，在冷轧钢板上形成抗蚀膜。此时，在抗蚀膜上形成露出钢板的一部分的钢板露出部，钢板露出部具有朝向板宽方向的第1区域和以所述第1区域为起点的多个第2区域，形成第1区域及第2区域的宽度为20μm～100μm、从第2区域的端部到相邻的第2区域的端部的距离为60μm～570μm的抗蚀膜。
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公开(公告)号：CN102804345A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201080034414.6
申请日：2010-06-03
申请人： 嘉柏微电子材料股份公司
发明人： S.帕拉尼萨米钦娜萨姆比 , H.西里瓦达尼
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： G11B5/8404 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , C23F1/14 , G11B23/505
摘要： 本发明提供包含α-氧化铝、热解氧化铝、硅石、使镍-磷氧化的氧化剂、络合剂、和水的化学-机械抛光组合物。本发明还提供化学-机械抛光基材的方法，其包括使基材与抛光垫和化学-机械抛光组合物接触、使该抛光垫和抛光组合物相对于该基材移动、和磨蚀该基材的至少一部分以抛光该基材。
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